COMPOSICION FOTOSENSIBLE; REVELABLE EN MEDIO ACUOSO; CON PROPIEDADES DE ADHESION Y DECAPADO MEJORADAS.
LA INVENCION DESCRIBE UNA COMPOSICION FORMADORA DE IMAGEN FOTOGRAFICA Y CON ACCION NEGATIVA QUE COMPRENDE:
(A) ENTRE 30 Y 80% EN PESO BASADO EN EL PESO TOTAL DE (A) + (B) DE UN POLIMERO LIGANTE QUE TIENE ACIDO FUNCIONALMENTE SUFICIENTE PARA HACER QUE ESTA COMPOSICION FORMADORA DE IMAGEN FOTOGRAFICA PUEDA REVELARSE EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA, (B) ENTRE UN 20 Y UN 70 % EN PESO BASADO EN EL PESO TOTAL DE (A) + (B) DE UN COMPUESTO AL , BE ETILENICAMENTE INSATURADOS, NO GASEOSOS Y POLI MERIZABLES POR ADICION QUE PUEDE FORMAR UN ALTO POLIMERO MEDIANTE LA POLIMERIZACION MEDIANTE ADICION DE UNA CADENA DE PROPAGACION INICIADA DE RADICAL LIBRE AL MENOS UN 50% EN MOLES DE MITADES AL , BE ETILENICAMENTE INSATURADAS DE (B) QUE SON MIT ADES METACRILICAS, Y (C) ENTRE 0,1 Y 20% EN PESO BASADO EN EL PESO TOTAL DE (A) + (B) DE UN SISTEMA QUIMICO FOTOINICIDADOR. EL COMPUESTO FOTOPOLIMERIZABLE (B) COMPRENDE ENTRE 1 Y 70% EN PESO CON RESPECTO AL TOTAL DE (A) + (B), UN OLIGOMERO DE URETANO, QUE TIENE, ADEMAS DE INSATURACION AL , BE ETILENICA, LA FUNCIONALIDAD DEL ACIDO CARBOXILICO.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: NICHIGO-MORTON CO LTD.
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: NITTOBO BUILDING, 8-1 YAESU 2-CHOME,CHUO-KU, TOKYO 104.
Inventor/es: BARR, ROBERT, LUNDY, DANIEL E., WHEELER, STEPHEN.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 4 de Agosto de 2004.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/027 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).
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