(01/03/2007) Esclusa de estanqueidad para una cámara de depósito bajo vacío sobre una banda, preferentemente metálica, en paso continuo , que presenta una tapa inferior y una tapa superior amovibles, que comprende una pluralidad de pares de rodillos metálicos (10, 10’; 11, 11’, …) entre los cuales pasa la banda y mantenidos en una cuna (40, 40’; 41, 41’;…) fijada a la tapa que le está enfrentada con una separación que define una primera fuga, definiendo dos pares de rodillos sucesivos cualesquiera una subcámara (20, 21, 22, …) mantenida a una presión determinada, inferior a la presión atmosférica, por un grupo de bombeo conectado a dicha cámara, caracterizada porque: - los rodillos están montados sobre unos cojinetes (30, 30’, …) solidarios…

(16/11/2006) Método de deposición de película para formar una película esparciendo un material de deposición desde una superficie de un material seleccionado y depositando el material de deposición esparcido sobre una superficie de un sustrato , comprendiendo el método: - una fase que consiste en disponer dicho sustrato y dicho material seleccionado de manera que la superficie de dicho sustrato forme ángulo con la superficie del material seleccionado ; y - una fase de deposición que consiste en formar dicha película sobre dicho sustrato de manera que el área de la superficie de dicha película aumenta continuamente en dirección bidimensional, mientras que al mismo tiempo la posición relativa de dicho sustrato se desplaza…

(16/04/2005) Dispositivo (V) para la introducción y/o extracción continua de recipientes , en particular botellas de plástico, dentro de o desde un recinto de tratamiento , con por lo menos un rotor de exclusas con accionamiento de giro, que presenta en su perímetro exterior cámaras de exclusa abiertas hacia el exterior, con por lo menos una pareja de ruedas en estrella cuyas ruedas de estrella están separadas entre sí en la dirección periférica del rotor de exclusa, y están equipadas con dispositivos de agarre y sujeción para los recipientes situados en las cámaras de exclusa y en las ruedas en estrella , que colaboran entre sí para la entrega de los recipientes,…

(16/04/2004) Aparato para aplicar al menos un revestimiento a objetos por medio de deposición en fase vapor (PVD) al vacío, que comprende: – un dispositivo de PVD para revestir el objeto al vacío; – al menos una cámara intermedia que separa el dispositivo de PVD del ambiente; – un dispositivo de transporte que se extiende a través del dispositivo de PVD y hacia dentro de la cámara intermedia; – en el que el dispositivo de transporte está destinado a transportar objetos dispuestos sobre portadores; – el dispositivo de PVD está destinado a tratamiento semicontinuo de objetos dispuestos sobre los portadores; – un dispositivo de pretratamiento para realizar un pretratamiento en el objeto; – un dispositivo de postratamiento para postratar los objetos;…

(01/04/2004) Un procedimiento para revestir ambas caras de un único panel de vidrio de una sola pasada a través de un aparato de revestimiento que comprende: proporcionar una lámina de vidrio que tiene una superficie interior limpia y una superficie exterior limpia ; proporcionar una línea de pulverización que comprende al menos una cámara de pulverización (200; 300a- c) teniendo la línea de pulverización un soporte para contener una lámina de vidrio , teniendo la línea de pulverización un blanco superior (220a, 220b; 320a, 320b) colocado por encima del soporte y un blanco inferior (260; 320c, 320d, 320e, 320f) colocado por debajo del soporte ; colocar…

(16/02/2004) EN UN PROCEDIMIENTO PARA EL REVESTIMIENTO PROTECTOR DE LAS CAPAS DE AZOGAMIENTO DE REFLECTORES DE FAROS MEDIANTE POLIMERIZACION DE PLASMA, EN EL QUE UNA PRIMERA CAPA PROTECTORA APLICADA SOBRE LA CAPA DE AZOGAMIENTO MEDIANTE POLIMERIZACION DE PLASMA DE UN COMPUESTO DE SILICIO ORGANICO EN UNA CAMARA DE VACIO, SE RECUBRE EN LA SIGUIENTE ETAPA DEL PROCESO, UTILIZANDO UN PLASMA Y MANTENIENDO EL VACIO EN LA MISMA CAMARA DE PROCESO, CON UNA SEGUNDA CAPA HIDROFILA COMPUESTA BASICAMENTE DE UN ESQUELETO PRINCIPAL DE HIDROCARBURO ENLAZADO A GRUPOS FUNCIONALES POLARES, SE UTILIZA UN DISPOSITIVO QUE PRESENTA VARIAS UNIDADES DE PROCESO , SOPORTADAS POR UNA PARED DE CAMARA DE VACIO CILINDRICA FIJA, Y UN CILINDRO DE PARED INTERIOR ARTICULADO, QUE SOPORTA CUATRO CAMARAS DE SUSTRATO (12 A 15)…

(01/12/2003) LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO Y UNA PLANTA PARA LA FABRICACION DE UNA CAPA ABSORBENTE CON SELECTIVIDAD ESPECTRAL SOBRE COLECTORES SOLARES QUE PRESENTAN UNA ELEVADA CAPACIDAD DE ABSORCION SOLAR Y UNA BAJA EMITANCIA TERMICA. DICHO PROCEDIMIENTO SE LLEVA A CABO SOBRE UN MATERIAL RECEPTOR MOVIL, ATOMIZANDO METAL EN UNA ZONA DE REVESTIMIENTO , PRESENTE EN UNA CAMARA, UTILIZANDO UNA ATMOSFERA DE PULVERIZACION CATODICA, QUE CONTIENE AL MENOS UN GAS UTILIZADO PARA LA PULVERIZACION CATODICA, PREFERIBLEMENTE ARGON (AR) Y UN GAS REACTIVO, PREFERIBLEMENTE OXIGENO (O). EL METAL FORMA EL CATODO Y EL MATERIAL RECEPTOR FORMA EL ANODO, ENTRE LOS CUALES SE OBTIENE UNA DIFERENCIA DE POTENCIAL Y POR TANTO UN PLASMA, CON LO CUAL SE PRODUCE…

(16/06/2003) Un aparato para el tratamiento en línea de producción de artículos en una atmósfera artificial, comprendiendo dicho aparato: - al menos una cámara de trabajo en vacío provista de medios de tratamiento para procesar los artículos ; - medios para mantener la atmósfera artificial en dicha cámara de trabajo en vacío ; - esclusas en los extremos de la cámara de trabajo en vacío ; - medios de transporte para transportar los artículos a través de al menos una cámara de trabajo en vacío y las esclusas ; - dispositivos de carga y descarga en la atmósfera ambiental; y - medios de transporte ; en el que cada una de las esclusas comprende un cuerpo movible instalado dentro de cascos herméticos , cada uno de estos cuerpos comprende…

(16/06/2003) Instalación de recubrimiento a vacío con al menos: - una cámara de distribución central que se puede evacuar con una disposición de transporte de piezas de trabajo accionada controlada esencialmente a lo largo de un plano; - al menos una cámara de control para las cámaras de distribución así como al menos dos cámaras de tratamiento para producto a tratar, cuyas al menos tres cámaras se comunican a través de aberturas de control con la cámara de distribución, a través de cuyas aberturas se pueden transportar piezas de trabajo desde una cámara a la otra por medio de la disposición de transporte, caracterizada porque - están presentes soportes de piezas…

(16/05/2002) LA INVENCION TRATA DE UN DISPOSITIVO DE TRATAMIENTO AL VACIO PARA APLICAR CAPAS FINAS SOBRE SUSTRATOS (36 A 38), CON VARIAS CAMARAS DE TRATAMIENTO (DE 8 A 11) FIJAS EN SU SITIO, SUJETAS POR LA PARED LATERAL EN FORMA DE ANILLO O BASTIDOR DE LA CAMARA DE VACIO , CON UNAS ABERTURAS DE LA CAMARA DE TRATAMIENTO (DE 4 A 7) QUE SE EXTIENDEN PERIFERICAMENTE HACIA ADENTRO, HACIA EL CENTRO DE LA CAMARA DE VACIO , EN PLANOS PARALELOS UNO CON RESPECTO AL OTRO. EN UN DISPOSITIVO DE ESTE TIPO HAY PREVISTO UN ARBOL ALOJADO EN LA TAPA DE LA CAMARA DE VACIO Y/O EN LA PLACA DE BASE DE LA CAMARA DE VACIO DE LA CAMARA DE VACIO Y QUE SE EXTIENDE EN PARALELO A LOS PLANOS DE LAS ABERTURAS; EL ARBOL MUEVE LAS PLACAS (23 A 26) PARA CERRAR LAS ABERTURAS DE LA CAMARA…

(01/09/2001) Dispositivo para el recubrimiento a vacío de cojinetes de fricción con al menos una capa intermedia y al menos una capa de fricción, que consta de una serie de cámaras de vacío, que están yuxtapuestas y que están separadas por válvulas de vacío o etapas de presión, donde al menos una cámara de vacío sirve como cámara de esclusas para la introducción de los cojinetes de fricción no recubiertos y/o para la descarga de los cojinetes de fricción recubiertos al y desde el vacío, respectivamente, donde al menos otra cámara de vacío sirve para el tratamiento previo de los cojinetes de fricción no recubiertos a través de un proceso de plasma y al menos una cámara de vacío, respectivamente, para la aplicación de la capa intermedia y de la capa de fricción, de bombas de vacío que están conectadas con las cámaras de vacío, de dispositivos de alimentación de corriente…

(16/07/2000) EN UNA INSTALACION DE TRATAMIENTO AL VACIO PARA LA APLICACION DE CAPAS DELGADAS SOBRE SUSTRATOS CON FORMA DE CUBETA (2,2', ), CON VARIAS ESTACIONES DE TRATAMIENTO Y ESCLUSAS SOPORTADAS POR UNA PARED DE CAMARA DE VACIO CILINDRICO-CIRCULAR FIJA DE LA CAMARA DE VACIO, POR LO DEMAS CERRADA, Y CON UN CILINDRO DE PARED INTERIOR Y APOYO GIRATORIO, RODEADO POR LA PARED DE LA CAMARA DE VACIO, QUE SOPORTA LAS CAMARAS DE SUSTRATO (3 A 6), EN DONDE EN LA PARED DE LA CAMARA DE VACIO SE HAN PREVISTO ABERTURAS CON LAS QUE PUEDEN PONERSE A CUBIERTO LAS CAMARAS DE SUSTRATO (3 A 6) Y A TRAVES DE LAS CUALES LOS MEDIOS DE TRATAMIENTO PUEDEN ACTUAR EN LOS SUSTRATOS (2, 2', ), Y CON UNA PARED EXTERIOR (16, 16', ) QUE ENCIERRA DESDE FUERA LA PARED DE LA CAMARA…

(16/05/2000) LA INVENCION TRATA DE UN DISPOSITIVO EN PARTICULAR PARA UN EVAPORADOR DE DESCARGA EN ARCO DE VACIO INDUCIDO POR LASER PARA DEPOSITAR MULTIPLES CAPAS CON ELEVADA PUREZA Y ELEVADAS TASAS DE DEPOSICION SOBRE PIEZAS DE GRAN TAMAÑO. DE ACUERDO CON LA INVENCION SE ENCUENTRA LA ALIMENTACION DEL MATERIAL PARA EL MATERIAL DE RECUBRIMIENTO EN UNA CAMARA DE ALIMENTACION, QUE SE PUEDE SEPARAR Y SE PUEDE DEJAR AL VACIO DE MANERA ESTANCA CON RESPECTO A LA CAMARA DE RECUBRIMIENTO, EN LA CUAL SE ENCUENTRA SITUADO EL SUSTRATO QUE SE VA A RECUBRIR. EL EVAPORADOR PUEDE, EN PARTICULAR, UTILIZARSE PARA LA DEPOSICION DE CAPAS DE CARBONO AMORFO QUE NO LLEVAN HIDROGENO Y…

(01/10/1998) EN UNA INSTALACION DE RECUBRIMIENTO DE VACIO PARA LA APLICACION DE CAPAS DELGADAS SOBRE SUBSTRATO (3,3',...), CON UNA CAMARA DE ENTRADA, AL MENOS UNA OTRA CAMARA PARA EL TRATAMIENTO DEL SUBSTRATO (3,3',...) Y CON UNA CAMARA DE SALIDA ASI COMO CON UN EQUIPO DE TRANSPORTE DISPUESTO EN UNA CAMARA DE TRANSPORTE EVACUABLE PARA EL TRANSPORTE DEL SUBSTRATO (3,3',...) A TRAVES DE LAS CAMARAS , SE HA PREVISTO UN EQUIPO DE TRANSPORTE, QUE ESTA DISPUESTO ALREDEDOR DE UN EJE CONJUNTO, Y MUESTRA SOPORTES OSCILABLES ALREDEDOR DE ESTE EJE. EN AL MENOS DOS POSICIONES, ES DECIR EN UNA POSICION DE ENTRADA Y SALIDA Y EN UNA POSICION DE TRATAMIENTO SE DISPONE DE SOPORTES RESPECTIVAMENTE CON UN MOVIMIENTO DE DESPLAZAMIENTO…

(16/12/1997) EN UN APARATO PARA UN REVESTIMIENTO DE BOBINA EN VACIO, UNOS ELEMENTOS DE EVAPORACION TIENEN VARIOS ORIFICIOS DE SALIDA SEPARADOS A TRAVES DE LOS CUALES, SE TRANSPORTA EL VAPOR A UNA ZONA DE DEPOSICION EN LA SUPERFICIE DE UN TAMBOR GIRATORIO ENDURECIDO EN UNA CAMARA DE VACIO Y SOBRE EL CUAL, SE AVANZA LA BOBINA DE SUSTRATO MEDIANTE UN SISTEMA DE TRANSPORTE DE BOBINAS. EL DISPOSITIVO DE ORIFICIOS DE SALIDA COMPRENDE DE FORMA VENTAJOSA, VARIAS RANURAS LINEALES DISPUESTAS TRANSVERSALMENTE A LA TRAYECTORIA DEL SUSTRATO DE BOBINA PARA DISTRIBUIR EL VAPOR EN POSICIONES COLOCADAS SECUENCIALMENTE EN LA DIRECCION DE AVANCE DEL SUSTRATO DE BOBINA; LAS SALIDAS DE LOS ORIFICIOS ESTAN COLOCADAS ALREDEDOR DE UNA SUPERFICIE ARQUEADA PERO SEPARADA DE LA SUPERFICIE CURVA DEL TAMBOR GIRATORIO.…

(16/10/1997) UN EVAPORADOR PARA GENERAR VAPOR POR DEPOSICION COMO REVESTIMIENTO SOBRE UN SUSTRATO DE BOBINA EN UN PROCESO DE REVESTIMIENTO DE BOBINA DE VACIO COMPRENDE UNOS ELEMENTOS DE EVAPORACION COMPUESTOS DE ELEMENTOS DE SALIDA DE VAPOR A TRAVES DE LOS CUALES SE TRANSPORTA EL MATERIAL DE REVESTIMIENTO DESDE LOS ELEMENTOS Y SE DEPOSITA SOBRE EL SUSTRATO . LOS ELEMENTOS DE EVAPORACION COMPRENDEN ADEMAS UNOS ELEMENTOS MEDIANTE LOS CUALES SE PUEDE SUMINISTRAR UN GAS INERTE A LOS ELEMENTOS PARA ATENUAR LA EVAPORACION DEL MATERIAL Y/O ENFRIAR LOS MISMOS. POR ELLO, LA EVAPORACION PUEDE SER RAPIDAMENTE INTERRUMPIDA PARA PERMITIR LA RECOLOCACION DEL SUSTRATO Y/O DEL MATERIAL DE REVESTIMIENTO. EL GAS INERTE PUEDE RECIRCULARSE VENTAJOSAMENTE A TRAVES DE LOS ELEMENTOS DE REFRIGERACION Y ALGUNO O TODOS LOS GASES…

(01/02/1997) EN UN METODO PARA PREPARA UNA PANTALLA Y/O ANILLO DE APRIETE PREVIO AL USO EN UN PROCESO DE DEPOSICION DE VAPOR FISICO, LA PANTALLA Y/O ANILLO DE APRIETE SE INYECTA PRIMERO EN ESCORIA UTILIZANDO UN POLVO ABRASIVO, A CONTINUACION SE TRATA EN UNA CAMARA DE LIMPIEZA ULTRASONICA PARA ELIMINAR PARTICULAS SUELTAS Y DESPUES UN CHISPORROTEADO CON ACIDO O TRATATO CON UN PLASMA. EL CHISPORROTEO O EL TRATAMIENTO DE PLASMA SIRVE A SOLTAR CONTAMINACION QUE PUEDE FORMAR UNA BARRERA DE DIFUSION Y PREVENIR LOS DEPOSITOS A PARTIR DE EL ENLACE DE LA PANTALLA Y TAMBIEN SIRVE PARA HACER ASPERA LA SUPERFICIE DE LA PANTALLA Y/O EL ANILLO…