BARNIZ DE FOTO.
UNA FOTORESISTA PARA LA GENERACION DE UNA ESTRUCTURA EN EL CAMPO DE LOS SUBMICRONES CONTIENE LOS SIGUIENTES COMPONENTES:
RGANICO Y GRUPOS DE ACIDO ORGANICO TERCIARIO-BUTILESTER , FOTOINICIADOR QUE LIBERA UN ACIDO DURANTE LA EXPOSICION, Y
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: WITTELSBACHERPLATZ 2,80333 MUNCHEN.
Inventor/es: BIRKLE, SIEGFRIED, SEBALD, MICHAEL, DR., SEZI, RECAI, DR., AHNE, HELLMUT, DR., RAINER, LEUSCHNER, DR., BORNDORFER, HORST, DIPL.-CHEM.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 14 de Agosto de 1996.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/039 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos macromoleculares fotodegradables, p. ej. reservas positivas sensibles a los electrones (G03F 7/075 tiene prioridad; quinonadiazidas macromoleculares G03F 7/023).
- G03F7/075 G03F 7/00 […] › Compuestos que contienen silicio.
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