CIP-2021 : G03F 7/36 : Eliminación según la imagen no cubierta por los grupos G03F 7/30 - G03F 7/34,
p. ej. utilizando una corriente gaseosa, un plasma.
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G FISICA.
G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.
G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).
G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
G03F 7/36 · · Eliminación según la imagen no cubierta por los grupos G03F 7/30 - G03F 7/34, p. ej. utilizando una corriente gaseosa, un plasma.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Procedimiento para fabricar formas de impresión flexográfica mediante exposición múltiple con LED de UV.
(05/02/2020) Procedimiento para fabricar formas de impresión flexográfica, en el cual se emplea como material de partida un elemento fotopolimerizable para impresión flexográfica que comprende al menos, de manera superpuesta:
• un soporte dimensionalmente estable y
• al menos una capa fotopolimerizable formadora de relieve, que comprende al menos un agente aglutinante elastomérico, un compuesto etilénicamente insaturado y un fotoiniciador,
• una capa apta para la formación digital de imágenes,
y el procedimiento comprende al menos los siguientes pasos:
(a) producir una máscara mediante formación de imagen en la capa apta para la formación digital de imágenes,
(b) exponer con luz actínica a través de la máscara la capa fotopolimerizable formadora de…
Método y aparato para procesamiento térmico de elementos de impresión fotosensibles.
(06/02/2019) Un aparato para formar una estructura en relieve sobre un elemento de impresión fotosensible, donde el elemento de impresión fotosensible incluye un sustrato flexible y al menos una capa de material fotosensible sobre el sustrato flexible, incluyendo el aparato:
(i) un recinto;
(ii) un medio de transporte incluyendo un bucle continuo, sobre el que se puede soportar un elemento de impresión fotosensible;
(iii) un rodillo calentable montado en el recinto;
(iv) un material absorbente que cubre al menos una parte del rodillo calentable, donde el material absorbente es capaz de absorber material licuado o ablandado…
Sistema para revelado térmico de planchas de impresión flexográfica.
(17/08/2016) Un sistema para formar una imagen en relieve en un elemento de impresión fotosensible , donde el elemento de impresión fotosensible incluye un sustrato flexible y al menos una capa de material fotosensible depositada sobre el sustrato flexible, incluyendo el sistema:
un recinto ;
un transportador incluyendo un bucle continuo soportado por al menos un primer rodillo y un segundo rodillo , donde el elemento de impresión fotosensible se coloca sobre el bucle continuo del transportador ;
un rodillo calentable capaz de ser empujado hacia el elemento de impresión fotosensible colocado en el transportador , donde un material absorbente es conducido sobre al menos una porción de una…
Procesador flexográfico mejorado.
(26/06/2014) Un sistema procesador de planchas para fabricar un elemento de impresión flexográfica, incluyendo el sistema procesador de planchas :
un sistema de accionamiento ;
un soporte rotativo acoplable al sistema de accionamiento , donde el sistema de accionamiento incluye uno o más espaciadores para acoplar el soporte rotativo al sistema de accionamiento , por lo que el uno o varios espaciadores permiten el uso de soportes rotativos de longitudes variables;
un medio para fijar el elemento de impresión flexográfica sobre el soporte rotativo ;
un medio para exponer superficies con imagen del elemento de impresión flexográfica a radiación actínica;
un medio para desarrollar térmicamente las superficies con imagen y expuestas del elemento de impresión flexográfica , donde el medio para desarrollar…
Método para tratar térmicamente manguitos de impresión fotosensibles.
(18/04/2012) Un método para fabricar un elemento de impresión fotosensible que comprende las etapas de:
a) proporcionar un elemento de impresión fotosensible sobre un soporte cilíndrico giratorio, comprendiendo el elemento de impresión fotosensible :
i) una capa de soporte ;
ii) una primera capa de material fotocurable en la capa de soporte , estando la primera capa de material fotocurable pre-curada;
iii) al menos una segunda capa de material fotocurable depositada sobre la primera capa de material fotocurable ; y
iv) una capa de enmascaramiento en la parte superior de la al menos una segunda capa de material fotocurable que permite la polimerización selectiva de la al menos una segunda capa de material fotocurable ;
en el que la primera capa de material fotocurable se cura antes que la segunda capa de material…
APARATO Y PROCEDIMIENTO PARA EL REVELADO TÉRMICO DE ELEMENTOS DE IMPRESIÓN FLEXOGRÁFICA.
(09/01/2012) Aparato para la exposición y el revelado de un elemento de impresión flexográfica , comprendiendo el aparato:
(i) unos medios para soportar, y preferentemente hacer girar, el elemento de impresión flexográfica ;
(ii) unos medios para revelar térmicamente la superficie con la imagen y expuesta del elemento de impresión flexográfica comprendiendo dichos medios:
a) unos medios para ablandar o fundir un fotopolímero no reticulado en la superficie con la imagen y expuesta del elemento de impresión flexográfica ;
b) por lo menos un rodillo que puede estar en contacto con la superficie con la imagen del elemento de impresión flexográfica y capaz de moverse sobre por lo menos una parte de la superficie con la imagen del elemento de impresión flexográfica para quitar el fotopolímero ablandado o fundido…
PROCEDIMIENTO DE FOTOENMASCARAMIENTO DE POLIIMIDAS FOTOSENSIBLES CON COMPUESTOS ORGANOMETALICOS PARA PROCESOS FOTOLITOGRAFICOS EN TECNOLOGIA DE SILICIO.
(16/03/2001). Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: DOMINGUEZ HORNA,CARLOS, MUÑOZ PASCUAL,FRANCISCO J.
Procedimiento de fotoenmascaramiento de poliimidas fotosensibles con compuestos organometálicos para procesos fotolitográficos en tecnología de silicio. Es un proceso fotolitográfico monocapa sobre topografías irregulares que se basa en la silanización superficial de los grupos metacrilato del ácido poliámico precursor de la poliimida fotosensible para que actúen como máscara ante el revelado por plasma en modo RIE, con oxígeno como gas reactivo. El proceso permite la obtención de motivos positivos o negativos, con respecto a la máscara, utilizando los mismos precursores fotosensibles ya que esto depende únicamente de la secuencia con que se realicen los pasos de exposición y silanización. Este proceso puede aplicarle a la fotodefinición de capas poliméricas de cualquier espesor. Aplicación en la encapsulación se sensores químicos, módulos multichip, tecnología microelectrónica, sectores electrónicos, óptica integrada.
PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE DISPOSITIVOS EN ESTADO SOLIDO TALES COMO DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES DE BURBUJA MAGNETICA DE COMUNICACION OPTICA CON UNA CAPA ORGANICA, GENERALMENTE UN POLIMERO, POR DELINEACION MEDIANTE UNA ATMOSFERA DE.
(16/11/1987). Solicitante/s: AMERICAN TELEPHONE & TELEGRAPH COMPANY.
PROCEDIMIENTO PARA FABRICAR DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES DE BURBUJA MAGNETICA Y DE COMUNICACION OPTICA. COMPRENDE: A) PROPORCIONAR UN PRECURSOR QUE CONTENGA UNA CAPA ORGANICA; B) SORBER UN GAS EN LA CAPA ORGANICA; C) IRRADIAR LA CAPA ORGANICA CON RADIACION ACTINICA; D) FORMAR UN COMPUESTO PROTECTOR EN UNA PORCION DE LA CAPA ORGANICA; Y E) SEPARAR POR EXPOSICION AL PLASMA, OTRA PORCION DEL PRECURSOR DEL DISPOSITIVO NO PROTEGIDO QUE NO ESTA PROTEGIDA POR EL COMPUESTO PROTECTOR. LA CAPA ORGANICA ES UNA CAPA SUBYACENTE EN UN MATERIAL RESISTIVO DE NIVELES MULTIPLES COMO UNA RESINA NOVOLACA Y POLIMERO QUE CONTIENE GRUPOS ACRILICOS ACIDOS; LA CAPA INORGANICA SE ELIGE ENTRE SILICIO (SI), GERMANIO (GE) Y ESTAÑO (SN) Y PERTENECE A UN COMPUESTO PROTECTOR DE DICHA CAPA ORGANICA; EL GAS ES UN HALURO ORGANICO Y EL PLASMA TIENE OXIGENO. SE UTILIZA PARA DELINEAR MODELOS EMPLEADOS PARA DEFINIR GEOMETRIA DE DISPOSITIVOS EN ESTADO SOLIDO O EN BURBUJA.