PROCEDIMIENTO DE FOTOESTRUCTURACION.
UN PROCEDIMIENTO PARA ESTRUCTURACION EN EL CAMPO SUBMICRON ESTA CARACTERIZADO POR LOS SIGUIENTES PASOS:
SE REUNE UNA CAPA FOTORESISTENTE DE UN COMPONENTE DE POLIMERO CON GRUPOS FUNCIONALES QUE ESTAN CAPACITADOS PARA UNA REACCION CON AMINAS PRIMARIAS O SECUNDARIAS Y GRUPOS IMIDOS QUE BLOQUEAN EL NITROGENO, DE UN FOTOINICIADOR LIBERADO POR LA EXPOSICION DE UN ACIDO Y DE UN DISOLVENTE APROPIADO; ENTE SE SECA; LA CAPA FOTORESISTENTE EXPUESTA SE SOMETE A UN TRATAMIENTO DE TEMPERATURA ; ESTRUCTURA FOTORESISTENTE; RATA CON UN AGENTE QUIMICO QUE CONTENGA UN AMINO PRIMARIO O SECUNDARIO; EN EL REVELADO SE GRADUA UN NIVEL DE OSCURIDAD DEFINITIVO EN UN CAMPO ENTRE 20 Y 100 NM.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: WITTELSBACHERPLATZ 2,80333 MUNCHEN.
Inventor/es: BIRKLE, SIEGFRIED, LEUSCHNER, RAINER, KUHN, EBERHARD, BECK, JURGEN, DIPL.-CHEM., SEBALD, MICHAEL, DR., SEZI, RECAI, DR., AHNE, HELLMUT, DR..
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 23 de Abril de 1997.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/039 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos macromoleculares fotodegradables, p. ej. reservas positivas sensibles a los electrones (G03F 7/075 tiene prioridad; quinonadiazidas macromoleculares G03F 7/023).
- G03F7/40 G03F 7/00 […] › Tratamiento tras la eliminación según la imagen, p. ej. esmaltado.
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