PROCESO DE REVELADO DE NEGATIVO Y PLACA DE IMPRESION DE POSITIVO Y CREACION DE IMAGEN EN UN SOLO PASO.
SE HAN DESCUBIERTO UN PRECURSOR DE PLACA DE IMPRESION LITOGRAFICA Y UN PROCESO PARA SU UTILIZACION A TRAVES DE LOS QUE IMAGENES EN POSITIVO Y NEGATIVO PUEDEN SER REPRODUCIDAS POR IMPRESION SOBRE EL PRECURSOR DE LA PLACA EN MENOS PASOS DE REVELADO.
LA PLACA DEL PRECURSOR SE EXPONE SECUENCIALMENTE AL ORIGINAL POSITIVO O NEGATIVO, CON LA IMAGEN RESULTANTE SIENDO REVELABLE SUBSECUENTEMENTE EN UN SOLO PASO O PROCESO DE REVELADO. EL PROCESO SE LLEVA A CABO USANDO UNA PLACA DE PRECURSOR QUE TIENE DOS CAPAS DE SENSIBILIDAD FOTOGRAFICA A LA LUZ SIGNIFICANTEMENTE DIFERENTES. P.EJ.: VELOCIDAD CARACTERIZADA COMO VELOCIDAD DE CAMARA O VELOCIDAD DE CONTACTO Y EXPOSICION DE LOS ORIGINALES COMO IMAGENES EN SECUENCIA A VELOCIDADES ALTERNANTES. LA CAPA DE VELOCIDAD DE CONTACTO PUEDE SER DE TRABAJO EN NEGATIVO O DE TRABAJO EN POSITIVO MIENTRAS LA CAPA DE VELOCIDAD DE CAMARA ES DE TRABAJO EN NEGATIVO. LA CAPA DE VELOCIDAD DE CAMARA SED REVELA SEGUIDA POR LA EXPOSICION DE LA CAPA DE VELOCIDAD DE CONTACTO. LAS IMAGENES PRODUCIDAS A VELOCIDAD DE CAMARA SE RETIRAN Y LAS PARTES QUE NO LLEVAN IMAGENES DE LA CAPA DE VELOCIDAD DE CONTACTO SE RETIRAN. LAS ZONAS DONDE QUEDAN IMAGENES QUE CORRESPONDEN A LOS ORIGINALES POSITIVOS Y NEGATIVOS SE TRATAN PARA PROPORCIONAR IMAGENES EN POSITIVO IMPRIMIBLES.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: SUN CHEMICAL CORPORATION.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 222 BRIDGE PLAZA SOUTH,FORT LEE, NJ 07024.
Inventor/es: SHIMAZU, KEN-ICHI, HALLMAN, ROBERT, W., ADELMAN, MICHAEL W., HONG, SUCK-JU, WAXMAN, BURTON H.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 24 de Julio de 1996.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/095 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › teniendo más de una capa fotosensible (G03F 7/075 tiene prioridad).
Patentes similares o relacionadas:
Plancha de impresión flexográfica con eficacia de curado mejorada, del 14 de Agosto de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método para elaborar un elemento de impresión de imágenes en relieve que comprende una pluralidad de puntos de impresión en relieve, comprendiendo el […]
Composición reveladora para plancha de impresión, revelador y método para fabricación de plancha de impresión, del 23 de Enero de 2019, de TOYOBO CO., LTD.: Una composición reveladora para una plancha de impresión que contiene (a) sal de metal alcalino de ácido graso saturado que tiene un número de carbonos de 12 a 18 y (b) sal […]
Aparato y método para desarrollar térmicamente elementos de impresión fotosensibles, del 7 de Septiembre de 2016, de MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC: Un sistema para formar una imagen en relieve en un elemento de impresión fotosensible , donde el elemento de impresión fotosensible incluye un sustrato flexible […]
Método para conformar un diseño metálico sobre un sustrato, del 27 de Abril de 2016, de MACDERMID, INCORPORATED: Un método para producir un diseño metálico sobre un sustrato que comprende las etapas de: a) proporcionar una primera película fotosensible sobre el sustrato; […]
Composición de resina fotosensible para una plancha original de impresión flexográfica, del 17 de Febrero de 2016, de TOYOBO CO., LTD.: Una composición de resina fotosensible para una plancha original de impresión flexográfica, caracterizada por que la composición contiene (A) polímeros hidrófobos obtenidos a […]
Procedimiento para producir un molde de impresión, del 11 de Febrero de 2015, de SPGPrints B.V: Procedimiento para producir un molde de impresión, en el que - a una primera capa de laca fotosensible (4') sensible a la radiación dispuesta sobre un tamiz (1') de […]
Una plancha original de impresión flexográfica, del 2 de Julio de 2014, de TOYOBO CO., LTD.: Una plancha original de impresión flexográfica, que es una plancha original de impresión fotosensible donde al menos (A) un elemento de soporte, […]
Una placa original de impresión flexográfica fotosensible, del 3 de Mayo de 2013, de TOYOBO CO., LTD.: Una placa original de impresión flexográfica fotosensible que incluye al menos (A) un miembro de soporte, (B) una capa de resina fotosensible, (C) una capa protectora […]