CIP-2021 : C23F 1/00 : Decapado de materiales metálicos por medios químicos.

CIP-2021CC23C23FC23F 1/00[m] › Decapado de materiales metálicos por medios químicos.

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C23F 1/02 · Grabado local.

C23F 1/04 · · Fresado químico.

C23F 1/06 · Afilado de limas.

C23F 1/08 · Aparatos, p. ej. para la impresión fotomecánica de superficies.

C23F 1/10 · Composiciones de decapado (C23F 1/44 tiene prioridad).

C23F 1/12 · · Composiciones gaseosas.

C23F 1/14 · · Composiciones acuosas.

C23F 1/16 · · · Composiciones ácidas (C23F 1/42 tiene prioridad).

C23F 1/18 · · · · para el cobre o sus aleaciones.

C23F 1/20 · · · · para el aluminio o sus aleaciones.

C23F 1/22 · · · · para el magnesio o sus aleaciones.

C23F 1/24 · · · · para el silicio o el germanio.

C23F 1/26 · · · · para los metales refractarios.

C23F 1/28 · · · · para los metales del grupo del hierro.

C23F 1/30 · · · · para otros materiales metálicos.

C23F 1/32 · · · Composiciones alcalinas (C23F 1/42 tiene prioridad).

C23F 1/34 · · · · para el cobre o sus aleaciones.

C23F 1/36 · · · · para el aluminio o sus aleaciones.

C23F 1/38 · · · · para los metales refractarios.

C23F 1/40 · · · · para otros materiales metálicos.

C23F 1/42 · · · que contienen en dispersión un liquido no miscible con el agua.

C23F 1/44 · Composiciones para el levantamiento de materiales metálicos de un sustrato metálico de composición diferente.

C23F 1/46 · Regeneración de composiciones de decapado.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Método de retirada de películas de óxido.

(01/01/2020) Un método de retirada de películas de óxido para retirar una película de óxido formada en una superficie de una pieza de superaleación que contiene un primer metal como metal base y un segundo metal diferente del primer metal, conteniendo la película de óxido óxido del metal base y óxido del segundo metal, comprendiendo el método de retirada de películas de óxido: disponer la pieza de superaleación en el interior de una cámara de calentamiento; preparar una atmósfera de gas de reducción o una atmósfera de vacío en el interior de la cámara de calentamiento; reducir el óxido del metal base de la película de óxido al metal…

Deposición de nanopartículas discretas sobre una superficie nanoestructurada de un implante.

(22/05/2019). Solicitante/s: Biomet 3i, LLC. Inventor/es: MAYFIELD,ROBERT L, TOWSE,ROSS W, BERCKMANS,BRUCE.

Un método para formar un implante para ser implantado en un hueso vivo, el método que comprende los actos de: hacer áspera al menos una porción de la superficie del implante para producir una superficie áspera a microescala; formar una superficie áspera a nanoescala que comprende nanoestructuras permanentes en la superficie áspera a microescala; y depositar nanopartículas discretas en la superficie áspera a nanoescala a través de un proceso de un solo paso para exponer la superficie áspera a nanoescala a una solución que incluye las nanopartículas, las nanopartículas que comprenden hidroxiapatita, un material que tiene una propiedad que promueve la osteointegración; en donde las nanopartículas discretas se unen directamente a una capa de óxido de titanio y/o hidróxido de titanio en la superficie del implante.

PDF original: ES-2729425_T3.pdf

Método mejorado para el grabado de microestructuras.

(03/10/2018). Solicitante/s: Memsstar Limited. Inventor/es: O\'HARA,Anthony, LEAVY,MICHAEL, PRINGLE,GRAEME, MCKIE,ANTHONY.

Método para grabar una o más microestructuras ubicadas dentro de una cámara de proceso , comprendiendo el método las etapas siguientes: a) transformar un material de grabado dentro de una cámara sellada desde un primer estado en un vapor de material de grabado; b) emplear un gas portador para la cámara sellada para transportar el vapor de material de grabado desde la cámara sellada y a continuación, suministrar el vapor de material de grabado a la cámara de proceso ; y c) controlar la cantidad de vapor de material de grabado dentro de la cámara de proceso controlando la velocidad de bombeo de vacío desde la cámara de proceso , caracterizado por que se selecciona una velocidad a la cual se suministra el vapor de material de grabado a la cámara de proceso en respuesta a una velocidad de grabado deseada y una velocidad de retirada del vapor de material de grabado desde la cámara de proceso.

PDF original: ES-2684551_T3.pdf

Plantilla para estructuraciones de superficies mediante grabado al ácido.

(28/03/2018). Solicitante/s: AKK GmbH. Inventor/es: KESPER, PETER.

Plantilla para estructuraciones de superficies mediante grabado al ácido, con una capa de plantilla resistente al mordiente, pudiendo transferirse mediante frotado la capa de plantilla a la superficie que va a estructurarse y pudiendo eliminarse al menos parcialmente la capa de plantilla tras un tratamiento mediante grabado al ácido de la superficie que va a estructurarse , caracterizada por que la capa de plantilla presenta al menos dos subáreas y porque al menos dos subáreas presentan materiales de plantilla que pueden eliminarse, independientemente uno de otro, de la superficie que va a estructurarse.

PDF original: ES-2666820_T3.pdf

Miembro de soporte de carga de ascensor que tiene una envoltura con por lo menos una superficie exterior de mejora de la tracción.

(13/09/2017). Solicitante/s: OTIS ELEVATOR COMPANY. Inventor/es: O'DONNELL, HUGH, J., MELLO, ARY, O., VERONESI, WILLIAM A., PITTS, JOHN, WESSON, JOHN, P., THOMPSON, MARK, S., PERRON,WILLIAM,C, SHERRICK,KATHRYN RAUSS.

Un método para fabricar un miembro de soporte de carga para uso en un sistema de ascensor, que comprende: aplicar una envoltura polimérica para rodear generalmente por lo menos un miembro de tensión y proporcionar un conjunto conformado; y acabar el conjunto conformado desplazando por lo menos algo material polimérico sobre por lo menos una superficie de la envoltura polimérica, en el que la envoltura comprende poliuretano y la etapa de desplazamiento incluye retirar química o mecánicamente el material de la una superficie para despachar por lo menos parcialmente algo de una capa rica en amida que migra a la superficie de la envoltura durante la aplicación de la envoltura , exponiendo por ello poliuretano puro sobre por lo menos algo de la una superficie.

PDF original: ES-2641242_T3.pdf

Oligopéptidos de metaloproteinasas y su uso terapéutico.

(07/12/2016). Solicitante/s: RATH, MATTHIAS. Inventor/es: RATH, MATTHIAS.

Un método que comprende: identificar una secuencia oligopeptídica para una metaloproteinasa de la matriz expresada en una enfermedad específica, sintetizar la secuencia oligopeptídica para la metaloproteinasa de la matriz, formular una cantidad terapéuticamente eficaz de una composición de tratamiento usando la secuencia oligopeptídica de la metaloproteinasa de la matriz, preparar una composición farmacéutica usando la composición de tratamiento para tratar a un mamífero que tiene la enfermedad específica que muestra una sobreexpresión de la metaloproteinasa de la matriz, en el que la secuencia oligopeptídica de la metaloproteinasa de la matriz es al menos una de las SEQ ID NO: 2 a 21 o una combinación de las mismas.

PDF original: ES-2618605_T3.pdf

Método con una plantilla de estarcido para la estructuración de una superficie mediante grabado.

(16/11/2016). Solicitante/s: AKK GmbH. Inventor/es: SHAW,KARL GREGORY.

Método para la impresión de una plantilla de estarcido y estructuración de una superficie mediante grabado, comprendiendo el método: impresión de una capa resistente al grabado de la plantilla de estarcido por inyección de puntos resistentes al grabado, impresión de la capa resistente al grabado en áreas de profundidad de grabado intencionadamente reducida con puntos al menos parcialmente aislados, caracterizado por que, el método comprende adicionalmente: la impresión de al menos algunos de los puntos resistentes al grabado cubriendo zonas con tamaño controlado variable para controlar la profundidad de grabado real y la profundidad de grabado media.

PDF original: ES-2607641_T3.pdf

Método para separar plata de una tarjeta de circuito impreso.

(03/07/2013) Un método para eliminar plata depositada de una tarjeta de circuito impreso, estando la plata depositada sobre unmetal de base de la tarjeta de circuito impreso, comprendiendo dicho método las etapas de: (a) poner en contacto dicha tarjeta de circuito impreso con una disolución de separación que comprende unagente oxidante, un agente de ajuste de pH alcalino y un agente de solubilización de plata, donde dicho agenteoxidante está seleccionado entre permanganato de sodio, permanganato de potasio, clorito de sodio, clorito depotasio, clorato de sodio o clorato de potasio; dicho agente de solubilización de plata está seleccionado entresuccinimida y fuentes de iones amonio; y el pH de la disolución está entre 11 y 13,5; y (b) neutralizar dicha…

Célula de disolución de muestra sólida capa a capa.

(10/04/2013) Célula de disolución continua de una muestra sólida que se va a analizar, que comprende un cuerpo ,adaptado para entrar en contacto con una superficie de la muestra , que comprende una cavidad , adecuada para formar, en combinación con la superficie de la muestra , una cámara de reacción; por lo menos una entrada para introducir un reactivo químico en la cámara de reacción, siendo elreactivo químico adecuado para atacar químicamente la muestra a partir del nivel de su superficie , en unespesor controlado, con una velocidad de ataque regulable, y para formar un producto de reacción; por lo menos una salida para extraer…

Procedimiento de reducción de la cantidad de plomo liberada por los componentes de un sistema de agua de bronce y latón en líquidos destinados al consumo humano.

(28/03/2012) Procedimiento de reducción de la cantidad de plomo liberada por los componentes de un sistema de agua, realizados en aleaciones metálicas que contienen plomo, cuando están en contacto con líquidos destinados a la realización de bebidas para uso humano, que comprende al menos las etapas secuenciales siguientes: - reducción preliminar de la cantidad de plomo contenido en el material que constituye los componentes, - revestimiento de los componentes tratados de esta manera, al menos en la superficie que entrará en contacto con los líquidos, mediante la deposición de una capa de estaño, - revestimiento de los componentes del sistema de agua, al menos en su superficie que ha sido tratada mediante la deposición de…

BANDA DE ACERO SINFIN PARA PRENSAS DE DOBLE BANDA Y PROCEDIMIENTO PARA SU FABRICACION.

(01/03/2004). Ver ilustración. Solicitante/s: BERNDORF BAND GESMBH & CO KG. Inventor/es: STADLER, OTTO, SCHUSTER, ROLAND.

Banda de acero sinfín , en especial de acero austenítico y/o martensítico, con al menos una costura de soldadura , que discurre transversalmente a la extensión longitudinal (a) de la banda de acero , para prensas de doble banda con al menos una primera capa superficial , que se extiende con preferencia por toda la banda de acero y que muestra una composición diferente con relación a una capa intermedia , que se extiende entre la primera superficie y una segunda situada enfrente de ésta fundamentalmente por toda la banda de acero, caracterizada porque la primera capa superficial se compone del acero de la banda de acero y muestra unas regiones influenciadas térmicamente situadas en particular regularmente unas junto a otras y/o que se cruzan entre sí, p.ej. zonas , y/o regiones de penetración de cocción, p.ej. zonas.

PROCEDIMIENTO DE EXTRACCION SELECTIVA DE PLOMO Y BAÑO PARA COMPONENTES DE FONTANERIA FABRICADOS DE UNA ALEACION DE COBRE.

(01/04/2003). Solicitante/s: RUVARIS S.R.L. Inventor/es: BONOMI, ANGELO, CARRERA, STEFANO, FRANZOSI, GIULIANO.

Un procedimiento de extracción selectiva del plomo de componentes de fontanería fabricados de una aleación de cobre con contenido en plomo, que consta de las etapas de inmersión tradicional de los componentes, lavado de los componentes sumergidos y acabado de los componentes lavados, caracterizado porque, antes de la etapa de acabado, los componentes se sumergen en un baño que consta de ácido acrílico.

ELEMENTOS DE FONTANERIA CON ESCASA LIBERACION DE PLOMO HECHOS A BASE DE COBRE QUE CONTIENEN PLOMO Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACION CORRESPONDIENTE.

(01/09/2001) SE SOMETE COMPONENTES DE LATON AL PLOMO PARA CIRCUITOS DE DISTRIBUCION DE AGUA POTABLE (P.EJ: COMPONENTES DE FONTANERIA HECHOS DE CU ZN39 PB3, CON UN 3 % PB), Y TAMBIEN OTROS CROMADOS, A UN ATAQUE SUPERFICIAL SELECTIVO AL PLOMO PARA REDUCIR, DURANTE SU OPERACION, EL DESPRENDIMIENTO DE PB ORIGINADO POR EL ARRASTRE DUPERFICIAL DE PB QUE RESULTA BIEN DEL MECANIZADO O DEL MOLDEADO; DICHOS ELEMENTOS SE PONEN PRIMERAMENTE EN CONTACTO CON UNA SOLUCION ACUOSA DE UN ACIDO CAPAZ DE FORMAR SALES DE PB SOLUBLES, PREFERENTEMENTE UNA SOLUCION NO OXIDANTE, SIMPLEMENTE SUMERGIENDO LOS COMPONENTES EN LA SOLUCION, P.EJ: UNA SOLUCION DE ACIDO SULFAMICO 0,1 M, A 20º A 50 MINUTOS…

METODO DE GRABADO CON MASCARA PORTADORA DE IMAGEN Y PELICULA ESTRATIFICADA FOTOSENSIBLE PARA DICHA MASCARA PORTADORA DE IMAGEN.

(16/11/2000) METODO DE GRABADO CON FILTRO DE IMAGEN Y PELICULA LAMINAR FOTOSENSIBLE PARA DICHO FILTRO DE IMAGEN. UNA PELICULA LAMINAR FOTOSENSIBLE QUE COMPRENDE UNA LAMINA DE SOPORTE , UNA CAPA DE SUJECION DEL FILTRO DE IMAGEN PEGADA A LA LAMINA DE SOPORTE Y UNA CAPA DE COMPOSICION DE RESINA SOLUBLE AL AGUA DISPUESTA EN LA CAPA DE SUJECION DEL FILTRO DE IMAGEN , SIENDO DICHA CAPA RETICULABLE POR LA LUZ. UN METODO DE GRABADO QUE COMPRENDE LAS FASES DE (A) IRRADIACION DE LA PELICULA LAMINAR CON LUZ DE DECORACION PARA FORMAR EN LA MISMA UN AREA RETICULABLE CORRESPONDIENTE AL MODELO DE LA CAPA DE COMPOSICION DE RESINA , (B) TRATAMIENTO DE LA CAPA DE COMPOSICION DE RESINA RESULTANTE CON AGUA PARA DISOLVER UN AREA NO RETICULABLE Y DESARROLLAR UN FILTRO DE IMAGEN QUE COMPRENDA EL AREA RETICULABLE…

PROCESO PARA REDUCIR LA LIXIVIACION DEL PLOMO DE LOS COMPONENTES DE LAS CAÑERIAS DE BRONCE.

(01/08/1998). Solicitante/s: 21ST CENTURY COMPANIES, INC. Inventor/es: DOWNEY, JEROME P.

UN PROCESO PARA TRATAR LOS COMPONENTES DE LAS CAÑERIAS DE BRONCE PARA REDUCIR EL PLOMO LIXIVIABLE CUANDO EL COMPONENTE SE EXPONE POSTERIORMENTE AL AGUA QUE CONSISTE EN EXPONER EL COMPONENTE DE BRONCE A UNA SOLUCION ACUOSA QUE CONTENGA UNA CONCENTRACION DESEADA DE CLORURO Y PIROFOSFATO, EN DONDE EL ION DE CLORURO FOMENTA LA DISOLUCION DEL PLOMO DEL COMPONENTE DE BRONCE Y EL ION DE PIROFOSFATO EVITA LA SATURACION DE LA SOLUCION CON PLOMO LO QUE ASEGURA QUE EL PROCESO DE DISOLUCION CONTINUE.

METODO DE CONTROL CON POTENCIAL "REDOX".

(16/05/1997). Solicitante/s: EKA CHEMICALS AB. Inventor/es: BERGLIND, TROY, DALIN, IVAN.

SE PRESENTA UN METODO PARA MANTENER UN CONTENIDO DADO DE UNA SUBSTANCIA A EN UNA SOLUCION ACUOSA EN LA QUE SE CONSUME DE FORMA CONTINUA Y EN LA QUE EL POTENCIAL "REDOX" E, AL MENOS DENTRO DEL RANGO DE CONCENTRACION USADO, SATISFACE APROXIMADAMENTE LA ECUACION: E=G+F(X) EN DONDE X ES EL CONTENIDO DE A, F ES UNA FUNCION DE X CUYA DERIVADA DF/DX SE APROXIMA A O CUANDO X ASUME UN VALOR ALTO, Y G ES INDEPENDIENTE DE X PERO ESTA INFLUENCIADA POR OTROS PARAMETROS, TALES COMO EL PH, LA TEMPERATURA O SIMILARES. LA ADICION DE A SE CONTROLA DE TAL FORMA QUE UN VALOR DE CONJUNTO DEL POTENCIAL "REDOX" SE MANTIENE. EL VALOR DE CONJUNTO SE DETERMINA INCREMENTANDO O DECREMENTANDO LA ADICION DE A EN UNA FORMA PREDETERMINADA, DESPUES DE LO CUAL SE MIDE EL POTENCIAL "REDOX" Y EL VALOR MEDIDO SE USA PARA DETERMINAR EL VALOR DE CONJUNTO.

SUBSTRATO METALICO DE MORFOLOGIA DE SUPERFICIE MEJORADA.

(01/07/1995). Solicitante/s: ELTECH SYSTEMS CORPORATION. Inventor/es: HARDEE, KENNETH, L., ERNES, LYNNE, M., CARLSON, RICHARD C.

SE DESCRIBE UNA SUPERFICIE METALICA QUE TIENE ADHESION MEJORADA PARA CUBIERTAS APLICADAS SUBSECUENTEMENTE. SE PROVEE EL SUBSTRATO METALICO DEL ARTICULO, TAL COMO UN ALMA DE FUELLE DE UN METAL COMO TITANIO, CON UNA CARACTERISTICA DE SUPERFICIE MUY DESEADA PARA APLICACION DE CUBIERTAS SUBSECUENTES. ESTE SE PUEDE INICIAR POR SELECCION DE UN METAL DE METALURGIA DESEADO Y PREVIAMENTE CALENTADO, INCLUYENDO UN TRATAMIENTO PREVIO AL CALENTAMIENTO PARA PROVEER UNA LIMITACION DEL GRANO DE LA SUPERFICIE, LA CUAL PUEDE SER GRABADA MAS FACILMENTE. LA SUPERFICIE ESTA HECHA PARA EN LA SUBSECUENTE OPERACION DE GRABADO, EXHIBIR GRANO TRIDIMENSIONAL, BIEN DEFINIDO, CON PROFUNDOS CONFINES DE GRANO. LAS CUBIERTAS APLICADAS SUBSECUENTEMENTE, POR PENETRACION EN LOS VALLES DE GRABACION INTERGRANULAR, SON SUBSECUENTEMENTE ADHERIDAS SOBRE LA SUPERFICIE DEL SUBSTRATO METALICO Y PROVEEN INCLUSO UNA MEJORA DE LA DURACION EN ENTORNOS COMERCIALES ASPEROS.

PROCESO Y EQUIPO PARA MICROPATIONES FORMADOS EN SUPERFICIES DE CILINDRO, HOJAS DE METAL PARA TRABAJO PREPARADO EN EL CILINDRO Y METODOS PARA PREPARARLOS.

(16/03/1994). Solicitante/s: KAWASAKI STEEL CORPORATION. Inventor/es: IGUCHI, TAKAAKI RESEARCH LABORATORIES, TAMARI, TAKANORI RESEARCH LABORATORIES, HIRA, TAKAAKI RESEARCH LABORATORIES, ISOBE, KUNIO RESEARCH LABORATORIES, YARITA, IKUO RESEARCH LABORATORIES, ABE, HIDEO RESEARCH LABORATORIES.

SE PREVEE UN PROCESO Y UN EQUIPO PARA MICROPATIONES FORMADOS SOBRE LA SUPERFICIE DE UN CILINDRO QUE GIRA, Y UNA HOJA DELGADA METALICA Y SU PREPARACION PARA TRANSMITIR EL MICROPATION EN LA SUPERFICIE DEL CILINDRO, LA HOJA METALICA DELGADA RUEDA POR EL CILINDRO Y ES USADO COMO UN PANEL - COCHE SUPERIOR EN ABILIDAD DE TRABAJO Y AGUDIZADO DE REFLEJO.

SOLUCION, COMPOSICION Y PROCESO DE AFINO DE SUPERFICIES METALICAS.

(01/08/1991). Solicitante/s: REM CHEMICALS, INC.. Inventor/es: ZOBBI, ROBERT G., MICHAUD, MARK.

UNA COMPOSICION PARA USAR EN EL PROCESO DE ACABADO MASIVO DE SUPERFICIES METALICAS, NORMALMENTE EN UN PROCESO DE ACABADO VIBRATORIO, UTILIZA UNA COMBINACION DE ACIDO OXALICO, NITRATO SODICO Y PEROXIDO DE HIDROGENO. LA CONCENTRACION MAXIMA DEL ULTIMO EN UNA SOLUCION ACUOSA EMPLEADA EN EL PROCESO, ESTA LIMITADA A UN VALOR (0,05 GR MOL/L) EN EL QUE SE EVITAN LA DISOLUCION EXCESIVA DEL METAL Y LA PICADURA DE LA SUPERFICIE, A LA VEZ, COOPERANDO CON EL NITRATO PARA EFECTUAR UN AUMENTO SUSTANCIAL EN LA VELOCIDAD DEL PROCESO. SE CONSIGUEN SUPERFICIES MUY AFINADAS EMPLEANDO EL PROCEDIMIENTO DURANTE PERIODOS DE TIEMPO RELATIVAMENTE CORTOS.

REFINO DE SUPERFICIE METALICA USANDO UN MEDIO A BASE DE ALUMINA DENSA.

(16/08/1990). Solicitante/s: REM CHEMICALS, INC.. Inventor/es: MICHAUD, MARK DAVID.

LA INVENCION PROPROCIONA UN PROCESO FISICOQUIMICO PARA REFINAR SUPERFICIES METALICAS RELATICAMENTE BASTAS A UNA CONDICION DE ELEVADA SUAVIDAD Y BRILLANTEZ, EN UN PERIODO DE TIEMPO RELATIVEMENTE BREVE, QUE SE CARACTERIZA POR EL USO DE UN MEDIO DE PULIDO DE ALTA DENSIDAD NO ABRASIVO. EL PROCESO PUEDE LLEVARSE A CABO EN UNA SOLA ETAPA Y CON UNA PRODUCCION MINIMA DE FINOS, LO QUE SUPONE VENTAJAS ECONOMICAS Y AMBIENTALES.

PROCEDIMIENTO Y APARATO DE CHAPADO O ATAQUE QUIMICO DE UN SUBSTRATO UTILIZANDO UN LIQUIDO DE TRATAMIENTO Y UN HAZ ENERGETICO, TAL COMO UN LASER.

(01/04/1986). Solicitante/s: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION.

PROCEDIMIENTO Y APARATO DE CHAPADO O ATAQUE QUIMICO DE UN SUSTRATO UTILIZANDO UN LIQUIDO DE TRATAMIENTO Y UN HAZ ENERGETICO, TAL COMO UN LASER. CONSISTE EN DIRIGIR EL HAZ DE ENERGIA HACIA EL SUSTRATO PARA CALENTAR UN PUNTO DEL MISMO, HACIA EL CUAL SE DIRIGE SIMULTANEAMENTE UN CHORRO DEL LIQUIDO DE TRATAMIENTO, SIENDO COLINEALES EL HAZ Y EL CHORRO, EN EL CUAL EL DIAMETRO DEL HAZ Y EL DIAMETRO DEL CHORRO SON SIMILARES Y EL CHORRO ACTUA COMO GUIA DE ONDAS PARA EL HAZ. CONSTA DE: UNA BOQUILLA DE CHORRO PARA EMITIRLO HACIA EL SUSTRATO; UNA LENTE QUE ENFOCA EL HAZ DE ENERGIA EN EL CENTRO DE LA BOQUILLA DE CHORRO, PROPAGANDOSE EL HAZ DE ENERGIA A TRAVES DE LA LENTE Y LA BOQUILLA DE CHORRO HACIA EL SUSTRATO.

"UN PROCEDIMIENTO PARA CONFORMAR UNA PIEZA DE TRABAJO Y PRODUCIR UN CONTORNO DE SUPERFICIE DE PIEZA DE TRABAJO COMPLEMENTARIO DEL CONTORNO DE SUPERFICIE DE UN MODELO QUE SE DESEA REPRODUCIR".

(16/10/1983). Solicitante/s: BEATRICE FOODS CO.

UN PROCEDIMIENTO PARA CONFORMAR UNA PIEZA DE TRABAJO Y PRODUCIR UN CONTORNO DE SUPERFICIE DE PIEZA DE TRABAJO COMPLEMENTARIO DEL CONTORNO DE SUPERFICIE DE UN MODELO QUE SE DESEA REPRODUCIR. CONSISTE EN APLICAR UN MATERIAL DE PROTECCION O AL MENOS UNA PARTE DE LA SUPERFICIE DE LA PIEZA DE TRABAJO A CONFORMAR. A CONTINUACION SE APRIETA LA PLANTILLA CONTRA LA SUPERFICIE, TENIENDO DICHA PLANTILLA UN CONTORNO SUPERFICIAL CON UNA IMAGEN NEGATIVA DEL CONTORNO SUPERFICIAL A CONFORMAR. SE RETIRA LA PLANTILLA DE LA SUPERFICIE PARA RETIRAR EL MATERIAL DE PROTECCIONDE AQUELLAS PARTES DE LA SUPERFICIE CON LAS QUE HAGA CONTACTO LA SUPERFICIE DE LA PLANTILLA. SE APLICA UN AGENTE DE ATAQUE QUIMICO A LA SUPERFICIE NO CUBIERTA POR EL MATERIAL DE PROTECCION Y SE REPITEN LAS OPERACIONES DE APRETAR LA PLANTILLA CONTRA LA SUPERFICIE PARA RETIRAR MATERIAL DE PROTECCION Y DE ATAQUE QUIMICO HASTA QUE EL CONTORNO SUPERFICIAL DE LA PIEZA DE ADOPTE AL DEL MODELO.

PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE DISPOSITIVOS DE CIRCUITOS INTEGRADOS A GRAN ESCALA.

(01/09/1982). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC..

PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE DISPOSITIVOS DE CIRCUITOS INTEGRADOS A GRAN ESCALA. COMPRENDE LAS ETAPAS DE FORMAR UNA CAPA QUE HA DE SER MOLDEADA, DEPOSITAR UNA CAPA RESISTIVA POLIMERICA SOBRE LA CAPA A MODELAR; MODELAR LA CAPA RESISTIVA PARA DEFINIR CARACTERISTICAS EN LA MISMA; UTILIZAR LA CAPA RESISTIVA MODELADA COMO MASCARA, MORDENTAR EN SECO DICHA CAPA A MODELAR EN UNA ETAPA DE MORDENTADO ASISTIDO CON PLASMA.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS MEDIANTE MORDENTADO CON PLASMA.

(01/03/1980). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY INCORPORATED.

Procedimiento para la fabricación de dispositivos mediante mordentado con plasma que comprenden por lo menos una operación durante la cual el dispositivo en fabricación incluye una superficie de material que se ha de mordentar dentro de regiones selectivas, durante cuya operación el dispositivo o articulo en fabricación comprende una capa de elaboración superyacente con aberturas que corresponden en dichas regiones, según cuyo procedimiento el artículo se mantiene dentro de un ambiente de plasma contenido dentro de un aparato, siendo el plasma el resultado de la imposición de un campo eléctrico a través de una mezcla gaseosa entre dos electrodos.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS MEDIANTE MORDENTADO CON PLASMA.

(01/03/1980) Procedimiento para la fabricación de dispositivos mediante mordentado con plasma, incluyendo al menos una operación durante la cual el dispositivo a fabricar incluye una superficie de material de la cual al menos una porción ha de ser mordentada, mordentándose dicho dispositivo o artículo dentro de un ambiente de plasma contenido en el interior de un aparato, resultando el plasma de la imposición de un campo eléctrico a través de reactante gaseoso entre dos electrodos, comprendiendo el material a mordentar orza composición que con tiene silicio, y debiéndose principalmente el mordentado a la reacción química con el material a mordentar; caracterizado porque para mejorar el control sobre el mordentado de superficies que contienen silicio durante dicha fabricación, tal como la discriminación entre las composiciones que contienen…

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS MEDIANTE MORDENTADO CON PLASMA, CON REDUCCION DEL EFECTO DE CARGA.

(01/03/1980) Procedimiento para la fabricación de dispositivos mediante mordentado con plasma con reducción del efecto de carga, del tipo que comprende al menos una operación durante la cuál, el dispositivo comprende uno superficie de la cuál al menos partes se han de mordentar, y cuya superficie del dispositivo o artículo se mantiene dentro de un ambiente de plasma contenido en el interior de un aparato, siendo el plasma el resultado de la imposición de un campo eléctrico de RF a través de materia gaseosa entre dos electrodos, consistiendo la superficie que se ha de mordentar en una composición que manifiesta un efecto de carga cuando se mordente por un ambiente de plasma producido a través de una mezcla gaseosa consistente esencialmente en CF4 y 02, o CCl4, estando definido dicho efecto de carga como una variación en el régimen de…

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS MEDIANTE MORDENTADO CON PLASMA, DE SUPERFICIES RICAS EN ALUMINIO.

(01/03/1980) Procedimiento para la fabricación de dispositivos mediante mordentado con plasma, de superficies ricas en aluminio, del tipo que comprende por lo menos una operación durante la cuál el dispositivo én fabricación comprende una superficie de material de la cual por lo menos ciertas regiones elegidas se han de mordentar. cuyo dispositivo o artículo se mordente dentro de un ambiente de plasma contenido en el interior de un aparato, resultando el plasma de la imposición de un campo eléctrico a través de una mezcla gaseosa entre electrodos, comprendiendo el material que se mordente una composición elemental rica en aluminio, debiéndose principalmente el mordentado a reacción química con el material que se mordenta; caracterizado porque para mejorar el control sobre el perfil del mordentado del material rico en aluminio elemental,…

PROCEDIMIENTO DE GRABADO FOTOQUIMICO PARA METALES.

(16/02/1980) Procedimiento de grabado foto químico para metales, que estando concebido especialmente para permitir las operaciones de cromado duro mate y grabado sobre acero, cromado duro brillante y grabado sobre acero, grabado directo sobre acero y cromado duro sobre acero inoxidable o latón, esencialmente se caracteriza por constituirse mediante un proceso definido por quince etapas consecutivas y susceptible de ser complementado con una o varias etapas auxiliares, consistiendo dicho proceso en una primera etapa de reconocimiento visual y dimensional de las piezas a grabar, que es continuado por una operación de desbarbado de las mismas, sometiéndose en la tercera etapa a una fase de desengrase en cuba con circuito refrigerante, constando la cuarta etapa de dos partes, la primera de las cuales es una operación de chorreado…

PROCEDIMIENTO FOTO-QUIMICO-GALVANICO DE GRABADO EN BAJO RELIEVE SOBRE METALES.

(01/11/1979). Solicitante/s: MEDIAVILLA GONZALEZ,JOSE LUIS.

Procedimiento foto-químico-galvánico de grabado en bajo-relieve sobre metales, esencialmente caracterizado porque en una primera fase operativa se efectúa un deposito metálico sobre la superficie de las piezas a grabar, para en una segunda fase, sobre las aludidas piezas, depositar una emulsión fotosensible que, posteriormente, se expone con una película o transparencia y se revela, habiendose previsto que en una tercera fase operativa las piezas a grabar sean atacadas químicamente o galvanicamente, eliminando el deposito de metal de los puntos a grabar para, finalmente, en una cuarta y última fase operativa, efectuar la coloración química o galvánica de las partes oportunas de las piezas, con baños que no alteren el depósito metálico inicial y que proporcionan el color de grabado deseado.

PROCEDIMIENTO PARA MANTENER LIMPIAS LAS PLACAS DE AGUJEROS Y TOBERAS EN LA EXTRUSION DE POLIMEROS.

(01/04/1978). Solicitante/s: BAYER AG.

Resumen no disponible.

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .