Fuente de plasma.

Fuente de plasma (1) destinada al depósito de un revestimiento sobre un sustrato (9) y apta para estar unida a una fuente de energía (P) que comprende:



a) Un electrodo (2) que delimita una cavidad de descarga (3) que desemboca en una apertura (6) enfrente de la cual puede estar posicionado dicho sustrato, comprendiendo la sección transversal de dicho electrodo una primera y una segunda pared lateral (21, 22) situadas a ambos lados de un fondo (23, 24) provisto de una parte central (25) que sobresale en dicha cavidad de descarga, comprendiendo dicha parte central una primera y una segunda pared central (26, 27) y una punta (28) que une las dos paredes centrales,

b) un conjunto magnético (4) situado en la periferia de dicho electrodo y que comprende un conjunto de imanes unidos entre sí por un soporte magnético (46), comprendiendo cada uno de dichos imanes un polo expuesto girado hacia la cavidad de descarga y un polo protegido orientado hacia dicho soporte magnético, comprendiendo dicho conjunto de imanes:

i al menos un primer y un segundo imán lateral (41, 42), estando dicho primer imán lateral (41), respectivamente segundo imán lateral (42), dispuesto detrás de dicha primera pared lateral (21), respectivamente segunda pared lateral (22), cerca de dicha apertura (6), estando dichos dos imanes laterales orientados de tal forma que sus polos expuestos sean de la misma polaridad,

ii al menos un primer y un segundo imán central (43, 44), estando dicho primer imán central (43), respectivamente segundo imán central (44), dispuesto detrás de dicha primera pared central (26), respectivamente segunda pared central (27), estando dichos dos imanes centrales orientados de tal forma que su polo expuesto sea de polaridad inversa a la de los polos expuestos de los imanes laterales (41, 42), iii al menos un imán frontal (45), dispuesto detrás de dicha punta (28) y orientado de tal forma que su polo expuesto sea de la misma polaridad que la de los polos expuestos de los imanes laterales (41, 42),

c) un recinto eléctricamente aislante (5) dispuesto de modo que rodee el electrodo y los imanes sin tapar dicha apertura.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2013/052340.

Solicitante: Arcelormittal Investigación y Desarrollo SL.

Inventor/es: SILBERBERG, ERIC, LECLERCQ, VINCENT, DUMINICA,FLORIN DANIEL, DANIEL,ALAIN.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H01J37/32 SECCION H — ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).
  • H05H1/46 H […] › H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR.H05H TECNICA DEL PLASMA (tubos de haz iónico H01J 27/00; generadores magnetohidrodinámicos H02K 44/08; producción de rayos X utilizando la generación de un plasma H05G 2/00 ); PRODUCCION DE PARTICULAS ACELERADAS ELECTRICAMENTE CARGADAS O DE NEUTRONES (obtención de neutrones a partir de fuentes radiactivas G21, p. ej. G21B, G21C, G21G ); PRODUCCION O ACELERACION DE HACES MOLECULARES O ATOMICOS NEUTROS (relojes atómicos G04F 5/14; dispositivos que utilizan la emisión estimulada H01S; regulación de la frecuencia por comparación con una frecuencia de referencia determinada por los niveles de energía de moléculas, de átomos o de partículas subatómicas H03L 7/26). › H05H 1/00 Producción del plasma; Manipulación del plasma (aplicación de la técnica del plasma a reactores de fusión termonuclear G21B 1/00). › utilizando campos electromagnéticos aplicados, p. ej. energía a alta frecuencia o en forma de microondas (H05H 1/26 tiene prioridad).

PDF original: ES-2617962_T3.pdf

 

Fuente de plasma.

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