DERIVADOS DE OXIMA Y SU USO COMO ACIDOS LATENTES.
Los compuestos de la fórmula I, II y III, en donde R{sub,1} por ejemplo es hidrógeno,
alquilo C{sub,1}-C{sub,12}, cicloalquilo C{sub,3}-C{sub,30}, alquenilo C{sub,2}-C{sub,12}, cicloalquenilo C{sub,4}-C{sub,8}, fenilo, el cual no se encuentra sustituido o se encuentra sustituido, naftilo, antracilo o fenantrilo, no sustituido o sustituido, radical heteroarilo el cual no se encuentra sustituido o se encuentra sustituido; en donde todos los radicales R{sub,1} a excepción del hidrógeno, pueden ser sustituidos adicionalmente por un grupo que presente un enlace - O-C- ó un enlace -O-Si- el cual se escinde bajo la acción de un ácido; R'{sub,1} es por ejemplo fenileno, naftileno, difenileno u oxidifenileno, en donde estos radicales se encuentran no sustituidos o sustituidos; R{sub,2} es halógeno o haloalquilo C{sub,1}-C{sub,10}; R{sub,3} es por ejemplo alquilsulfonilo C{sub,1}-C{sub,18}, fenilsulfonilo, naftilsulfonilo, antracilsulfonilo o fenantrilsulfonilo, en donde los grupos se encuentran no sustituidos o sustituidos, ó R{sub,3} es por ejemplo haloalcanoílo C{sub,2}-C{sub,6}, halobenzoílo, R'{sub,3} es por ejemplo fenilendisulfonilo, naftilendisulfonilo, difenilendisulfonilo u oxidifenilendisulfonilo , en donde estos radicales se encuentran no sustituidos o sustituidos, X es halógeno; son especialmente adecuados como donadores de ácido fotosensibles en formulaciones resistentes amplificadas de forma química.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: CIBA SPECIALITY CHEMICAL HOLDING INC.
Nacionalidad solicitante: Suiza.
Dirección: KLYBECKSTRASSE, 141,BASEL.
Inventor/es: OHWA,MASAKI, TANABE,JUNICHI, YAMATO,HITOSHI, ASAKURA,TOSHIKAGE, BRIBAUM,JEAN-LUC, DIETLINKER,KURT.
Fecha de Solicitud: 30 de Marzo de 2000.
Fecha de Publicación: .
Fecha de Concesión: 12 de Septiembre de 2003.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C07C251/62 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07C COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos macromoleculares C08; producción de compuestos orgánicos por electrolisiso electroforesis C25B 3/00, C25B 7/00). › C07C 251/00 Compuestos que contienen átomos de nitrógeno, unidos por enlaces dobles a una estructura carbonada (compuestos diazo C07C 245/12). › con átomos de oxígeno de grupos oxiimino esterificados.
- C07C309/65 C07C […] › C07C 309/00 Acidos sulfónicos; Sus halogenuros, ésteres o anhídridos. › de una estructura carbonada saturada.
- C07C317/32 C07C […] › C07C 317/00 Sulfonas; Sulfóxidos. › con grupos sulfona o sulfóxido unidos a átomos de carbono de ciclos aromáticos de seis miembros de la estructura carbonada.
- G03F7/004 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
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