UN PROCESO MEJORADO PARA FABRICAR GOMAS DE MASCAR LIBRES DE CERA, CON TIEMPOS DE ENDURECIMIENTO RAPIDOS.
SE PRESENTA UN METODO PARA PRODUCIR RAPIDAMENTE UN PRODUCTO FINAL DE GOMA DE MASCAR SIN CERA.
LA GOMA DE MASCAR SE PRODUCE UTILIZANDO UNA BASE DE GOMA QUE NO CONTIENE O NO TIENE SUSTANCIALMENTE CERA. LA BASE DE LA GOMA INCLUYE DE UN 20 APROXIMADAMENTE A UN 60 POR CIENTO EN PESO APROXIMADAMENTE DE UN ELASTOMERO SINTETICO, DE UN 0 A UN 30 POR CIENTO EN PESO APROXIMADAMENTE DE UN ELASTOMERO NATURAL, DE UN 5 APROXIMADAMENTE A UN 55 POR CIENTO EN PESO APROXIMADAMENTE DE UN PLASTIFICANTE DE ELASTOMEROS, DE UN 4 APROXIMADAMENTE A UN 40 POR CIENTO EN PESO APROXIMADAMENTE DE UNA SUSTANCIA DE RELLENO, DE UN 5 APROXIMADAMENTE A UN 40 POR CIENTO APROXIMADAMENTE DE UN ABLANDADOR, Y CANTIDADES OPCIONALES MENORES DE INGREDIENTES MISCELANEOS TALES COMO COLORES, ANTIOXIDANTES, ETC. SE PRESENTAN COMPOSICIONES PARA LAS GOMAS DE MASCAR CUYAS COMPOSICIONES SE ABLANDAN RAPIDAMENTE DURANTE LA PRODUCCION Y CUYAS GOMAS DE MASCAR PROPORCIONAN UN MORDISCO BLANDO INICIAL Y QUE AUN ASI SE PRODUCEN DE FORMA CON MAYOR RENDIMIENTO QUE LAS GOMAS DE MASCAR QUE CONTIENEN CERA COMPARABLES.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: WM. WRIGLEY JR. COMPANY.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 410 NORTH MICHIGAN AVENUE,CHICAGO ILLINOIS 60611.
Inventor/es: SYNOSKY, STEVEN P., REED, MICHAEL A., LAUGHLIN, KENNETH W.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 2 de Marzo de 1993.
Fecha Concesión Europea: 16 de Enero de 2002.
Clasificación Internacional de Patentes:
- A23G3/30
Países PCT: Austria, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Italia, Luxemburgo, Países Bajos, Portugal, Finlandia, Rumania, Oficina Europea de Patentes, Australia, Barbados, Bulgaria, Brasil, Canadá, República Checa, Hungría, Japón, Kazajstán, Sri Lanka, Madagascar, Mongolia, Malawi, Noruega, Nueva Zelanda, Polonia, Federación de Rusia, Sudán, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Senegal, Chad, Togo, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, República Popular Democrática de Corea.
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