MEDIOS PARA CONTROLAR LA EROSION Y LA PULVERIZACION DEL OBJETIVO EN UN MAGNETRON.

Magnetrón de pulverización (10) para la pulverización sobre un substrato,

teniendo el magnetrón un objetivo (4) cilíndrico giratorio y un conjunto de imanes estacionarios (20), estando adaptado dicho conjunto (20) de imanes para producir una pista de carrera de plasma sobre la superficie de dicho objetivo (4) en combinación con un campo eléctrico cruzado entre el objetivo y el substrato, teniendo la pista de carreras alargada unas pistas prácticamente paralelas sobre una parte substancial de su longitud y estando cerradas en cada extremo por partes terminales, caracterizado porque cada parte terminal de la pista de carrera de plasma puede representarse prácticamente por una elipse y el espaciado entre las pistas de dicha pista de carrera a través de la elipse en una primera dirección perpendicular a un eje longitudinal de la pista de carreras alargadas es mayor que la distancia comprendida entre las pistas prácticamente paralelas a lo largo de una dirección paralela a la primera dirección para efectuar materialmente la pulverización sobre un substrato, comprendiendo además el conjunto de imanes: una sección central alargada (22) situada dentro del objetivo cilíndrico (4) y que genera un campo magnético asociado a una primera polaridad magnética; una sección periférica (24) situada dentro del objetivo cilíndrico y dispuesta en torno a la sección central alargada (22) de manera que se definen unos espacios (31) entre la sección periférica (24) y la sección central alargada (22), generando la sección periférica (24) un campo magnético asociado a una segunda polaridad magnética, caracterizado porque la sección central alargada (22) y la sección periférica (24) definen un campo magnético destinado a encerrar la pista de carrera, y el citado magnetrón comprende además: medios para producir la rotación relativa entre el objetivo cilíndrico y el conjunto de imanes.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: SINVACO N.V.

Nacionalidad solicitante: Bélgica.

Dirección: KARREWEG 20,9870 ZULTE.

Inventor/es: LIEVENS, HUGO, DE BOSSCHER, WILMERT.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 14 de Abril de 1999.

Fecha Concesión Europea: 7 de Diciembre de 2005.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H01J37/34 ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › que funcionan por pulverización catódica (H01J 37/36 tiene prioridad).

Países PCT: Bélgica, Suiza, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Finlandia, Chipre, Oficina Europea de Patentes.

MEDIOS PARA CONTROLAR LA EROSION Y LA PULVERIZACION DEL OBJETIVO EN UN MAGNETRON.

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