8 inventos, patentes y modelos de HARTMANN,PHILIP

(05/10/2016) Baño galvánico de electrodeposición con níquel o aleación de níquel para depositar un revestimiento de níquel semibrillante o aleación de níquel caracterizado porque el baño de electrodeposición comprende al menos un compuesto que tiene la fórmula general (I)**Fórmula** en la que R1 ≥ un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un grupo SO3 -, un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un grupo carboxílico, o un resto de hidrocarburo C1 - C18 sustituido con un al menos un grupo aromático y/o un grupo heteroaromático; R2 ≥ un resto NR3R4, un resto OR5, o un resto cíclico NR6, en donde R3, R4, R5 ≥ hidrógeno o un resto de…

(20/07/2016) Un método para aumentar la adherencia entre una superficie de cromo y un barniz que comprende, en este orden, las etapas de (i) proporcionar un sustrato que comprende una superficie de cromo, (ii) poner en contacto dicho sustrato con una disolución acuosa que comprende al menos un compuesto de fósforo según las fórmulas 1 y/o 2 R1-P(O)(OR2R3) 1 R1-O-P(O)(OR2R3) 2 en donde R1 es un grupo alquilo C1 a C12, lineal, ramificado o cíclico, y que comprende al menos un resto seleccionado del grupo que consiste en fosfonato, fosfato, carboxilato, carboxilo, hidroxilo, amino, amida, tiol, nitrilo, isonitrilo, cianato, isocianato, epoxi, halogenuro, alquenilo, ureido y tioureido, y R2 y R3 se seleccionan independientemente del grupo que consiste en hidrógeno, litio, sodio, potasio, amonio…

(25/05/2016) Un método para la protección de una superficie de cromo contra la corrosión catódica, comprendiendo el método, en este orden, las etapas de: (i) proporcionar un sustrato con una superficie de cromo y al menos una capa intermedia entre el sustrato y la superficie de cromo, seleccionada del grupo que consiste en níquel, aleaciones de níquel, cobre y aleaciones de cobre, (ii) poner en contacto dicho sustrato con una disolución acuosa que comprende al menos un compuesto que contiene fósforo conforme a las fórmulas II y V**Fórmula** en las que R se selecciona del grupo que consiste en H, alquilo C1-C20 sin sustituir, lineal o ramificado, alquil(C1-C6)arilo sin sustituir, lineal o ramificado,…

(13/04/2016) Un baño de electrometalizado para deposición de una capa de cromo oscura sobre una pieza a máquina, comprendiendo el baño de electrometalizado: (A) iones de cromo trivalente; (B) iones de carboxilato; (C) al menos una sustancia de regulación del pH; y (D) al menos un agente de coloreado seleccionado entre compuestos que contienen azufre que tienen la **Fórmula** en la que n, p, q son independientemente uno de otro números enteros de 0 a 4; R1 representa -H, -OH, -COOH, -CO-OCH3, -CO-OCH2-CH3, -(-O-CH2-CH2-)m-OH, -CH(-NH2)-COOH, -CH(- NH-CH3)-COOH, -CH(-N(-CH3)2)-COOH, -CH(-NH2)-CO-OCH3, -CH(-NH2)-CO-OCH2-CH3, -CH(-NH2)-CH2- OH, -CH(-NH-CH3)-CH2-OH, -CH(-N(CH3)2)-CH2-OH, -SO3H; m representa un número entero de 5 a 15; R2 representa -H, -OH, -(CH2-)p-OH, -(CH2-)pC(-NH2)≥NH,…

(06/05/2015) Una disolución ácida acuosa para depositar electrolíticamente recubrimientos de cobre, conteniendo dicha disolución ácida iones cobre, caracterizada porque dicha disolución contiene al menos un compuesto de polivinilamonio seleccionado del grupo que comprende compuestos que tienen la fórmula química general (I):**Fórmula** en la que I y m son índices de unidades de monómero que indican la fracción, que va a expresarse en [% en moles], de las unidades de monómero respectivas en el compuesto de polivinilamonio, en la que l + m en el compuesto es el 100 % en moles caracterizada porque m esté en un intervalo del 1 al 100 % en moles, referente a l + m, y l esté en un intervalo del 99 al 0 % en moles, referente a l + m, R1 es un radical, seleccionado…

(26/06/2013) Un método de control analítico de la concentración de un componente adicional de una deposición electrolítica, como un aditivo, sirve para depositar una cobertura de metal, implica: a) depositar la cobertura de metal desde el electrolito en un electrodo de trabajo; b) disolver electrolíticamente la cobertura de metal mediante la polarización anódica del electrodo de trabajo relativamente al electrodo contador, que está en contacto electrolítico con el electrodo de trabajo; c) registrar una disolución eléctrica potencial en el electrodo de trabajo sobre el tiempo, dicho potencial se produce durante la disolución de la cobertura de metal, d) determinar un valor medio de tiempo del potencial de disolución, e) determinar la diferencia entre el valor medio de tiempo del potencial de la…

(14/03/2011) Baño con contenido en pirofosfato para la deposición exenta de cianuro de aleaciones de cobre y estaño sobre superficies de sustrato, que comprende un producto de reacción de una monoamina secundaria con un diglicidiléter, en donde la monoamina secundaria es morfolina y el diglicidiléter se elige del grupo consistente en gliceroldiglicidiléter, poli(prolipenglicol)diglicidiléter, poli(etilenglicol)diglicidiléter y mezclas de los mismos

(11/06/2010) Baño electrolítico acuoso libre de cianuro para la deposición de capas de aleaciones de estaño sobre superficies de sustratos que comprende (i)una fuente de iones estaño y una fuente para otro elemento de aleación, caracterizado porque además contiene (ii)N-metilpirrolidona