BAO ACIDO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE UN DEPOSITO DE COBRE QUE CONTIENE COMPUESTOS DE FENAZINIO MONOMEROS HALOGENADOS O SEUDOHALOGENADOS.
Compuestos de fenazinio monoméricos halogenados o seudohalogenados de una pureza por lo menos del 85% molar que tienen la fórmula química general siguiente:
(Ver fórmula) en la que R 1 , R 2 , R 4 , R 6 , R 7 ¿, R 7 ¿, R 8 y R 9 se eligen con independencia entre sí entre el grupo formado por hidrógeno, halógeno, amino, aminoalquilo, hidroxi, ciano, tiocianato, isotiocianato, cianato, isocianato, mercapto, carboxi, sus sales, ésteres de ácidos carboxílicos, sulfo, sus sales, ésteres de ácidos sulfónicos, alquilo C1-C4, arilo sin sustituir, arilo sustituido, heteroarilo y heterorradicales alicíclicos, R 5 se elige entre el grupo formado por alquilo C1-C4, arilo sin sustituir, arilo sustituido y heteroarilo, X es halógeno o a seudohalógeno y A- es un anión ácido, con la condición de que, si X es halógeno, los compuestos de fenazinio se eligen entre el grupo formado por: i) la sal 3-cloro-7-N,N-dimetilamino-2-metil-5-fenil-fenazinio, ii) la sal 3-bromo-7-N,N-dimetilamino-2-metil-5-fenil-fenazinio y iii) la sal 3-bromo-7-N,N-dietilamino-5-fenil-fenazinio.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: ERASMUSSTRASSE 20,10553 BERLIN.
Inventor/es: BRUNNER, HEIKO, DAHMS, WOLFGANG, GRIESER, UDO.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 7 de Mayo de 2008.
Clasificación PCT:
- C07D241/46 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › C07D 241/00 Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de diazina-1,4 o diazina-1,4 hidrogenada. › Fenazinas.
- C25D3/38 C […] › C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS. › C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › de cobre.
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