Sistema de capa de vacío y tratamiento con plasma, y procedimiento para recubrir un sustrato.
Un sistema de tratamiento con plasma y recubrimiento de vacío que comprende:
un conjunto de plasma (16) dispuesto de modo tal que mira a un sustrato (22), incluyendo el conjunto de plasma: una diana magnetrónica (Ts) que tiene una superficie diana;
un cátodo magnetrónico con un borde largo, un borde corto y un polo magnético, estando dicho polo magnético dispuesto para formar, en el uso, un circuito de pulverización catódica dentro de la diana magnetrónica (Ts) y una barrera electromagnética;
un ánodo (As) conectado eléctricamente al cátodo magnetrónico;
un suministro de energía de cátodo magnetrónico (Ps) conectado al cátodo magnetrónico y al ánodo;
al menos dos electrodos de descarga de arco remoto (44; 28);
un suministro de energía de descarga de arco remoto conectado entre los al menos dos electrodos de descarga de arco remoto (44; 28), y dispuesto para generar al menos una descarga de arco remoto separada del cátodo magnetrónico y adyacente a la diana magnetrónica, de modo tal que, en el uso, la descarga de arco remoto se extienda a lo largo de una dirección paralela al borde largo del cátodo magnetrónico, y de modo tal que, en el uso, la descarga de arco remoto quede confinada dentro de un volumen de arco remoto adyacente a la diana magnetrónica, estando el volumen de arco remoto definido por la superficie de la diana en un lado y la barrera electromagnética en todos los otros lados;
una campana de cátodo y una de ánodo, de la descarga de arco remoto (18b), que se extiende sobre la descarga de arco remoto y por el borde corto del cátodo magnetrónico; y
una campana de ánodo de descarga de arco remoto (8b); comprendiendo el sistema de tratamiento con plasma y recubrimiento de vacío, además:
un sistema magnético dispuesto para crear líneas de campo magnético que, en el uso, se extienden dentro de y se confinan en un plasma en frente del conjunto del plasma y el sustrato.
Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E14190737.
Solicitante: VAPOR TECHNOLOGIES, INC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 6400 DRY CREEK PARKWAY LONGMONT CO 80503 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.
Inventor/es: GOROKHOVSKY,VLADIMIR, GRANT,WILLIAM, TAYLOR,EDWARD, HUMENIK,DAVID.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- C23C14/35 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento. › por aplicación de un campo magnético, p. ej. pulverización por medio de un magnetrón.
- H01J37/32 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).
- H01J37/34 H01J 37/00 […] › que funcionan por pulverización catódica (H01J 37/36 tiene prioridad).
PDF original: ES-2792911_T3.pdf
Patentes similares o relacionadas:
Dispositivo de ablación por chispas y procedimiento de generación de nanopartículas, del 17 de Junio de 2020, de VSParticle Holding B.V: Un dispositivo de ablación por chispas de generación de nanopartículas provisto de una entrada/salida para el gas y que comprende un generador de chispas […]
Dispositivo de recubrimiento por plasma post-descarga para sustratos con forma de alambre, del 29 de Abril de 2020, de Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST): Dispositivo de recubrimiento de plasma post-descarga para un sustrato con forma de alambre , que comprende: - un electrodo tubular interno sobre una pared tubular […]
Proceso de plasma y reactor para el tratamiento termoquímico de la superficie de piezas metálicas, del 19 de Febrero de 2020, de Universidade Federal De Santa Catarina (UFSC): Proceso para el tratamiento superficial termoquímico de piezas metálicas, en un reactor (R) de plasma que tiene una cámara de reacción (RC) […]
Fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma y un procedimiento de fabricación de un artículo por el uso de la fuente de plasma, del 19 de Febrero de 2020, de AGC Inc: Una fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma, que comprende: un grupo de electrodos que incluye cuatro electrodos, que son un primer electrodo […]
Dispositivo de revestimiento para el revestimiento de un sustrato, así como un procedimiento para el revestimiento de un sustrato, del 15 de Enero de 2020, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento […]
Fuente de evaporación por arco, del 18 de Diciembre de 2019, de KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.): Una fuente de evaporación por arco, incluyendo: un blanco a fundir y evaporar de una superficie de extremo delantero (3a) del blanco […]
Método para el revestimiento de un sustrato con una capa de polímero, del 11 de Diciembre de 2019, de EUROPLASMA NV: Un método para revestir un sustrato con una capa de polímero, donde dicho método comprende la localización de un primer juego de electrodos (14, […]
CAPA DE MATERIAL DURO, del 22 de Febrero de 2012, de OERLIKON TRADING AG, TRUBBACH: Una capa de material duro como una capa de PVD de arco con conglomerados reaccionados de manera incompleta que forman las partes metálicas […]