Composición reveladora para plancha de impresión, revelador y método para fabricación de plancha de impresión.

Una composición reveladora para una plancha de impresión que contiene (a) sal de metal alcalino de ácido graso saturado que tiene un número de carbonos de 12 a 18 y (b) sal de metal alcalino de ácido graso insaturado que tiene un número de carbonos de 12 a 18 en una relación en peso de 20:

80 a 80:20 en términos de (a):(b).

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2011/080006.

Solicitante: TOYOBO CO., LTD..

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 2-8 Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi Osaka 530-8230 JAPON.

Inventor/es: YAWATA,YUKIMI, YOSHIOKA,DAIKI.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/00 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
  • G03F7/095 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › teniendo más de una capa fotosensible (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • G03F7/32 G03F 7/00 […] › Composiciones líquidas a este efecto, p. ej. reveladores.

PDF original: ES-2718101_T3.pdf

 

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