(28/02/2014) Procedimiento de deposición de nanopartículas metálicas por deposición física en fase de vapor y procedimiento de generación de rugosidades. Procedimiento de deposición de nanopartículas metálicas en todo tipo de sustratos por pulverización catódica, donde porque la deposición se realiza a una densidad de potencia entre 0.2-5 W/cm2 a una presión entre 60 y 180 Pa, en presencia de un gas noble. Gracias del procedimiento de la invención es posible depositar nanopartículas sobre cualquier tipo de substrato (polímeros, fibras, silicio...), a bajas temperaturas, en particular a temperatura ambiente, sin limitaciones en el área de deposición y sin restricciones en cuanto al tiempo en el cual se realiza el depósito. Tras la deposición, invirtiendo la polaridad, se pueden realizar rugosidades de escala nanométrica en el sustrato.

(06/11/2013) Procedimiento de realización de una diana por proyección térmica, por proyección por plasma por medio de unaantorcha de plasma, incluyendo dicha diana al menos un compuesto elegido entre los metales refractarios, losóxidos resistivos, los óxidos volátiles caracterizado porque se proyecta por proyección térmica sobre al menos unaporción de superficie de la diana, al menos una fracción de dicho compuesto en forma de una composición de polvode dicho compuesto, bajo atmósfera controlada, y porque se utilizan chorros enfriadores criogénicos potentesdirigidos hacia la diana durante su construcción y repartidos alrededor de la antorcha de plasma.

(21/08/2013) Un proceso para revestir un substrato con un acabado cromado estable e uniforme, comprendiendo dicho proceso la secuencia siguiente: a) proporcionar un substrato; b) preparar una superficie de dicho substrato; c) aplicar un revestimiento de base; d) aplicar una primera capa metálica estabilizadora a dicho substrato por medio de una deposición con vapor a vacío, comprendiendo dicha primera capa metálica una mezcla de 50-80% de Níquel y 50-20% de cromo; y e) aplicar una segunda capa metálica sobre dicha primera capa metálica por medio de un método de deposición con vapor a vacío, estando dicha segunda capa metálica por aproximadamente 99% de cromo.

(04/06/2013) Procedimiento de depósito de nanopartículas metálicas por depósito físico en fase vapor, comprendiendo dichoprocedimiento al menos una etapa de pulverización catódica de un material diana en presencia de un gas neutro enla superficie de un sustrato, en un recinto mantenido a una presión de 15 a 60 Pa, caracterizado porque dicha etapade pulverización catódica se realiza durante un tiempo inferior a 20 segundos.

(15/03/2013) Un procedimiento de fabricación de un artículo recubierto, comprendiendo el procedimiento: proporcionar un sustrato de vidrio; formar al menos una capa dieléctrica sobre el sustrato; formar una capa reflectante de infrarrojos (IR) que comprende plata sobre el sustrato por encima por lomenos de la primera capa dieléctrica, en el que dicha formación de la capa reflectante de IR comprende (a)depositar por pulverización catódica una porción de capa primera, o capa de siembra, que comprende plata;y ( b) usar una combinación simultánea de un haz de iones y material de plata moviéndose hacia el sustratodesde una diana de pulverización catódica para formar una porción de capa segunda inmediatamente porencima de y en contacto con la porción de capa…

(23/05/2012) Una estructura de blanco de magnetrón cilíndrico para su uso en un aparato, fijando dicha estructura deblanco de magnetrón cilíndrico a un husillo, estando adaptada dicha estructura de blanco de magnetrón para serrotada y utilizada para el depósito de capas pulverizadas en una diversidad de grandes sustratos, comprendiendodicho aparato: dicho miembro de husillo que incluye un eje hueco que termina en una porción de brida que tiene unasuperficie terminal, incluyendo dicha superficie terminal una junta tórica en una ranura para junta tóricacircular , teniendo dicha porción de brida un diámetro; dicha estructura de blanco cilíndrico ; y una abrazadera…

(09/05/2012) Un sistema de recubrimiento por metalización por bombardeo atómico que comprende: una cámara de vacío; unos medios para generar un vacío en la cámara de vacío; un sistema de alimentación de gas acoplado a la cámara de vacío; un sistema para confinar y guiar un plasma de gas en el interior de la cámara de vacío; un conjunto objetivo de metalización por bombardeo atómico ubicado en el interior de dicha cámara, teniendo el conjunto objetivo una sección transversal externa circular o no circular definida por una superficie exterior del conjunto objetivo; un sistema de formación de plasma de gas para formar el plasma…

(08/05/2012) Método y aparato para el registro de estructuras ópticas difractivas. La presente invención propone un método para la fabricaciónde elementos ópticos difractivos de una forma simple y económica.Este método incluye los siguientes pasos: (a) situar un substrato transparente próximo a un material blanco, ambos ubicados en elinterior de una cámara, (b) producir la vaporización o sublimación del material blanco, (c) depositar esta fase de vapor sobre elsubstrato, y (d) irradiar de forma concurrente la zona del substrato donde se produce el depósito con una distribución arbitrariade la intensidad luminosa. El depósito presenta funcionalidad óptica difractiva…

(26/04/2012) Un procedimiento para fabricar una diana de 6xido mediante depósito por pulverización catódica, procedimiento que comprende las etapas de - proporcionar un soporte de diana; - aplicar una capa exterior de un material depositable por pulverización catódica sobre el mencionado soporte de diana por proyectar simultaneamente al menos un óxido y al menos un metal, capa exterior que comprende una primera fase y una segunda fase, comprendiendo la mencionada primera fase un óxido de al menos un primer metal y un segundo metal; comprendiendo la mencionada segunda fase un metal en su fase metalica, por lo que el mencionado metal en su fase metalica forma volumenes discretos situados en o entre el mencionado óxido de la mencionada primera fase, comprendiendo la mencionada…

(18/04/2012) Diana de pulverización catódica que contiene un compuesto laminar hexagonal formado por óxido de indioy óxido de zinc y representado por In2O3(ZnO)m en la que m es un número entero de 2 a 7, y del 0,02 al0,2% atómico de un óxido de un tercer elemento que tiene una valencia normal de 4 o 5 más, en la que elóxido del tercer elemento es uno o más óxidos seleccionados del grupo que consiste en SnO2, CeO2, ZrO2,GeO2 y RuO2.

(23/03/2012) Método para producir capas de óxido por medio de PVD (iniciales en inglés de deposición física en fase vapor), en particular por medio vaporización por arco catódico, en el cual se vaporiza un blanco metalúrgico en polvo, caracterizado porque, por deposición de una capa de óxido con una composición que está fuera de una composición en la cual los constituyentes metálicos o semi-metálicos, respecto al diagrama de fases, no cruza ningún límite de fase de fases puramente sólidas durante la transición de temperatura ambiente a la fase líquida durante el calentamiento, el blanco metalúrgico en polvo está formado por al menos dos componentes, un primer componente que tiene una primera composición de constituyentes metálicos o semi-metálicos, en la cual…

(21/10/2010) Substrato con una capa de oro y procedimiento para su preparación. Un substrato con un punto de fusión comprendido entre 1300ºC y 1600ºC con una capa de micromonocristales de oro , dichos micromonocristales presentan terrazas con una área comprendida entre 1.5-10.0 micras al cuadrado y una rugosidad menor que 1 A. Este substrato se fabrica por un procedimiento de preparación que comprende las etapas de deposición de una capa de oro esputerizado y un tratamiento térmico del oro depositado. Los substratos son útiles como soportes para microscopia, como biosensores y como electrodos

(08/07/2010) Lente de base polimérica que comprende una capa endurecedora, una capa absorbente y multicapa interferencial y procedimiento de fabricación correspondiente. Lente de base polimérica que comprende una capa endurecedora (L), una multicapa interferencial (I) y una capa absorbente (A) intercalada entre ambas. La capa absorbente (A) está formada a partir de un metal, óxido o nitruro de metal, apto para generar una capa transparente mediante una deposición por sputtering, y comprende, adicionalmente, cationes de un metal colorante del grupo formado por aquellos elementos de transición que, en forma oxidada, presenten un…

(16/06/2007) Dispositivo para labrar una pieza de trabajo con un haz electrónico, con al menos un cañón de haz electrónico , y un dispositivo de alimentación de piezas de trabajo, que está previsto con una cámara de vacío , que presenta al menos una conexión para cada cañón de haz electrónico y al menos una abertura de carga/descarga (3; 3a, 3b), al menos dos dispositivos de sujeción de piezas de trabajo , un dispositivo de movimiento para mover cada uno de los dispositivos de sujeción de piezas de trabajo hasta una posición de carga/descarga correspondiente en al menos una abertura de carga/descarga (3; 3a, 3b) y una posición de labrado en al menos una conexión para el cañón de haz electrónico , y en cada caso un dispositivo de esclusa de piezas de trabajo en cada abertura…

(16/03/2007) Procedimiento de fabricación de una pletina de fijación que comprende, en una sola pieza, una placa de base y un cuerpo tubular, que comprende las etapas consistentes en: - recorte de una pieza de partida de chapa de modo que éste defina una parte central de forma general rectangular flanqueada por dos partes laterales que comprenden un ala denominada media bordeada lateralmente por una aleta bordeada a su vez, en el lado de la parte central , por una ranura (16A, 17A), estando provista cada aleta , en su lado libre perpendicular a la ranura (16A, 17A) de, al menos, una lengüeta adaptada para penetrar en una abertura rectangular de la otra ala ;…

(16/11/2006) Un método para reactivar un blanco de pulverización catódica de tántalo consumido, que comprende las etapas: proporcionar un blanco de pulverización catódica de tántalo usado que tiene una placa de pulverización catódica de tántalo y una placa de soporte, en donde una cara del blanco de dicha placa de pulverización catódica de tántalo incluye una o más porciones de área superficial consumida; proporcionar un polvo de tántalo; suministrar selectivamente un polvo de tántalo para rellenar parcialmente o completamente cada una de dichas una o más porciones de área superficial consumida de la placa de tántalo para formar porciones rellenas; y aplicar un haz de energía radiante de alta potencia de corta duración localmente a dichas…

(01/03/2006) Procedimiento para producir un anticátodo tubular para instalaciones de pulverización catódica, en donde el anticátodo tubular está formado por un tubo interior metálico de un primer material con un primer punto de fusión TS1 de 900 K y por un tubo exterior metálico que circunda concéntricamente el tubo interior, de un segundo material con un segundo punto de fusión TS2 de = 800 K, y en donde el diámetro interior del tubo exterior se une fijamente con el diámetro exterior del tubo interior en unión positiva de forma y mecánicamente, caracterizado porque el tubo exterior se forma mediante colada del segundo material en estado fundido en una coquilla de fundición cilíndrica…

(01/05/2004) Método para la obtención de óxidos conductores eléctricos y transparentes mediante pulverización catódica. Consiste en depositar óxido de indio dopado con estaño y óxido de zinc dopado con aluminio, sobre substratos de vidrio sin calentar intencionadamente, mediante la técnica de pulverización catódica. Comprende las siguientes etapas: Preparación de los substratos mediante desengrasado, lavado en baño de ultrasonidos, aclarado con agua desionizada y secado mediante chorro de aire. Introducción de los substratos a recubrir en una cámara de pulverización catódica, y bombardeo de los mismos con iones Ar{sup,+}. Preparación de blancos de óxido de indio dopado con estaño o de óxido de zinc dopado con aluminio mediante bombardeo con iones Ar{sup,+}. Recubrimiento…

(16/03/2004) Un medio de registro de información óptico que puede eliminar la necesidad del procedimiento de inicialización. Se forma una capa asistida de cristalización comprendiendo un material dado sobre un sustrato sobre un lateral del mismo, y se forma una capa de registro comprendiendo la aleación de Ge-Sb-Te directamente sobre la capa . Ya que la capa de registro cristaliza inmediatamente después de la formación de la película, no es necesario el procedimiento de inicialización para el medio de registro de información óptica obtenido. Ejemplos del material de la capa asistida de cristalización incluyen primeramente materiales que tienen una estructura cristalina en el sistema de cristalización cúbico de cara centrada. Ejemplos del mismo incluye en segundo…