Método para fabricar placa de impresión flexográfica y placa de impresión flexográfica.
Un método para la fabricación de una placa de impresión flexográfica,
que se caracteriza por que se prepara, un líquido que contiene un compuesto de silicona modificado con amino para entrar en contacto con una placa de impresión flexográfica que contiene un látex que tiene un grado de gelificación de no menos del 50% en masa, en donde se utiliza un compuesto de silicona modificado con amino que tiene un equivalente de grupos amino de no menos de 500 g/mol.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2010/073294.
Solicitante: TOYOBO CO., LTD..
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku Osaka-shi, Osaka 530-8230 JAPON.
Inventor/es: MOTOI, KEIICHI, YOSHIMOTO,KAZUYA.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- B41N1/12 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41N CLICHES O PLACAS DE IMPRESION (materiales fotosensibles G03 ); MATERIALES PARA SUPERFICIES UTILIZADAS EN LA IMPRESION PARA IMPRIMIR, ENTINTAR, MOJAR O SIMILAR; PREPARACION DE TALES SUPERFICIES PARA SU EMPLEO O SU CONSERVACION. › B41N 1/00 Clichés o placas de impresión; Materiales a este efecto. › en otra materia diferente a la piedra o al metal.
- B41N3/00 B41N […] › Preparación para el empleo o la conservación de superficies de impresión.
- G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
- G03F7/033 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › siendo los aglutinantes polímeros obtenidos por reacciones que hagan intervenir únicamente enlaces insaturados carbono-carbono, p. ej. polímeros vinílicos.
- G03F7/40 G03F 7/00 […] › Tratamiento tras la eliminación según la imagen, p. ej. esmaltado.
PDF original: ES-2665942_T3.pdf
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