PLANCHAS DE IMPRESION DE IMAGENES EN RELIEVE COMPUESTAS.
Procedimiento para preparar una plancha impresora compuesta, que comprende los siguientes pasos:
proporcionar una lámina portadora presentando una primera y una segunda caras principales opuestas con un área superficial definida y disponiendo la primera cara de por lo menos un elemento fotoendurecible, presentando una primera y una segunda caras principales opuestas con un área superficial definida dispuestas sobre la anterior lámina portadora, presentando dicho elemento fotoendurecible una superficie lateral que se extiende entre dichas primera y segunda caras; aplicar a dicha superficie lateral un material que es sustancialmente opaco a la radiación actínica y que puede absorber por lo menos alrededor de un 85% de cualquier radicación actínica incidente, en por lo menos una gama de longitudes de onda efectiva para el endurecido del elemento fotoendurecible; e inyectar, desde un cabezal impresor de chorro de tinta, una tinta que formará un negativo sobre dicha segunda cara de dicho elemento fotoendurecible, siendo dicha tinta sustancialmente opaca a la radiación actínica, es decir, que puede absorber por lo menos alrededor de un 85% de cualquier radiación actínica incidente, por lo menos en las longitudes de onda efectivas para el endurecimiento del material fotoendurecible contenido en dicho elemento.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: POLYFIBRON TECHNOLOGIES, INC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 5210 PHILLIP LEE DRIVE,ATLANTA, GEORGIA 30336-2293.
Inventor/es: CUSDIN, GEORGE, CROWELL, JOSEPH, MURPHY, EDWARD, RECCHIA, DAVID.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 23 de Octubre de 1998.
Fecha Concesión Europea: 5 de Julio de 2006.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/26 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).
Clasificación PCT:
- G03F1/00 G03F […] › Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, p. ej. mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello; Contenedores especialmente adaptados a este efecto; Su preparación.
- G03F7/09 G03F 7/00 […] › caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).
- G03F7/26 G03F 7/00 […] › Tratamiento de materiales fotosensibles; Aparellaje a este efecto (G03F 7/12 - G03F 7/24 tienen prioridad).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Finlandia, Chipre, Oficina Europea de Patentes.
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