COMPOSICION FOTOSENSIBLE.
LA INVENCION SE REFIERE A COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES CAPACES DE SER REVELADAS COMO POSITIVOS.
LAS COMPOSICIONES NORMALES MUESTRAN UNA FOTOSENSIBILIDAD NO SUFICIENTE O NO SON ADECUADAS PARA USARSE EN SUPERFICIES DE COBRE, POR EJEMPLO PLACAS DE CIRCUITOS IMPRESOS, YA QUE LAS PARTES DE LAS CAPAS ILUMINADAS DE LA COMPOSICION NO PUEDEN EXTRAERSE POR COMPLETO DURANTE EL REVELADO, DE TAL FORMA QUE SE PRODUCEN PROBLEMAS DURANTE LA METALIZACION O ESTAMPACION SUBSIGUIENTES. EN LAS COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES CONFORME A LA INVENCION NO SE OBSERVAN ESTOS INCONVENIENTES. SE DESCRIBEN DIFERENTES COMPOSICIONES QUE CONTIENEN GENERADORES FOTO-ACIDOS Y UNA RESINA POLIMERICA CON GRUPOS LATERALES QUE PUEDEN ESCINDIRSE CON ACIDOS, LA CUAL ESTA COMPUESTA MEDIANTE POLIMERIZACION POR AL MENOS TRES DIFERENTES MONOMEROS DE ACRILATO O METACRILATO.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: ERASMUSSTRASSE 20, 10553 BERLIN.
Inventor/es: MEYER, HEINRICH, PIRRI, ROSANGELA, MEUNIER, GILLES, VERZARO, FRANCIS, URRUTIA DESMAISON, GONZALO.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 27 de Noviembre de 1996.
Fecha Concesión Europea: 14 de Febrero de 2001.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/039 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos macromoleculares fotodegradables, p. ej. reservas positivas sensibles a los electrones (G03F 7/075 tiene prioridad; quinonadiazidas macromoleculares G03F 7/023).
Países PCT: Austria, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Países Bajos, Suecia, Oficina Europea de Patentes.
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