Procedimientos y aparatos para reactores de deposición.

Un procedimiento que comprende:

guiar vapor precursor a lo largo de al menos un conducto de alimentación al interior de una cámara de reacción de un reactor de deposición;

y

depositar material sobre las superficies de un lote de sustratos colocados verticalmente en la cámara de reacción mediante el establecimiento de un flujo vertical del vapor precursor en la cámara de reacción y hacer que entre en una dirección vertical entre los citados sustratos colocados verticalmente, de manera que el vapor precursor fluya desde el lado superior de un espacio de reacción al lado inferior del espacio de reacción esencialmente en la misma dirección vertical para lela a lo largo de cada una de las citadas superficies;

en el que el citado vapor precursor es alimentado a través de una tapa de la cámara de reacción al interior de un volumen de expansión y desde el volumen de expansión en una dirección vertical a través de una porción de distribución al interior de una parte de la cámara de reacción que contiene los citados sustratos.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/FI2009/050432.

Solicitante: Picosun Oy.

Nacionalidad solicitante: Finlandia.

Dirección: Tietotie 3 02150 Espoo FINLANDIA.

Inventor/es: LINDFORS,SVEN.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C23C16/44 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (aplicación de líquidos o de otros materiales fluidos sobre las superficies, en general B05; fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; mecanizado del metal por acción de una fuerte concentración de corriente eléctrica sobre un objeto por medio de un electrodo B23H; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; pinturas, barnices, lacas C09D; esmaltado o vidriado de metales C23D; medios para impedir la corrosión de materiales metálicos, las incrustaciones, en general C23F; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04; detalles de aparatos de sonda de barrido, en general G01Q; fabricación de dispositivos semiconductores H01L; fabricación de circuitos impresos H05K). › C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00). › caracterizado por el proceso de revestimiento (C23C 16/04 tiene prioridad).
  • C23C16/455 C23C 16/00 […] › caracterizado por el proceso utilizado para introducir gases en la cámara de reacción o para modificar las corrientes de gas en la cámara a reacción.
  • C30B25/00 C […] › C30 CRECIMIENTO DE CRISTALES.C30B CRECIMIENTO DE MONOCRISTALES (por sobrepresión, p. ej. para la formación de diamantes B01J 3/06 ); SOLIDIFICACION UNIDIRECCIONAL DE MATERIALES EUTECTICOS O SEPARACION UNIDIRECCIONAL DE MATERIALES EUTECTOIDES; AFINAMIENTO DE MATERIALES POR FUSION DE ZONA (afinamiento por fusión de zona de metales o aleaciones C22B ); PRODUCCION DE MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA (colada de metales, colada de otras sustancias por los mismos procedimientos o aparatos B22D; trabajo de materias plásticas B29; modificación de la estructura física de metales o aleaciones C21D, C22F ); MONOCRISTALES O MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA; TRATAMIENTO POSTERIOR DE MONOCRISTALES O DE MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA (para la fabricación de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas H01L ); APARATOS PARA ESTOS EFECTOS. › Crecimiento de monocristales por reacción química de gases reactivos, p. ej. crecimiento por depósito químico en fase vapor.
  • C30B25/14 C30B […] › C30B 25/00 Crecimiento de monocristales por reacción química de gases reactivos, p. ej. crecimiento por depósito químico en fase vapor. › Medios de introducción y evacuación de gases; Modificación de la corriente de gases reactivos.

PDF original: ES-2587394_T3.pdf

 

  • Fb
  • Twitter
  • G+
  • 📞

Patentes similares o relacionadas:

Herramienta con recubrimiento CVD, del 2 de Octubre de 2018, de WALTER AG: Procedimiento para la fabricación de una herramienta con un cuerpo base de metal duro, cermet, cerámica, acero o acero rápido y un recubrimiento de protección contra […]

Quemador de deposición por combustión remota y/o métodos relacionados, del 2 de Mayo de 2018, de Guardian Glass, LLC: Un sistema de deposición por combustión remota para su uso en la deposición, mediante deposición por combustión, de un revestimiento sobre un sustrato […]

Esclusa de gas así como dispositivo de revestimiento con una esclusa de gas, del 25 de Abril de 2018, de Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Wissenschaft E.V: Esclusa de gas (I) para la separación de dos compartimentos de gas (G1, G2), que comprende: a) al menos un cuerpo de admisión (K), que presenta al […]

CÁMARA PARA DEPÓSITO DE CAPAS ATÓMICAS, del 29 de Marzo de 2018, de CIC NANOGUNE: Cámara para depósito de capas atómicas, que comprende un cuerpo de la cámara y una tapa de la cámara, y que comprende adicionalmente al menos una placa […]

Recubrimiento DCL con una capa de entrada, del 13 de Septiembre de 2017, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Capa de materia dura sobre un componente, comprendiendo la capa de materia dura una capa DLC con una dureza de al menos 10 GPa, caracterizada por que sobre la capa de carbono […]

Recubrimiento decorativo de color negro intenso, del 13 de Septiembre de 2017, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Capa de materia dura sobre un componente, comprendiendo la capa de materia dura una capa DLC con una dureza de al menos 10 GPa y un índice de […]

Esclusa de gas, así como dispositivo de revestimiento con una esclusa de gas, del 16 de Agosto de 2017, de FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FORDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.: Esclusa de gas (I) para la separación de dos cámaras de gas (G1, G2), que comprende: a) al menos un cuerpo de admisión (K), que presenta […]

Formación de una estructura que comprende litio sobre un sustrato por ALD, del 31 de Mayo de 2017, de UNIVERSITETET I OSLO: Un método para la formación de una capa que comprende Li sobre un substrato mediante deposición de capa atómica que comprende las siguientes etapas: a) proporcionar un […]

‹‹ Método de tratamiento de nefropatía inducida por medio de contraste

Procedimiento para la esterilización de alimentos, particularmente de especias ››