Una placa original de impresión flexográfica fotosensible.

Una placa original de impresión flexográfica fotosensible que incluye al menos (A) un miembro de soporte,

(B) una capa de resina fotosensible, (C) una capa protectora y (D) una capa de enmascaramiento sensible al calor que son sucesivamente estratificadas, en que la capa de enmascaramiento sensible al calor (D) contiene negro de carbono y, como un aglutinante de dispersión para el mismo, una resina de butiral así como una poliamida que contiene un grupo polar seleccionada entre el grupo que consiste en poliamida que contiene un grupo amino terciario, poliamida que contiene un grupo de sal de amonio cuaternario, poliamida que contiene un grupo éter y poliamida que contiene un grupo sulfónico.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2008/003613.

Solicitante: TOYOBO CO., LTD..

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku Osaka-shi Osaka 530-8230 JAPON.

Inventor/es: MOTOI, KEIICHI, WADA, TORU, YOSHIMOTO,KAZUYA, KAWAKAMI,TETSUMA, MUNEKUNI,YASUYUKI, YAWATA,YUKIMI.

Fecha de Publicación: 3 de Mayo de 2013.

Clasificación Internacional de Patentes:

B41N1/12 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41N CLICHES O PLACAS DE IMPRESION (materiales fotosensibles G03 ); MATERIALES PARA SUPERFICIES UTILIZADAS EN LA IMPRESION PARA IMPRIMIR, ENTINTAR, MOJAR O SIMILAR; PREPARACION DE TALES SUPERFICIES PARA SU EMPLEO O SU CONSERVACION. › B41N 1/00 Clichés o placas de impresión; Materiales a este efecto. › en otra materia diferente a la piedra o al metal.
G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F7/095 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › teniendo más de una capa fotosensible (G03F 7/075 tiene prioridad).
G03F7/20 G03F 7/00 […] › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).

PDF original: ES-2402440_T3.pdf

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