SISTEMAS POLICICLICOS DE TIAZOL Y SU USO COMO ANOREXICOS.
Compuestos de la **fórmula**, en donde Y significa -CH2-; X significa un enlace directo,
CH2; R1 significa F, Cl, Br, I, CF3, CN, COOH, COO-alquilo (C1- C6), CONH2, CONH-alquilo (C1-C6), CON[alquilo (C1- C6)]2, alquilo (C1-C6), alquenilo (C2-C6), alquinilo (C2-C6), OCF3, O-alquilo (C2-C6), pudiendo estar reemplazados en los radicales alquilo, alquenilo y alquinilo uno, varios o todos los hidrógenos por flúor, o un hidrógeno puede estar reemplazado por OH, CN, NH2; NH2, NH-alquilo (C1-C6), N(alquilo (C1-C6))2, fenilo, O-(CH2)n-fenilo, pudiendo ser n = 0 - 6, 1- ó 2- naftilo, 2-, 3- ó 4-piridilo, 2- ó 3-furanilo ó 2- ó 3- tienilo, pudiendo estar sustituidos los anillos de fenilo, naftilo, piridilo, furanilo o tienilo, en cada caso una a 3 veces, con F, Cl, Br, I, OH, CF3, NO2, CN, OCF3, O-alquilo (C1-C6), alquilo (C1-C6), NH2, NH- alquilo (C1-C6), N(alquilo (C1-C6))2, SO2-CH3, COOH, COO-alquilo (C1-C6), CONH2; R1' significa H o R1; R2 significa alquilo (C1-C8), cicloalquilo (C3-C7), alquenilo (C2-C6), alquinilo (C2-C6), C(CN)=C(CH3)2, C(O)OCH2CH3, CH2-O-C(O)-C(CH3)3, cicloalquenilo (C4- C7), pudiendo estar reemplazados en los radicales alquilo, uno, varios o todos los hidrógenos por flúor, o un hidrógeno puede estar reemplazado por OH, CN o alquilo (C1-C4); (CH2)n-NR6R7, pudiendo ser n = 1 - 6 y R6 y R7, independientemente uno de otro, pueden ser H, alquilo (C1-C6), cicloalquilo (C3-C6), CO-alquilo (C1-C6), CHO o CO-fenilo; (CH2)n-arilo, pudiendo ser n = 0 - 6 y arilo puede ser fenilo, bifenililo, 1- ó 2-naftilo, 2-, 3- ó 4- piridilo, benzotiazol-2-ilo, indol-3-ilo, indol-5-ilo, 2- ó 3-furanilo ó 2- ó 3-tienilo, en donde los anillos de fenilo, bifenililo, naftilo, piridilo, furanilo o tienilo pueden estar sustituidos, en cada caso una hasta 3 veces, con F, Cl, Br, I, OH, CF3, NO2, CN, OCF3, O-alquilo (C1-C6), alquilo (C1-C6), NH2, NH- alquilo (C1-C6), N-(alquilo (C1-C6))2, SO2-CH3, COOH, COO-alquilo (C1-C6), CONH2; así como sus sales fisiológicamente tolerables.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: AVENTIS PHARMA DEUTSCHLAND GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: INDUSTRIEPARK HICHST,65926 FRANKFURT AM MAIN.
Inventor/es: GEISEN, KARL, LANG, HANS-JOCHEN, BICKEL, MARTIN, JIHNE, GERHARD.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 5 de Febrero de 2000.
Fecha Concesión Europea: 25 de Mayo de 2005.
Clasificación Internacional de Patentes:
- A61K31/425 NECESIDADES CORRIENTES DE LA VIDA. › A61 CIENCIAS MEDICAS O VETERINARIAS; HIGIENE. › A61K PREPARACIONES DE USO MEDICO, DENTAL O PARA EL ASEO (dispositivos o métodos especialmente concebidos para conferir a los productos farmacéuticos una forma física o de administración particular A61J 3/00; aspectos químicos o utilización de substancias químicas para, la desodorización del aire, la desinfección o la esterilización, vendas, apósitos, almohadillas absorbentes o de los artículos para su realización A61L; composiciones a base de jabón C11D). › A61K 31/00 Preparaciones medicinales que contienen ingredientes orgánicos activos. › Tiazoles.
- C07D277/60 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › C07D 277/00 Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de tiazol-1,3 o tiazol-1,3 hidrogenado. › condensados con ciclos o sistemas cíclicos carbocíclicos.
- C07D277/84 C07D 277/00 […] › Naftotiazoles.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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