Fuente de plasma.

Dispositivo de generación de plasma, comprendiendo

una fuente de plasma con cuerpo hueco fuente de plasma (1) y una unidad de emisión de electrones (5) que hace posible emitir electrones libres en el cuerpo hueco fuente de plasma (1),

en donde el cuerpo hueco fuente de plasma (1) presenta una primera entrada de gas (7a) y una abertura de fuente de plasma (10) que forma una abertura que lleva a una cámara de vacío,

así como un ánodo con cuerpo hueco de ánodo (2), en donde el cuerpo hueco de ánodo (2) presenta una segunda entrada de gas (7b) y una abertura de ánodo (11),

y una fuente de tensión (8) cuyo polo negativo está unido con la unidad de emisión de electrones (5) y cuyo polo positivo está unido con el cuerpo hueco de ánodo (2), en donde el polo positivo de la fuente de tensión (8) esta unido eléctricamente adicionalmente con el cuerpo hueco fuente de plasma (1) a través de una primera resistencia en paralelo (6a); caracterizado por que la abertura de ánodo (11) forma una abertura que lleva a la cámara de vacío.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2013/003704.

Solicitante: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon.

Nacionalidad solicitante: Suiza.

Dirección: Churerstrasse 120 8808 Pfäffikon SUIZA.

Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED, HAGMANN,JUERG.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H01J37/32 SECCION H — ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).

PDF original: ES-2625301_T3.pdf

 

  • Fb
  • Twitter
  • G+
  • 📞

Patentes similares o relacionadas:

Instalación de vacío, en particular instalación de plasma, con un perfil extrudido de cámara completamente cerrado, del 24 de Mayo de 2017, de Diener, Christof-Herbert: Instalación de vacío con una cámara de vacío , en la que el lado exterior de la cámara de vacío que discurre paralelamente al eje longitudinal central de cámara […]

Aparato generador de plasma y procedimiento de fabricación de dispositivos con patrones usando procesamiento de plasma resuelto espacialmente, del 1 de Marzo de 2017, de TOTAL S.A.: Aparato generador de plasma para fabricar dispositivos con patrones que comprende: - una cámara de reactor de plasma; - un conjunto de alimentación de […]

Procedimiento de tratamiento por microondas de una carga, del 22 de Febrero de 2017, de Sairem Societe Pour L'application Industrielle De La Recherche En Electronique Et Micro Ondes: Procedimiento de tratamiento por microondas de una carga, que comprende las siguientes etapas: - generar por lo menos una onda electromagnética en el campo de las microondas […]

Procedimiento de tratamiento de superficie de al menos una pieza mediante fuentes elementales de plasma por resonancia ciclotrónica electrónica, del 1 de Febrero de 2017, de H.E.F: Procedimiento de tratamiento de superficie de al menos una pieza mediante fuentes elementales de plasma por resonancia ciclotrónica electrónica, […]

Sistema de plasma, del 1 de Febrero de 2017, de Alytus Corporation, S.A: Un sistema de plasma para la deposición química de vapor asistida por plasma, comprendiendo el sistema: una cámara de vacío , al menos dos electrodos, un sustrato, y una […]

Dispositivo y método para el tratamiento superficial con plasma, del 28 de Diciembre de 2016, de MASCHINENFABRIK REINHAUSEN GMBH: Dispositivo para el tratamiento con plasma de superficies de al menos una pieza , que comprende: • al menos una fuente de plasma que va unida a una fuente […]

Bloque de extremo para diana giratoria con conexión eléctrica entre colector y rotor a presión inferior a la presión atmosférica, del 23 de Noviembre de 2016, de Guardian Europe S.à.r.l: Un aparato de pulverización catódica que comprende: una diana de pulverización catódica cilíndrica giratoria ; al menos un bloque […]

CAPA DE MATERIAL DURO, del 22 de Febrero de 2012, de OERLIKON TRADING AG, TRUBBACH: Una capa de material duro como una capa de PVD de arco con conglomerados reaccionados de manera incompleta que forman las partes metálicas […]

‹‹ Procesos cromatográficos

Elemento conector para barra perfilada, barra perfilada y estructura conectora de barra perfilada ››