Antorcha para producir plasma a través de un arco eléctrico trifásico.

1. Antorcha para producir plasma a través de un arco eléctrico trifásico,

constituida por tres cámaras de arco asimétricas, unidas en una cámara de mezcla común (1) equipada con una boquilla y un colector (2) de suministro de gas de trabajo, en la que cada cámara de arco comprende: un electrodo cilíndrico (3), provisto de una cubierta (4) y de una terminación cónica o confusor (5), una bobina electromagnética (6) envolvente y unas entradas de suministro de gas de trabajo en el electrodo cilíndrico (3) que generan un remolino principal (7) y un segundo remolino adicional (8), caracterizada porque comprende además un dispositivo de distribución (9) que está conectado a través de tuberías, por un lado al colector (2) de suministro de gas y por el otro lado con las entradas de gas que generan los remolinos adicionales (8) en las cámaras de arco, el cual incluye interiormente un dispositivo de conmutación configurado para cambiar secuencialmente el caudal de gas suministrado a dichos remolinos adicionales (8) de las cámaras de arco.

2. Antorcha, según la reivindicación 1, caracterizada porque el dispositivo de distribución (9) está constituido por un cuerpo cilíndrico, cerrado por sus extremos mediante unas bridas (11), en las que se localizan unos accesos de entrada (12) y de salida (13) de gas, dentro del cual se instala coaxialmente un tabique fijo (14), en forma de disco, con dos aberturas arqueadas (15, 16), opuestas entre sí, sobre cuyo disco (14) se presiona un obturador (18), que dispone de dos cuchillas dispuestas simétricamente en forma de sectores con un ángulo de apertura de 90º, que gira con respecto al disco (14) por medio de un motor eléctrico (20) abriendo y cerrando alternativamente cada una de las aberturas (15, 16) existentes en dicho disco (14).

3. Antorcha, según la reivindicación 2, caracterizada porque las aberturas existentes en el disco (14) son ranuras (15) que ocupan menos de 1/4 de la superficie del disco (14), siendo el cambio en el flujo de gas servido en el remolino adicional (8) durante cada ciclo inferior al 20% del total.

4. Antorcha, según la reivindicación 2, caracterizada porque las aberturas existentes en el disco (14) son un conjunto de orificios (16) que ocupan menos de 1/4 de la superficie del disco (14), siendo el cambio en el flujo de gas servido en el remolino adicional (8) durante cada ciclo inferior al 20% del total.

5. Antorcha, según la reivindicación 2, caracterizada el dispositivo de distribución (9) está conectado a través de una boquilla (12) y una tubería al colector (2) de suministro de gas de trabajo, manteniendo la presión constante, mientras que por el otro lado está conectado a través de la boquilla (13) con cámaras de arco de remolinos adicionales (8).

Tipo: Modelo de Utilidad. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: U201930352.

Solicitante: GESTION DE PROPIEDAD INDUSTRIAL BIBEL, S.L..

Nacionalidad solicitante: España.

Inventor/es: MATEU SERRAVIÑALS, ISMAEL.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H05H1/26 SECCION H — ELECTRICIDAD.H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26). › H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00). › Antorchas de plasma.

PDF original: ES-1227919_U.pdf

 

Patentes similares o relacionadas:

Procedimiento para la fabricación de un sustrato de nitruro de aluminio, del 10 de Abril de 2019, de ALSTOM Transport Technologies: Procedimiento para la fabricación de un sustrato de nitruro de aluminio AIN para su utilización como soporte para componentes electrónicos en aplicaciones […]

APARATO PARA TRATAR RESIDUOS PELIGROSOS Y MÉTODO PARA TRATAR RESIDUOS PELIGROSOS EMPLEANDO DICHO APARATO, del 21 de Marzo de 2019, de ZION ING S.A.S: Aparato comprende reactor pirolítico de plasma, con: cabeza cónica, donde están montados: entradas para residuos peligrosos sólidos, líquidos y gaseosos; […]

Dispositivo robotizado de preparación de superficie por plasma de una pieza termoplástica, del 22 de Octubre de 2014, de RENAULT S.A.S.: Dispositivo robotizado de preparación de superficie por plasma de una pieza termoplástica que incluye, por una parte, unos primeros medios de […]

Procedimiento de elaboración de una diana por proyección térmica, del 6 de Noviembre de 2013, de SAINT-GOBAIN COATING SOLUTIONS: Procedimiento de realización de una diana por proyección térmica, por proyección por plasma por medio de unaantorcha de plasma, incluyendo dicha diana al […]

Procedimiento y horno para fundir chatarra de acero, del 22 de Agosto de 2012, de SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT: Procedimiento para fundir chatarra de acero en un horno, en el que para el suministro de energía de fundición sesopla un gas de trabajo en el […]

REACTOR TERMICO DE PLASMA Y METODO DE TRATAMIENTO DE AGUAS RESIDUALES., del 16 de Agosto de 2001, de ALCAN INTERNATIONAL LIMITED: LA INVENCION SE REFIERE A UN REACTOR PARA EL TRATAMIENTO DE SOLUCIONES DE AGUAS RESIDUALES QUE CONTIENEN CIANUROS Y OTRA MATERIA ORGANICA DISUELTA, CON UN TUBO ELONGADO […]

SOPLETE DE PLASMA., del 16 de Junio de 1999, de PLASMA SCORPION SCHNEIDEN UND SCHWEISSEN AKTIENGESELLSCHAFT: LA ANTORCHA DE VAPOR/PLASMA DE ARCO ELECTRICO TIENE UN ALOJAMIENTO QUE ACOMODA COAXIALMENTE DISPUESTOS EN EL MISMO UN ANODO DE BOQUILLA Y UN CATODO HECHO DE FORMA RAPIDA EN UN […]

DISPOSITIVO Y PROCEDIMIENTO PARA REVESTIR UN COMPONENTE CON DISPOSITIVO DE AJUSTE, del 20 de Agosto de 2010, de SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT: Dispositivo de revestimiento con una fuente de material de revestimiento , en el cual puede ser incorporado y puede ser revestido un componente […]

Otras patentes de GESTION DE PROPIEDAD INDUSTRIAL BIBEL, S.L.