Litografía de Plumas de Polímero.
Un método para la impresión a escala submicrométrica de signos sobre una superficie de un sustrato,
que comprende:
revestir una disposición de puntas con una composición para dibujar, comprendiendo la disposición de puntas un polímero elastomérico compresible que comprende una pluralidad de puntas que no están en voladizo que tienen cada una un radio de curvatura menor de aproximadamente 1 μm, y un sustrato común que comprende una capa elastomérica que comprende un polímero elastomérico compresible, estando la disposición de puntas y el sustrato común fijados sobre un soporte rígido y siendo la disposición de puntas, sustrato común y soporte rígido juntos al menos traslúcidos;
poner en contacto la superficie del sustrato durante un primer período de tiempo de contacto y una primera presión de contacto con todas o sustancialmente todas las puntas revestidas de la disposición para depositar la composición para dibujar sobre la superficie del sustrato para formar signos sustancialmente uniformes con todas o sustancialmente todas las citadas puntas revestidas, teniendo los signos un tamaño de puntos o anchura de línea de menos de 1 μm.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2009/041738.
Solicitante: NORTHWESTERN UNIVERSITY.
Inventor/es: MIRKIN,CHAD,A, HUO,FENGWEI, ZHENG,ZIJIAN, ZHENG,GENGFENG.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- B82Y10/00 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B82 NANOTECNOLOGIA. › B82Y USOS O APLICACIONES ESPECIFICOS DE NANOESTRUCTURAS; MEDIDA O ANALISIS DE NANOESTRUCTURAS; FABRICACION O TRATAMIENTO DE NANOESTRUCTURAS. › Nano-tecnología para procesado, almacenamiento o transmisión de información, p. ej. cómputo cuántico o lógica de electrón suelto.
- B82Y40/00 B82Y […] › Fabricación o tratamiento de nanoestructuras.
- G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
PDF original: ES-2687650_T3.pdf
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