CAPA FOTOPROTECTORA EN SECO QUE OPERA EN POSITIVO DE ALTA RESOLUCION.
COMPOSICION DE UNA CAPA PROTECTORA DE LA LUZ QUE ACTUA DE POSITIVO (P.
EJ. UNA PELICULA SECA EN MONOCAPA) QUE ES DESPRENDIBLE EN SOLUCION ACUOSA ALCALINA, COMPUESTA DE UN GENERADOR FOTOACIDO Y UN SISTEMA AGLUTINANTE DE RESINA TRANSPARENTE AL UV, QUE PERMITE UN FOTOBLANQUEADO EFICIENTE DEL COMPONENTE FOTOACTIVO. UNA RESINA CELULOSICA CON UN GRUPO FUNCIONAL ACIDO PUEDE SER LA UNICA RESINA AGLUTINANTE, AUNQUE OPCIONALMENTE PUEDE USARSE UNA RESINA ACRILICA ACIDA. EL RECUBRIMIENTO SECO ES FLEXIBLE Y PUEDE USARSE COMO CAPA DE PROTECCION EN PROCESOS DE AGUAFUERTE Y PLAQUEADO.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: MORTON INTERNATIONAL, INC..
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 100 NORTH RIVERSIDE PLAZA, RANDOLPH STREET AT THE RIVER,CHICAGO, ILLINOIS 60606.
Inventor/es: KOES, THOMAS A., BELTRAMO, GRIEG B.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 16 de Agosto de 2000.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/004 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
- G03F7/039 G03F 7/00 […] › Compuestos macromoleculares fotodegradables, p. ej. reservas positivas sensibles a los electrones (G03F 7/075 tiene prioridad; quinonadiazidas macromoleculares G03F 7/023).
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