Copolímeros para composiciones de revestimiento sensibles a radiación en el infrarrojo cercano para planchas de impresión litográfica térmicas positivas.

Un copolímero que tiene la estructura general:**Fórmula**

en la que

a,

b y d son relaciones molares que varían entre 0,01 y 0,90 y c es una relación molar que varía entre 0 y 0,90, A1 representa unidades monoméricas que comprenden un grupo colgante que contiene ciano en el que el ciano no está fijado directamente a la estructura básica del copolímero,

A2 representa unidades monoméricas que comprenden dos o más sitios de unión a hidrógeno;

A3 representa unidades monoméricas que aumentan la solubilidad en disolventes orgánicos y que comprenden un grupo alquilo o arilo colgante, estando el arilo eventualmente sustituido con alquilo; y

A4 representa unidades monoméricas que aumentan la solubilidad en soluciones acuosas alcalinas y que comprenden un grupo colgante que comprende un grupo funcional ácido,

y en la que A2 es de fórmula:**Fórmula**

o

en las que:

R es hidrógeno, metilo o etilo,

R1 está ausente o representa de uno a cuatro sustituyentes alquilo, comprendiendo los sustituyentes alquilo opcionalmente uno o más grupos funcionales éter, éster, amina, amida, urea, piperazinilo, sulfonamida o carbamato, U2 está ausente o representa un enlazador de amida o éster,

V2 está ausente o representa alquilo que opcionalmente comprende uno o más grupos funcionales éter, éster, amina, amida, urea, piperazinilo, sulfonamida o carbamato y

Y es - SO2-NH-R2,**Fórmula**

en las que R2, cada vez que aparece, es independientemente hidrógeno o alquilo que opcionalmente comprende uno o más grupos funcionales éter, éster, amina, amida, urea, piperazinilo, sulfonamida o carbamato.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/CA2010/001401.

Solicitante: Mylan Group.

Nacionalidad solicitante: Viet Nam.

Dirección: B1 LongDuc Industrial Park Travinh City Travinh Province Viet Nam VIET NAM.

Inventor/es: NGUYEN, MY, T., LOCAS,Marc,André, PHAN,AKHA, NGUYEN-TRUONG,VIET-THU.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B41C1/055 SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS.B41C PROCESOS DE FABRICACION O DE REPRODUCCION DE SUPERFICIES DE IMPRESION (procesos fotomecánicos para producir superficies de impresión G03F; procesos fotoeléctricos para producir superficies de impresión G03G). › B41C 1/00 Preparación de la forma o del cliché. › Procedimientos termográficos para la producción de formas (B41C 1/02 tiene prioridad).
  • B41C1/10 B41C 1/00 […] › para la impresión litográfica; Hojas matriz para la transferencia de una imagen litográfica a la forma (B41C 1/055 tiene prioridad; neutralización o tratamientos similares de diferenciación de formas de impresión litográfica B41N 3/08).
  • C08F212/14 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES.C08F COMPUESTOS MACROMOLECULARES OBTENIDOS POR REACCIONES QUE IMPLICAN UNICAMENTE ENLACES INSATURADOS CARBONO - CARBONO (producción de mezclas de hidrocarburos líquidos a partir de hidrocarburos de número reducido de átomos de carbono, p. ej. por oligomerización, C10G 50/00; Procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para la síntesis de un compuesto químico dado o de una composición dada, o para la separación de isómeros ópticos a partir de una mezcla racémica C12P; polimerización por injerto de monómeros, que contienen uniones insaturadas carbono-carbono, sobre fibras, hilos, hilados, tejidos o artículos fibrosos hechos de estas materias D06M 14/00). › C08F 212/00 Copolímeros de compuestos que tienen uno o más radicales alifáticos insaturados, teniendo solamente cada uno un enlace doble carbono-carbono, y estando al menos uno terminado por un ciclo carbocíclico aromático. › sustituido por heteroátomos o grupos que contienen heteroátomos.
  • C08F220/10 C08F […] › C08F 220/00 Copolímeros de compuestos que tienen uno o más radicales alifáticos insaturados, teniendo solamente cada uno un enlace doble carbono-carbono, y estando solamente terminado por un radical carboxi o una sal, anhídrido, éster, amida, imida o nitrilo del mismo. › Esteres.
  • C08F220/36 C08F 220/00 […] › que contienen oxígeno en adición al oxígeno del carboxi.
  • C08F220/38 C08F 220/00 […] › Esteres que contienen azufre.
  • C08F220/54 C08F 220/00 […] › Amidas.
  • C09D133/14 C […] › C09 COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.C09D COMPOSICIONES DE REVESTIMIENTO, p. ej. PINTURAS, BARNICES, LACAS; EMPLASTES; PRODUCTOS QUIMICOS PARA LEVANTAR LA PINTURA O LA TINTA; TINTAS; CORRECTORES LIQUIDOS; COLORANTES PARA MADERA; PRODUCTOS SOLIDOS O PASTOSOS PARA ILUMINACION O IMPRESION; EMPLEO DE MATERIALES PARA ESTE EFECTO (cosméticos A61K; procedimientos para aplicar líquidos u otros materiales fluidos a las superficies, en general B05D; coloración de madera B27K 5/02; vidriados o esmaltes vitreos C03C; resinas naturales, pulimento francés, aceites secantes, secantes, trementina, per se , C09F; composiciones de productos para pulir distintos del pulimento francés, cera para esquíes C09G; adhesivos o empleo de materiales como adhesivos C09J; materiales para sellar o guarnecer juntas o cubiertas C09K 3/10; materiales para detener las fugas C09K 3/12; procedimientos para la preparación electrolítica o electroforética de revestimientos C25D). › C09D 133/00 Composiciones de revestimiento a base de homopolímeros o copolímeros de compuestos con uno o varios radicales alifáticos insaturados, con un solo enlace doble carbono-carbono y uno al menos terminado por un solo radical carboxilo, o sus sales, anhídridos, ésteres, amidas, imidas o nitrilos; Composiciones de revestimiento a base de derivados de tales polímeros. › ésteres que contienen átomos de halógeno, nitrógeno, azufre u oxígeno además del oxígeno del radical carboxilo.
  • G03F7/00 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
  • G03F7/004 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).

PDF original: ES-2570379_T3.pdf

 

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