Composición de resina fotosensible, capa fotosensible de la misma y plancha original de impresión de resina fotosensible.
Una composición de resina fotosensible que comprende (A) polímeros hidrófobos obtenidos a partir de al menos dos o más látex de dispersión en agua,
(B) un compuesto fotopolimerizable, (C) un iniciador de fotopolimerización y (D) un polímero hidrófilo, en la que dichos dos o más polímeros hidrófobos están presentes cada uno en un estado de partícula fina, y
en la que la distribución de diámetro de partícula de las partículas finas del componente (A) tiene dos o más picos y la proporción de los diámetros de partícula respectivos en los picos es 2 veces o más, y
en la que al menos un polímero hidrófobo del componente (A) y el polímero hidrófilo del componente (D) tienen una estructura de cadena principal común.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2004/004981.
Solicitante: TOYOBO CO., LTD..
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku Osaka-shi, Osaka 530-8230 JAPON.
Inventor/es: WADA, TORU, HIRAMATSU,TOMONORI, TOMITA,AKIRA.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/033 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › siendo los aglutinantes polímeros obtenidos por reacciones que hagan intervenir únicamente enlaces insaturados carbono-carbono, p. ej. polímeros vinílicos.
PDF original: ES-2564146_T3.pdf
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