SISTEMAS DE POLIMEROS Y COMPOSICIONES LIMPIADORAS QUE LOS COMPRENDEN.

Un sistema polimérico que comprende: A.) un polímero aniónico seleccionado del grupo que consiste en

(i) polímeros aniónicos que comprenden: a.) un primer resto derivado de monómeros C3-C8 monoetilénicamente insaturados que comprenden al menos un grupo ácido carboxílico, sales de dichos monómeros y mezclas de los mismos; y b.) un segundo resto seleccionado del grupo que consiste en: (1) restos derivados de monómeros insaturados modificados que tienen las fórmulas R - Y - L y R - Z en donde: i.) R se selecciona del grupo que consiste en C(X)H=C(R 1 )- en donde R 1 es H o alquilo C1-C4; y X es H, CO2H o CO2R2 en donde R2 es hidrógeno, metales alcalinos, metales alcalinotérreos, bases amonio y amina, alquilo C1-C20 saturado, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; ii.) Y se selecciona del grupo que consiste en -CH2-, -CO2-, -OCO- y -CON(R a )-, -CH2OCO-; en donde R a es H o alquilo C1-C4; iii.) L se selecciona del grupo que consiste en hidrógeno, metales alcalinos, metales alcalinotérreos, bases amonio y amina, alquilo C1-C20 saturado, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; y iv.) Z se selecciona del grupo que consiste en arilo C6-C12 y arilalquilo C7-C12; y (2) restos que tienen la fórmula J-G-D en donde: i.) J se selecciona del grupo que consiste en C(X)H=C(R1)- en donde R1 es H o alquilo C1-C4; X es H, CO2H o CO2R2 en donde R2 es hidrógeno, metales alcalinos, me-tales alcalinotérreos, bases amonio y amina, alquilo C2-C20 saturado, arilo C6-C12, alquilarilo C7-C20; ii.) G se selecciona del grupo que consiste en alquilo C1-C4, -O-, -CH2O-, -CO2-. iii.) D se selecciona del grupo que consiste en -CH2CH(OH)CH2O(R 3 O)dR4; -CH2CH[O(R 3 O)dR 4 ]CH2OH; -CH2CH(OH)CH2NR 5 (R 3 O)dR 4 ; -CH2CH[NR 5 (R 3 O)dR 4 ]CH2OH y mezclas de los mismos; en donde R 3 se selecciona del grupo que consiste en etileno, 1,2-propileno, 1,3-propileno, 1,2- butileno, 1,4-butileno y mezclas de los mismos; R 4 es una unidad de protección terminal seleccionada del grupo que consiste en H, alquilo C1-C4, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; R 5 se selecciona del grupo que consiste en H, alquilo C1-C4, arilo C6-C12 y alquilarilo C7-C20; y el subíndice d es un número entero de 1 a 100; (ii) copolímeros de injerto que comprenden un primer resto derivado de monómeros C3-C8 monoetilénicamente insaturados que comprenden al menos un grupo ácido carboxílico, sales de dichos monómeros y mezclas de los mismos, estando dichos primeros restos injertados en un poli(óxido de alquileno) de C1-C4 carbonos y mezclas de los mismos; y B.) un polímero de poliamina modificada seleccionado del grupo que consiste en polímeros que tienen las siguientes fórmulas: (Ver fórmula) y mezclas de los mismos.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: THE PROCTER & GAMBLE COMPANY.

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: ONE PROCTER & GAMBLE PLAZA,CINCINNATI, OHIO 45202.

Inventor/es: SCHEIBEL, JEFFREY JOHN, SADLOWSKI, EUGENE, STEVEN, METROT,VERONIQUE SYLVIE, ORTIZ,RAFAEL.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 30 de Abril de 2008.

Clasificación PCT:

  • SECCION C — QUIMICA; METALURGIA > ACEITES, GRASAS, MATERIAS GRASAS O CERAS ANIMALES... > COMPOSICIONES DETERGENTES; UTILIZACION DE UNA SOLA... > Otros compuestos que entran en las composiciones... > C11D3/37 (Polímeros)
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SISTEMAS DE POLIMEROS Y COMPOSICIONES LIMPIADORAS QUE LOS COMPRENDEN.