Composición de resina fotosensible para una plancha original de impresión flexográfica.
Una composición de resina fotosensible para una plancha original de impresión flexográfica,
caracterizada por que la composición contiene (A) polímeros hidrófobos obtenidos a partir de al menos dos tipos de látices dispersables en agua, (B) un caucho para comunicar elasticidad de caucho a la composición de resina fotosensible, (C) un compuesto fotopolimerizable y (D) un iniciador de fotopolimerización y que la relación en masa del componente (B) frente a la masa total del componente (A) y el componente (B) está dentro del intervalo de 1 a 7 %.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2013/065532.
Solicitante: TOYOBO CO., LTD..
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 2-8 Dojima Hama 2-chome Kita-ku Osaka-shi, Osaka 530-8230 JAPON.
Inventor/es: YAWATA,YUKIMI, YAMADA,HIROTO.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
- G03F7/004 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
- G03F7/033 G03F 7/00 […] › siendo los aglutinantes polímeros obtenidos por reacciones que hagan intervenir únicamente enlaces insaturados carbono-carbono, p. ej. polímeros vinílicos.
- G03F7/095 G03F 7/00 […] › teniendo más de una capa fotosensible (G03F 7/075 tiene prioridad).
- G03F7/11 G03F 7/00 […] › con capas de recubrimiento o capas intermedias, p. ej. capas de anclaje.
PDF original: ES-2617805_T3.pdf
Patentes similares o relacionadas:
Procedimiento y dispositivo para producir un objeto multicelular tridimensional, del 29 de Julio de 2020, de TECHNISCHE UNIVERSITAT BERLIN: Procedimiento para producir un objeto multicelular tridimensional, con los pasos siguientes:
a) introducción de un primer líquido fotopolimerizable […]
Aparato para marcar substratos discretos con un sello flexible discreto, del 11 de Septiembre de 2019, de Morphotonics Holding B.V: Un aparato para el marcado sobre un substrato discreto con un sello flexible discreto que comprende a) al menos un primer sello flexible rectangular que tiene […]
Proceso de moldeo por microtransferencia y sustrato modelado obtenible a partir del mismo, del 11 de Septiembre de 2019, de Université d'Aix-Marseille: Proceso que comprende las siguientes etapas sucesivas: (a) impregnar un molde blando provisto de al menos una cavidad con una capa de sol-gel recubierta sobre […]
CREACIÓN DE LENTES REGRABABLES, del 29 de Agosto de 2019, de INDIZEN OPTICAL TECHNOLOGIES OF AMERICA, LLC: Se describen procedimientos para la configuración de lentes. Un procedimiento incluye el borrado de una lente calentando la lente a una temperatura de borrado definida y grabando […]
Método para mejorar el rendimiento de impresión en placas de impresión flexográfica, del 21 de Agosto de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método de adaptación de la forma de una pluralidad de puntos de impresión en relieve creados en una preforma de impresión fotosensible durante un proceso de producción de […]
Formulación de fotopolímero para la producción de medios holográficos con polímeros de matriz altamente reticulados, del 24 de Junio de 2019, de Covestro Deutschland AG: Formulación de fotopolímero que comprende un componente de poliol, un componente de poliisocianato, un monómero de escritura y un fotoiniciador que contiene un coiniciador […]
Composición de resina fotosensible para una placa original de impresión en relieve y una placa original de impresión en relieve obtenida a partir de la misma, del 12 de Junio de 2019, de TOYOBO CO., LTD.: Una composición de resina fotosensible para una placa original de impresión en relieve que contiene como ingredientes esenciales poliamida soluble en agua o […]
Laca de estampado y procedimiento de estampado, del 5 de Junio de 2019, de Joanneum Research Forschungsgesellschaft mbH: Laca de estampado basada en una composición prepolimérica polimerizable UV que contiene por lo menos un monómero de acrilato, caracterizada […]