Polímeros con grupos terminales amino y su uso como aditivos para baños galvanoplásticos de zinc y de aleaciones de zinc.
(11/03/2020) Baño electrolítico para la electrodeposición de una capa de zinc o de aleación de zinc, en donde el baño electrolítico contiene un polímero con la siguiente Fórmula I
A -[-L-A-]n-L-A (I)
en donde A representa una unidad que se deriva de un compuesto diamino de una de las siguientes Fórmulas II a VII
**(Ver fórmula)**
en donde
X e Y pueden ser en cada caso iguales o diferentes y representan O o NR, en donde R es H o alquilo C1-C6, Z puede ser en cada caso igual o diferente y representa O o S,
R1, R2, R5 y R6 pueden ser en cada caso iguales o diferentes y representan un radical hidrocarbonado sustituido o no sustituido que tiene de 1 a 10 átomos de carbono, y
R3, R4, R8 pueden ser en cada caso iguales o diferentes y representan (CH2)p, en donde p representa un número entero de 2 a 12, o un grupo -[CH2CH2O]n-CH2CH2-,…
Baño de recubrimiento para deposición no electrolítica de capas de níquel.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad
(05/11/2018). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C23C18/34, C23C18/50, H01L21/288.
Una composición para baño acuoso de recubrimiento para la deposición no electrolítica de níquel y de aleaciones níquel, comprendiendo el baño de recubrimiento:
(i) una fuente de iones de níquel,
(ii) al menos un agente complejante seleccionado del grupo que consiste en aminas, ácidos carboxílicos, ácidos hidroxicarboxílicos, ácidos aminocarboxílicos y sales de los compuestos mencionados anteriormente,
(iii) al menos un agente reductor seleccionado de hipofosfito, amina-boranos, borohidruros, hidrazina y formaldehído,
(iv) un agente estabilizante según la fórmula :
en donde X se selecciona de entre O y NR4 , n varía de 1 a 6, m varía de 1 a 8; R1 , R2 , R3 y R4 se seleccionan independientemente entre hidrógeno y alquilo C1 a C4; Y se selecciona entre -SO3R5 , -CO2R5 y -PO3R5 2, y R5 se
selecciona entre hidrógeno, alquilo C1-C4 y un contraión adecuado, y en donde la concentración del agente estabilizante según la fórmula oscila entre 0,02 y 5,0 mmol/l.
PDF original: ES-2688547_T3.pdf
Aditivo de electrogalvanoplastia para la deposición de una aleación de un metal del grupo IB/binaria o ternaria del grupo IB-grupo IIIA/ternaria, cuaternaria o quinaria del grupo IB, el grupo IIIA-grupo VIA.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad
(22/02/2017). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C07C335/16, C25D3/58, H01L31/032, C25D3/38, H01L31/06.
Una composición metálica de galvanoplastia que comprende una especie de galvanoplastia del grupo IB y una especie de galvanoplastia del grupo IIIA caracterizada por comprender, además, un aditivo de fórmula general (A):**Fórmula**
en donde X1 y X2 pueden ser iguales o diferentes y se seleccionan del grupo constituido por arileno y heteroarileno; FG1 y FG2 pueden ser iguales o diferentes o se seleccionan del grupo constituido por -S(O)2OH, - S(O)OH, -COOH, -P(O)2OH y grupos amino primarios, secundarios y terciarios y sales y ésteres de los mismos; R se selecciona del grupo constituido por alquileno, arileno o heteroarileno y
n y m son números enteros entre 1 y 5.
PDF original: ES-2624637_T3.pdf
Baño galvánico de electrodeposición de níquel o aleación de níquel para depositar un níquel semibrillante o aleación de níquel, método de electrodeposición y uso de tal baño y compuestos para el mismo.
(05/10/2016) Baño galvánico de electrodeposición con níquel o aleación de níquel para depositar un revestimiento de níquel semibrillante o aleación de níquel caracterizado porque el baño de electrodeposición comprende al menos un compuesto que tiene la fórmula general (I)**Fórmula**
en la que R1 ≥ un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un grupo SO3 -, un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un grupo carboxílico, o un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un al menos un grupo aromático y/o un grupo heteroaromático;
R2 ≥ un resto NR3R4, un resto OR5, o un resto cíclico NR6, en donde
R3, R4, R5 ≥ hidrógeno o un resto de…
Composiciones de baño de chapado para el chapado no electrolítico de metales y aleaciones metálicas.
(22/06/2016) Un baño de chapado no electrolítico para la deposición de cobre, níquel, cobalto o sus aleaciones que comprende por lo menos una fuente de iones metálicos y por lo menos un agente reductor, caracterizado por el hecho de que el baño de chapado no electrolítico comprende además un modificador de la velocidad de chapado según la fórmula (I)**Fórmula**
en la que los restos monovalentes de R1 a R2, el grupo terminal Y y un grupo separador divalente Z y un índice n se seleccionan de los siguientes grupos
- R1 se selecciona del grupo que consiste en -O-R3 y -NH-R4 en la que R3 se selecciona de hidrógeno, litio, sodio, potasio, rubidio, cesio, amonio, alquilo, arilo, y R4 se selecciona de hidrógeno, alquilo y arilo;
- R2 se selecciona del grupo que consiste en hidrógeno,…
BAÑO CON CONTENIDO EN PIROFOSFATO PARA LA DEPOSICIÓN EXENTA DE CIANURO DE ALEACIONES DE COBRE Y ESTAÑO.
(14/03/2011) Baño con contenido en pirofosfato para la deposición exenta de cianuro de aleaciones de cobre y estaño sobre superficies de sustrato, que comprende un producto de reacción de una monoamina secundaria con un diglicidiléter, en donde la monoamina secundaria es morfolina y el diglicidiléter se elige del grupo consistente en gliceroldiglicidiléter, poli(prolipenglicol)diglicidiléter, poli(etilenglicol)diglicidiléter y mezclas de los mismos
MEZCLAS DE COLORANTES AZUL MARINO Y NEGRO, MÉTODO PARA SU PRODUCCIÓN Y USO PARA TEÑIR MATERIAL CON GRUPOS HIDROXI.
(09/03/2011) Mezclas de colorantes a la tina para teñidos de matices estables, en tonos entre azul marino y negro que comprenden negro a la tina IC 9 y, al menos, uno de azul a la tina IC 18, azul a la tina IC 19, azul a la tina IC 22, azul a la tina IC 6 y también derivados halogenados de 16,17-dialquildibenzantrona, violeta a la tina IC 13, rojo a la tina IC 10, rojo a la tina IC 23, rojo a la tina IC 31, rojo a la tina IC 54, negro a la tina IC 20 y, opcionalmente, negro a la tina IC 65
BAÑO BASADO EN PIROFOSFATO PARA LA DEPOSICION DE CAPAS DE ALEACIONES DE ESTAÑO.
(11/06/2010) Baño electrolítico acuoso libre de cianuro para la deposición de capas de aleaciones de estaño sobre superficies de sustratos que comprende
(i)una fuente de iones estaño y una fuente para otro elemento de aleación, caracterizado porque además contiene
(ii)N-metilpirrolidona
MEZCLA DE COMPUESTOS OLIGOMERICOS DE FENAZINIO Y BAO ACIDO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE UN REVESTIMIENTO DE COBRE.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/06/2009). Ver ilustración. Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: C25D3/38, C25D7/12.
Una mezcla de compuestos oligoméricos de fenazinio que contiene por lo menos un compuesto de fenazinio, seleccionado de entre el grupo que comprende #a) compuestos que contienen dos unidades monoméricas que tienen la siguiente fórmula química general <I>: **(Ver fórmula)** y #b) compuestos que contienen tres unidades monoméricas que tienen la siguiente fórmula química general <II> **(Ver fórmula)** así como otros compuestos oligoméricos de fenazinio adicionales, en donde, en las anteriormente mencionadas fórmulas químicas <I> y <II>, la unidad de estructura N(R 5/50 /50 0 )CC(R 4/40 /40 0 )C (R (3/30 /30 0 ) tiene una de las fórmulas químicas generales <IIIa> ó <IIIb>: **(Ver fórmula)**.
BAO ACIDO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE UN DEPOSITO DE COBRE QUE CONTIENE COMPUESTOS DE FENAZINIO MONOMEROS HALOGENADOS O SEUDOHALOGENADOS.
(01/11/2008) Compuestos de fenazinio monoméricos halogenados o seudohalogenados de una pureza por lo menos del 85% molar que tienen la fórmula química general siguiente: (Ver fórmula) en la que R 1 , R 2 , R 4 , R 6 , R 7 ¿, R 7 ¿, R 8 y R 9 se eligen con independencia entre sí entre el grupo formado por hidrógeno, halógeno, amino, aminoalquilo, hidroxi, ciano, tiocianato, isotiocianato, cianato, isocianato, mercapto, carboxi, sus sales, ésteres de ácidos carboxílicos, sulfo, sus sales, ésteres de ácidos sulfónicos, alquilo C1-C4, arilo sin sustituir, arilo sustituido, heteroarilo y heterorradicales alicíclicos, R 5 se elige entre el grupo formado por alquilo C1-C4, arilo sin sustituir, arilo sustituido y heteroarilo, X es halógeno o a seudohalógeno y A- es un anión ácido,…
COMPOSICIONES DE TRATAMIENTO DEL CABELLO.
Sección de la CIP Necesidades corrientes de la vida
(16/12/2006). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Clasificación: A61K7/06, A61K8/06, A61Q5/12, A61K8/895.
Una composición para el tratamiento del cabello que comprende gotitas discretas, caracterizada porque las gotitas, dentro de la misma gota, comprenden: (i) una silicona funcionalizada seleccionada entre siliconas amino-, carboxi-, betaína-, amonio cuaternario-, carhidrato-, hidroxi- y alcoxi-substituida; y (ii) un aceite hidrocarburado; en la que las gotitas discretas comprenden al menos 5% en peso de silicona funcionalizada y al menos 5% en peso de aceite hidrocarburado expresados como un porcentaje del peso total de las gotitas.
