Instalación de vacío, en particular instalación de plasma, con un perfil extrudido de cámara completamente cerrado.

Instalación de vacío (10) con una cámara de vacío (12), en la que el lado exterior de la cámara de vacío (12) que discurre paralelamente al eje longitudinal central de cámara de vacío (28) está formado de una sola pieza de un perfil extrudido de cámara (22,

70), caracterizada por que el perfil extrudido de cámara (22, 70) está formado de manera completamente cerrada transversalmente al eje longitudinal central de cámara de vacío (28) y presenta una puerta en el lado frontal reversible que se puede abrir y cerrar, presentando la cámara de vacío (12) en un lado frontal una puerta (16) pivotante que se puede abrir y cerrar, presentando el perfil extrudido de cámara (22, 70) en su lado exterior un saliente de bisagra (42, 44) que discurre paralelamente al eje longitudinal central de cámara de vacío (28) y en el que está dispuesta una bisagra (18, 20) para la unión pivotante entre puerta (16) y perfil extrudido de cámara (22, 70).

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2015/065968.

Solicitante: Diener, Christof-Herbert.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: Lindenstrasse 59 72202 Nagold ALEMANIA.

Inventor/es: DIENER,CHRISTOF-HERBERT.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • A61L2/14 NECESIDADES CORRIENTES DE LA VIDA.A61 CIENCIAS MEDICAS O VETERINARIAS; HIGIENE.A61L PROCEDIMIENTOS O APARATOS PARA ESTERILIZAR MATERIALES U OBJECTOS EN GENERAL; DESINFECCION, ESTERILIZACION O DESODORIZACION DEL AIRE; ASPECTOS QUIMICOS DE VENDAS, APOSITOS, COMPRESAS ABSORBENTES O ARTICULOS QUIRURGICOS; MATERIALES PARA VENDAS, APOSITOS, COMPRESAS ABSORBENTES O ARTICULOS QUIRURGICOS (conservación de cuerpos o desinfección caracterizada por los agentes empleados A01N; conservación, p. ej. esterilización de alimentos o productos alimenticios A23; preparaciones de uso medico, dental o para el aseo A61K). › A61L 2/00 Procedimientos o aparatos para desinfectar o esterilizar materiales u objetos distintos a los productos alimenticios y a las lentes de contacto; Sus accesorios (pulverizadores de desinfectantes A61M; esterilización de envases o del contenido del envase asociado a su contenedor B65B 55/00; tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla C02F; desinfección del papel D21H 21/36; dispositivos de desinfección para retretes E03D; artículos que incluyen accesorios para la desinfección, ver las subclases apropiadas para estos artículos, p. ej. H04R 1/12). › Plasma, es decir gases ionizados.
  • H01J37/16 ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos o ampollas; Recipientes.
  • H01J37/32 H01J 37/00 […] › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).
  • H01L21/67 H01 […] › H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › Aparatos especialmente adaptados para el manejo de dispositivos semiconductores o eléctricos de estado sólido durante su fabricación o tratamiento; Aparatos especialmente adaptados para el manejo de obleas durante la fabricación o tratamiento de dispositivos o componentes semiconductores o eléctricos de estado sólido.

PDF original: ES-2670703_T3.pdf

 

Patentes similares o relacionadas:

Dispositivo de ablación por chispas y procedimiento de generación de nanopartículas, del 17 de Junio de 2020, de VSParticle Holding B.V: Un dispositivo de ablación por chispas de generación de nanopartículas provisto de una entrada/salida para el gas y que comprende un generador de chispas […]

Dispositivo de recubrimiento por plasma post-descarga para sustratos con forma de alambre, del 29 de Abril de 2020, de Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST): Dispositivo de recubrimiento de plasma post-descarga para un sustrato con forma de alambre , que comprende: - un electrodo tubular interno sobre una pared tubular […]

Sistema de capa de vacío y tratamiento con plasma, y procedimiento para recubrir un sustrato, del 26 de Febrero de 2020, de VAPOR TECHNOLOGIES, INC: Un sistema de tratamiento con plasma y recubrimiento de vacío que comprende: un conjunto de plasma dispuesto de modo tal que mira a un sustrato […]

Proceso de plasma y reactor para el tratamiento termoquímico de la superficie de piezas metálicas, del 19 de Febrero de 2020, de Universidade Federal De Santa Catarina (UFSC): Proceso para el tratamiento superficial termoquímico de piezas metálicas, en un reactor (R) de plasma que tiene una cámara de reacción (RC) […]

Fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma y un procedimiento de fabricación de un artículo por el uso de la fuente de plasma, del 19 de Febrero de 2020, de AGC Inc: Una fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma, que comprende: un grupo de electrodos que incluye cuatro electrodos, que son un primer electrodo […]

Dispositivo de revestimiento para el revestimiento de un sustrato, así como un procedimiento para el revestimiento de un sustrato, del 15 de Enero de 2020, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento […]

Fuente de evaporación por arco, del 18 de Diciembre de 2019, de KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.): Una fuente de evaporación por arco, incluyendo: un blanco a fundir y evaporar de una superficie de extremo delantero (3a) del blanco […]

Método para el revestimiento de un sustrato con una capa de polímero, del 11 de Diciembre de 2019, de EUROPLASMA NV: Un método para revestir un sustrato con una capa de polímero, donde dicho método comprende la localización de un primer juego de electrodos (14, […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .