Fuente de evaporación en vacío de arco voltaico, así como una cámara de evaporación en vacío de arco voltaico con una fuente de evaporación en vacío de arco voltaico.

Fuente de evaporación en vacío de arco voltaico, que comprende una fuente de campo magnético (2) en forma de anillo y un cuerpo de cátodo (3) con un material de evaporación (31) como cátodo (32) para la generación de una descarga de arco voltaico sobre una superficie de evaporación (33) del cátodo (32),

en la que el cuerpo del cátodo (3) está limitado en una primera dirección axial por un fondo del cátodo (34) y en una segunda dirección axial por la superficie de evaporación (33) en dirección axial, y la fuente de campo magnético en forma de anillo (2) está polarizada paralela o antiparalela a una normal superficial (300) de la superficie de evaporación (33) y está dispuesta concéntricamente a la normal superficial (300) de la superficie de evaporación (33), en la que un anillo de amplificación del campo magnético (4) está dispuesto sobre un lado alejado de la superficie de evaporación a una segunda distancia predeterminada (A2) delante del fondo del cátodo (34), caracterizada porque un diámetro interior (DI) del anillo de amplificación del campo magnético (4) es aproximadamente 3 %, en particular hasta 10 %, con preferencia hasta 15 %, especialmente hasta 50 % de un diámetro del cátodo (32) y el anillo de amplificación del campo magnético comprende una pluralidad de imanes permanentes alineados esencialmente paralelos a la normal superficial.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2008/052844.

Solicitante: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon.

Nacionalidad solicitante: Suiza.

Dirección: Churerstrasse 120 8808 Pfäffikon SUIZA.

Inventor/es: VETTER, JORG, DR..

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H01J37/32 ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).

PDF original: ES-2575119_T3.pdf

 

Patentes similares o relacionadas:

Dispositivo de ablación por chispas y procedimiento de generación de nanopartículas, del 17 de Junio de 2020, de VSParticle Holding B.V: Un dispositivo de ablación por chispas de generación de nanopartículas provisto de una entrada/salida para el gas y que comprende un generador de chispas […]

Dispositivo de recubrimiento por plasma post-descarga para sustratos con forma de alambre, del 29 de Abril de 2020, de Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST): Dispositivo de recubrimiento de plasma post-descarga para un sustrato con forma de alambre , que comprende: - un electrodo tubular interno sobre una pared tubular […]

Sistema de capa de vacío y tratamiento con plasma, y procedimiento para recubrir un sustrato, del 26 de Febrero de 2020, de VAPOR TECHNOLOGIES, INC: Un sistema de tratamiento con plasma y recubrimiento de vacío que comprende: un conjunto de plasma dispuesto de modo tal que mira a un sustrato […]

Proceso de plasma y reactor para el tratamiento termoquímico de la superficie de piezas metálicas, del 19 de Febrero de 2020, de Universidade Federal De Santa Catarina (UFSC): Proceso para el tratamiento superficial termoquímico de piezas metálicas, en un reactor (R) de plasma que tiene una cámara de reacción (RC) […]

Fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma y un procedimiento de fabricación de un artículo por el uso de la fuente de plasma, del 19 de Febrero de 2020, de AGC Inc: Una fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma, que comprende: un grupo de electrodos que incluye cuatro electrodos, que son un primer electrodo […]

Dispositivo de revestimiento para el revestimiento de un sustrato, así como un procedimiento para el revestimiento de un sustrato, del 15 de Enero de 2020, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento […]

Fuente de evaporación por arco, del 18 de Diciembre de 2019, de KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.): Una fuente de evaporación por arco, incluyendo: un blanco a fundir y evaporar de una superficie de extremo delantero (3a) del blanco […]

Método para el revestimiento de un sustrato con una capa de polímero, del 11 de Diciembre de 2019, de EUROPLASMA NV: Un método para revestir un sustrato con una capa de polímero, donde dicho método comprende la localización de un primer juego de electrodos (14, […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .