DISPOSITIVO QUIRÚRGICO DE PLASMA.

Un dispositivo quirúrgico de plasma para reducir el sangrado en el tejido vivo por los medios de un plasma de gas,

que comprende un sistema de generación de plasma que tiene un ánodo (1), un cátodo (8), y un canal (17) de suministro de gas para suministrar gas al sistema de generación de plasma, en donde el sistema de generación de plasma comprende al menos un electrodo (3, 5) el cual está dispuesto entre el mencionado cátodo (8) y el mencionado ánodo (1), y el sistema de generación de plasma que está encerrado en un armazón (12) de un material eléctricamente conductor, el cual está conectado al ánodo (1), en donde el mencionado armazón (12) forma el mencionado canal (17) de suministro de gas

Dispositivo quirúrgico de plasma.

Campo de la invención La presente invención está relacionada con un dispositivo quirúrgico de plasma tal como se define en la reivindicación 1, para reducir el sangrado en los tejidos vivos por los medios de un plasma de gas, que comprende un sistema de generación de plasma que tiene un ánodo, un cátodo y un canal de suministro de gas para el suministro de gas al sistema de generación de plasma, en donde el sistema de generación de plasma comprende al menos un electrodo, el cual está dispuesto entre el mencionado cátodo y el mencionado ánodo, y en donde el sistema de generación de plasma está incluido en un armazón de un material eléctricamente conductor, el cual está conectado al ánodo.

Antecedentes de la técnica Los dispositivos quirúrgicos de plasma significan aquí los dispositivos del tipo utilizado en cirugía para detener el sangrado por los medios de un plasma de gas. Dichos dispositivos de producción de plasma de gas tienen la forma de un bolígrafo que puede aplicarse fácilmente en una zona deseada, por ejemplo el tejido sangrante. En la punta del bolígrafo se encuentra presente un plasma de gas, cuya alta temperatura provoca la coagulación y un efecto hemostático mediante una capa necrosada que se forma como una corteza sobre el tejido adyacente a la punta.

El documento US-A-3434476 expone un escalpelo de plasma en donde el ánodo forma el armazón de un escalpelo con un canal de suministro de gas WO 96/06572 (Suslov) que expone un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la técnica anterior. Este dispositivo tiene un cuerpo eléctricamente conductor, el cual está conectado a un polo positivo de una fuente de energía que tiene un potencial positivo. Además de ello, el cuerpo está formado con un canal cilíndrico diseñado para calentar el gas de generación de plasma, cuyos canales están formados a partir de varias secciones que están aisladas eléctricamente entre si. El dispositivo tiene un cátodo que comprende un tubo eléctricamente conductor, en uno de cuyos extremos está montado un electrodo. El otro extremo del tubo está conectado a un polo negativo de una fuente de energía. Este extremo del tubo está conectado también a una unidad de suministro de gas para permitir al gas que sea suministrado al dispositivo a través de un tubo catódico.

Durante la utilización, el gas es suministrado al dispositivo a través del tubo catódico, mientras que al mismo tiempo se aplica n voltaje a través del polo positivo y negativo, de forma que se obtenga una diferencia de voltaje entre el cátodo y el cuerpo eléctricamente conductor. Inicialmente, la diferencia de voltaje genera un arco eléctrico, el cual calienta el gas suministrado para formar un plasma, el cual se mantiene entonces.

El documento US-A-3991764 (Incropera y otros) expone otro dispositivo de acuerdo con la técnica anterior. En este caso también el gas es suministrado a través de un tubo que está conectado eléctricamente al cátodo del dispositivo y discurre al mencionado cátodo. En este caso, el ánodo del dispositivo está formado por un cuerpo conductor, el cual a su vez está encerrado por un armazón. Además de ello, están provistas unas líneas de agua para refrigerar el dispositivo.

Un dispositivo adicional de este tipo está expuesto en el documento WO 92/19166 (Instituto Nauchno-Issledovatelsky) .

Debido a los recientes desarrollos en la cirugía abierta, esta tecnología quirúrgica se está utilizando menos y menos, mientras que la cirugía laparoscópica se está utilizando con más frecuencia. Esto implica nuevas demandas en los instrumentos utilizados, en particular tiene que ser posible fabricar unos instrumentos relativamente pequeños. De forma similar, los requisitos de los requisitos de alta eficiencia en la atención médica han conducido al abandono de los instrumentos que requerían unos procesos especiales, por ejemplo la esterilización después de cada uso.

El objeto de la presente invención es por tanto el poder proporcionar un dispositivo quirúrgico de plasma que satisfaga uno o más de los requisitos expuestos anteriormente.

Sumario de la invención El objeto anterior se consigue por los medios de un dispositivo tal como se ha descrito a modo de la introducción, en donde el armazón forma el mencionado canal de suministro de gas.

Esta construcción permite unos instrumentos menos voluminosos a diseñar, lo cual facilita su uso en la cirugía laparoscópica. Además ello permite una fabricación más eficiente de los instrumentos, haciendo ello posible el poder disponer de los mismos como instrumentos rápidamente esterilizables y disponibles.

En la forma adecuada, el armazón forma además del mencionado canal de suministro de gas, un canal adicional. Este canal puede ser utilizado para distintos fines, de la forma conveniente para permitir que un fluido circule a su través. Por ejemplo, el canal adicional puede utilizarse para suministrar o descargar un refrigerante para eliminar líquidos de una zona en donde se ejecute la cirugía, etc.

Preferiblemente, el armazón forma además del mencionado canal de suministro de gas, al menos dos canales adicionales. Este diseño es particularmente simple y de ahorro de espacio. Ventajosamente, el canal de suministro de gas puede estar montado centralmente en el armazón, y los canales adicionales dispuestos a lo largo de la circunferencia del canal de suministro de gas. En este caso, los canales adicionales son preferiblemente canales de refrigeración para suministrar y descargar respectivamente un refrigerante.

Así pues, una forma de describir ello es que el armazón forma una porción de suministro, en donde el mencionado canal de suministro de gas está formado, y una porción de generación del plasma, en donde se proporciona el mencionado sistema de generación del plasma. Esto significa que la sección transversal del armazón en la porción del suministro de gas puede ser tal que forme uno o más canales, mientras que la sección transversal en la porción de generación del plasma es tal que permite el sistema de generación del plasma. La longitud de las distintas porciones puede variar dependiendo de la aplicación para la cual tiene objeto el dispositivo.

El sistema de generación de plasma comprende, en la forma conocida, un cátodo que está conectado a un conductor para la conexión a una fuente de energía eléctrica. Preferiblemente, el mencionado conductor se extiende a través de cualquiera de los canales en el mencionado armazón tubular, adecuadamente a través de uno de los canales de suministro de gas dispuestos centralmente. El gas circulará entonces en el conductor hacia el sistema de generación del plasma y el cátodo.

El sistema de generación de plasma comprende además al menos un electrodo, el cual está montado entre el mencionado cátodo y el ánodo. Preferiblemente, el sistema de generación de plasma comprende al menos dos electrodos, los cuales están aislados entre si mediante unos medios de aislamiento. Mediante el uso de dos electrodos que están aislados entre si, se reduce el riesgo de arcos dobles eléctricos no deseables que pudieran generarse en el sistema. El electrodo o electrodos y cualesquiera aisladores, son adecuadamente de una sección y de forma de un canal en donde el plasma se calienta entre el cátodo y el ánodo.

Los electrodos, y cualesquiera aisladores, están montados convenientemente en unos medios de retención de un material eléctricamente aislante. Para asegurar una fácil fabricación y una construcción fiable, los electrodos, y cualesquiera aislantes, pueden ventajosamente estar prensados en los mencionados medios de fijación.

Además de ello, el fijador del cátodo puede adecuadamente estar montado de una forma tal en los medios de fijación que el cátodo esté posicionado concéntricamente y en forma espaciada con un electrodo más cercano al cátodo, y ventajosamente en donde el cátodo está montado en los medios de fijación con la ayuda de un portacátodos que esté presionado a los medios de retención.

De esta forma, los medios de retención forman una unidad de conjunto conveniente para mantener los electrodos y aisladores conjuntamente para asegurar que el cátodo se mantenga en la posición correcta. Para prevenir que los medios de fijación no se dañen debido a las altas temperaturas presentes alrededor del cátodo (hasta 3200ºC) , se encuentra montado un tubo aislante de un material cerámico en el interior de los medios de... [Seguir leyendo]

1. Un dispositivo quirúrgico de plasma para reducir el sangrado en el tejido vivo por los medios de un plasma de gas, que comprende un sistema de generación de plasma que tiene un ánodo (1) , un cátodo (8) , y un canal (17) de suministro de gas para suministrar gas al sistema de generación de plasma, en donde el sistema de generación de plasma comprende al menos un electrodo (3, 5) el cual está dispuesto entre el mencionado cátodo (8) y el mencionado ánodo (1) , y el sistema de generación de plasma que está encerrado en un armazón (12) de un material eléctricamente conductor, el cual está conectado al ánodo (1) , en donde el mencionado armazón (12) forma el mencionado canal (17) de suministro de gas.

2. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 1, en donde el mencionado armazón (12) , en adición al mencionado canal (17) de suministro de gas, forma al menos un canal adicional (15, 16) .

3. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 2, en donde el mencionado armazón (12) , además del mencionado canal (17) de suministro de gas, forma al menos dos canales adicionales (15, 16) .

4. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 3, en donde el mencionado canal (17) de suministro de gas está dispuesto en el centro del armazón (12) y los canales adicionales (15, 16) están dispuestos a lo largo de la circunferencia del canal (17) de suministro de gas.

5. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 3 ó 4, en donde los mencionados canales (15, 16) adicionales son canales de refrigeración para suministrar y descargar un refrigerante.

6. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el armazón (12) forma una porción de suministro, en donde el canal de suministro de gas mencionado (17) está formado, y una porción de generación de plasma, en sonde está provisto el sistema de generación de plasma mencionado.

7. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el mencionado cátodo (8) está conectado a un conductor (11) para la conexión a una fuente de voltaje.

8. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 7, en donde el mencionado conductor (11) está adaptado para extenderse a través de uno de los canales (15, 16, 17) en el mencionado armazón (12) .

9. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 8, en donde el conductor (11) se extiende a través de un canal (17) de suministro de gas dispuesto en el centro del mencionado armazón (12) .

10. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el mencionado sistema de generación de plasma comprende al menos dos electrodos (3, 5) los cuales están aislados entre si mediante un aislante (4) .

11. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde al menos un mencionado electrodo (3, 5) está montado en unos medios de retención (7) hechos de un material eléctricamente aislante.

12. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 11, en donde el mencionado al menos un electrodo (3, 5) y el aislante (4) si lo hubiera, están presionados en los mencionados medios de retención (7) .

13. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 11 ó 12, en donde el mencionado cátodo

(8) está dispuesto en los medios de retención (7) concéntricamente y espaciado con respecto a un electrodo (5) más cercano al cátodo (8) .

14. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 13, en donde el mencionado cátodo (8) está montado en los medios de retención (7) por los medios de un sujetador de cátodo (9) , el cual está presionado a los medios de retención (7) .

15. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 13 ó 14, en donde un tubo aislante (6) de un material cerámico está montado sobre el interior de los medios de fijación (7) para encerrar el cátodo (8) .

16. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 13-15, en donde los medios de fijación (7) tienen un extremo de conexión, el cual está conectado al mencionado canal (17) de suministro de gas, de forma que el gas pase a través de los medios de fijación (7) al cátodo (8) y después a través al menos del mencionado electrodo (3, 5) hacia el ánodo (1) .

17. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 16, en donde los medios de fijación (7) tienen una forma exterior tal que se permita que circule un fluido respectivamente desde y hacia los canales

adicionales (15, 16) en un espacio formado entre los medios de fijación (7) con el mencionado electrodo (5, 3) y aislantes (4) si los hubiera, y la pared interna del armazón (12) en los medios de fijación (7) .

18. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde una junta (2) está dispuesta entre el ánodo (1) y el electrodo (3) más cercano al ánodo (1) , y en donde el sistema de generación de plasma está dispuesto de forma tal en el armazón (12) que las fuerzas de compresión predeterminadas se están aplicando a la junta (2) , de forma que se establezca una junta estanca al agua entre el armazón (12) y el ánodo (1) , y asegurando el contacto eléctrico intermedio.

19. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el mencionado armazón (12) está rodeado por un primer anillo de contacto (27) en contacto eléctrico con el mismo, cuyo anillo de contacto está conectado a tierra.

20. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 19, en donde el mencionado armazón (12) está rodeado por un segundo anillo de contacto (24) , el cual es capaz de ser utilizado para controlar constantemente la conexión a tierra del armazón (12) .

21. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 2-19, en donde se proporciona un dispositivo de conexión para conectar el suministro de gas al mencionado canal (17) de suministro de gas y cualquier función deseada a los mencionados canales adicionales (15, 16) .

22. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 21, en donde el mencionado dispositivo de conexión tiene un extremo de salida, el cual define los canales de conexión para obtener un encaje estanco a los fluidos en el mencionado canal de suministro de gas (17) y canales adicionales (15, 16) , y un extremo de entrada provisto con acoplamientos de mangueras (18, 19, 20) para conectar las mangueras a cada uno de los mencionados canales de conexión.

23. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 21 ó 22, en donde el mencionado dispositivo de conexión tiene también una abertura de conducción a través de la cual un conductor del cátodo (11) se extiende para la conexión a una fuente de voltaje.

24. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones 2-23, en donde el mencionado armazón (12) está conectado a unas mangueras para suministrar gas y cualquier función deseada a los canales adicionales, cuyas mangueras estén conectadas en su otro extremo a un conector para la conexión a una unidad de suministro.

25. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que comprende una porción de asa que al menos parcialmente encierra el mencionado armazón (12) para permitir la manipulación fácil del dispositivo.

26. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 20, que comprende un circuito adaptado para distinguir el tipo de dispositivo por los medios de la resistencia de un componente de indicación (25) .

27. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que tiene un primer botón (26) para conmutar el sistema de generación de plasma a encendido y apagado.

28. Un dispositivo quirúrgico de plasma de acuerdo con la reivindicación 27, el cual para obtener un incremento de la fiabilidad tiene un segundo botón (26) .