Proceso de moldeo por microtransferencia y sustrato modelado obtenible a partir del mismo.
Proceso que comprende las siguientes etapas sucesivas:
(a) impregnar un molde blando provisto de al menos una cavidad con una capa de sol-gel recubierta sobre un primer sustrato,
en condiciones de una presión de disolvente relativa ajustada de tal manera que la capa se hinche mediante la absorción de vapor entre el 10 y el 60 % en volumen, para rellenar el molde con la acción de fuerzas capilares,
(b) retirar el primer sustrato,
(c) si es necesario, equilibrar el gel dentro de las cavidades del molde, a una presión de disolvente relativa de entre el 0 y el 95 %, con el fin de permitir que se hinche y, por tanto, se rellene por completo dicha al menos una cavidad,
(d) aplicar el gel hinchado sobre un segundo sustrato a modelar,
(e) someter a tratamiento térmico este conjunto para hacer más rígido el gel,
(f) retirar el molde, y
(g) curar el gel hasta dar una cerámica, formando, por tanto, un sustrato modelado.
Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E17305823.
Solicitante: Université d'Aix-Marseille.
Inventor/es: GROSSO,DAVID, BOTTEIN,THOMAS.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
PDF original: ES-2755184_T3.pdf
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