Composición líquida resistente a soldadura y tarjeta de circuitos impresos revestida.
Una composición líquida resistente a soldadura que comprende:
una resina que contiene grupos carboxilo;
un compuesto fotopolimerizable que contiene al menos un compuesto seleccionado a partir de un grupo que consiste en un monómero fotopolimerizable y un prepolímero fotopolimerizable;
un iniciador de fotopolimerización;
un dióxido de titanio; y
un compuesto que tiene una estructura de éter cíclico,
conteniendo el dióxido de titanio tanto un dióxido de titanio-rutilo fabricado según el método del ácido sulfúrico y un dióxido de titanio-rutilo fabricado según el método del cloro,
estando el dióxido de titanio-rutilo fabricado según el método del ácido sulfúrico comprendido en un intervalo de 30 a 400 partes en masa con respecto a 100 partes en masa de un total de la resina que contiene grupos carboxilo, el compuesto fotopolimerizable y el compuesto que tiene una estructura de éter cíclico, y
siendo el dióxido de titanio-rutilo fabricado según el método del cloro mayor o igual a 5 partes en masa y menor de 50 partes en masa, con respecto a 100 partes en masa de un total de la resina que contiene grupos carboxilo, el compuesto fotopolimerizable, y el compuesto que tiene una estructura de éter cíclico.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2014/006158.
Solicitante: GOO CHEMICAL CO., LTD..
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 58 Ijiri, Iseda-cho Uji-shi, Kyoto 611-0043 JAPON.
Inventor/es: SAKAI,YOSHIO, HIGUCHI,MICHIYA, HAMADA,NOBUHITO, MIYAKE,TOKUZAN.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/004 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
- G03F7/029 G03F 7/00 […] › Compuestos inorgánicos; Compuestos de onio; Compuestos orgánicos que contienen heteroátomos diferentes del oxígeno, nitrógeno o azufre.
- G03F7/031 G03F 7/00 […] › Compuestos orgánicos no cubiertos por el grupo G03F 7/029.
- G03F7/033 G03F 7/00 […] › siendo los aglutinantes polímeros obtenidos por reacciones que hagan intervenir únicamente enlaces insaturados carbono-carbono, p. ej. polímeros vinílicos.
PDF original: ES-2673878_T3.pdf
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