Unidad de electrodo con una red eléctrica interna para el suministro de tensión de alta frecuencia y disposición de soporte para una instalación de tratamiento por plasma.

Unidad de electrodo (10, 101,... 109), apropiada para el tratamiento por plasma de una pluralidad de sustratos (14) en una cámara de tratamiento de una instalación de tratamiento por plasma,

con

- varios pares de electrodos de plasma a lo largo de una primera dirección, donde cada par de electrodos de plasma se compone de un primer electrodo de plasma (12) y un segundo electrodo de plasma (13), que están dispuestos en paralelo entre sí y opuestos entre sí y están aislados eléctricamente uno de otro, y es apropiado para encender un plasma en un espacio de plasma (15) entre el primer y el segundo electrodo de plasma (12, 13) del par de electrodos de plasma en presencia de una tensión definida,

- al menos una red de suministro eléctrica interna (17, 18, 20) que es apropiada para suministrar, dentro de la cámara de tratamiento, una primera tensión a cada primer electrodo de plasma (12) de la unidad de electrodo (10, 101...109) y una segunda tensión a cada segundo electrodo de plasma (13) de la unidad de electrodo (10, 101... 109), donde al menos una de las tensiones es una tensión con una frecuencia en el rango de 1 MHz a 100 MHz,

- un primer borne de conexión (A) y un segundo borne de conexión (B), que son apropiados para alimentar la primera tensión a través del primer borne de conexión (A) y la segunda tensión a través del segundo borne de conexión (B) en la al menos una red de suministro eléctrica interna (17, 18, 20),

caracterizada porque la al menos una red de suministro eléctrica interna (17, 18, 20) está diseñada conforme a la disposición de los electrodos de plasma (12, 13) en la unidad de electrodo (10, 101... 109) y la frecuencia de la primera tensión y/o la segunda tensión, donde la al menos una red de suministro eléctrica interna (17, 18, 20) presenta líneas de alimentación (174a-g, 184a-g) entre el primer o el segundo borne de conexión (A, B) y al menos un dos primeros y al menos dos segundos electrodos de plasma (12, 13) y/o líneas intermedias (172a-i, 182a-i, 212a-212i, 222a-222i) entre dos primeros o segundos electrodos de plasma adyacentes (2, 3) y respectivamente un punto de alimentación (173, 183, 213, 223) en un primer o segundo sistema (170, 180, 210, 220) a partir de líneas intermedias (172a-172i, 182a-182i, 212a-i, 222a-i) conectadas entre sí y respectivamente una línea de conexión (171, 181, 211, 221) entre el primer o el segundo borne de conexión (A, B) y el punto de alimentación asociado (173, 183, 213, 223) y el diseño de la red consiste en una disposición apropiada de las líneas (174a-g, 184a-g) y/o en dimensiones geométricas apropiadas de las líneas de alimentación (174a-g, 184a-g) y/o de las líneas intermedias (172a-i, 182a-i, 212a-212i, 222a-222i) y/o de las líneas de conexión (171, 181, 211, 221) y/o en un material apropiado de las líneas de alimentación (174a-g, 184a-g) y/o de las líneas intermedias (172a-i, 182a-i, 212a-i, 222a-i) y/o de las líneas de conexión (171, 181, 211, 221) y/o en una disposición apropiada del punto de alimentación (173, 183, 213, 223) en referencia a la unidad de electrodo (10, 101... 109) a lo largo de una primera dirección.