46 patentes, modelos y diseños de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon
Dispositivo de endurecimiento UV con espejos deflectores de radiación UV divididos.
(27/05/2020) Dispositivo de endurecimiento para componentes recubiertos con un barniz endurecible, que comprende al menos una fuente de radiación , al menos un elemento reflector que envuelve la fuente de radiación, al menos dos elementos de espejo dicroicos divididos, opuestos a la fuente de radiación, que transmiten la mayor parte VIS e IR de la fuente de radiación y la mantienen alejada de una zona de procesamiento y al mismo tiempo reflejan la parte UV de la fuente de radiación en dirección hacia una zona de procesamiento, al menos un elemento de disco óptico que separa la corriente de gas refrigerante en el dispositivo de exposición de la…
Dispositivo de revestimiento para el revestimiento de un sustrato, así como un procedimiento para el revestimiento de un sustrato.
(15/01/2020) Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento de una atmósfera de gas, que presenta una entrada y una salida para un gas de proceso, así como un ánodo y un cátodo de evaporación cilíndrico realizado como diana , comprendiendo dicho cátodo de evaporación cilíndrico el material diana , estando prevista además una fuente de energía eléctrica para generar una tensión eléctrica entre el ánodo y el cátodo , de manera que por medio de la fuente de energía eléctrica el material diana del cátodo cilíndrico se puede convertir a una fase de vapor, y estando prevista una fuente de campo magnético que genera un campo magnético, estando previstos en la cámara de proceso al mismo tiempo un…
Aparato con capa de barrera de permeación.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(05/11/2019). Inventor/es: RAMM, JURGEN. Clasificación: C23C14/08.
Un aparato (A) que comprende un volumen (V) sellable y una pared (P) que forma al menos una porción de un límite que limita dicho volumen (V), en el que dicha pared (P) comprende una barrera de permeación de hidrógeno, que comprende un sistema de capas (SC-Fig. 4) que comprende al menos una capa (C1; C2; C3-Fig. 4), en el que dicho sistema de capas (SC) comprende al menos una capa de barrera de hidrógeno (CBPH) que comprende un óxido al menos ternario, en el que dicho óxido al menos ternario se compone de Al, Cr y 0, caracterizado porque dicha al menos una capa de barrera de hidrógeno (CBPH) se produce mediante el uso de un método de evaporación por arco catódico sin filtrar con formación de gotitas.
PDF original: ES-2729649_T3.pdf
Monitoreo de proceso para curado por UV.
(11/10/2019) Dispositivo de monitoreo de proceso in situ para la medición del estado de endurecimiento de una laca de curado por UV, que se presenta como revestimiento de componentes, comprendiendo al menos una fuente de radiación para el endurecimiento de la laca, al menos una fuente de señal , al menos un espectrómetro para una medición libre de contacto de radiación reflejada por los componentes de la fuente de señal , así como una unidad de monitoreo , la cual está configurada para, calcular a partir de los espectros medidos por el al menos un espectrómetro un grado de endurecimiento de la laca, siendo idéntica la al menos una fuente de señal…
Procedimiento para decapar piezas de trabajo y solución de decapado.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(09/10/2019). Inventor/es: RAUCH,UDO, ANDREOLI,TAMARA. Clasificación: C23F1/44, C23G1/22, C23G1/20, C23F1/38, C23F1/36.
Procedimiento para desprender un sistema de capas de una pieza de trabajo, comprendiendo el sistema de capas en la pieza de trabajo al menos una capa que a su vez presenta al menos uno de los siguientes materiales: AlCr metálico, TiAlCr así como otras aleaciones de AlCr; o uno de sus nitruros, carburos, boruros, óxidos o su combinación, así como óxidos de aluminio, caracterizado por que la pieza de trabajo se introduce en una solución de decapado y permanece ahí durante un tiempo predeterminado para el tratamiento, siendo la solución de decapado una solución acuosa alcalina con permanganato de potasio KMnO4, que contiene el 4 por ciento en peso de KMnO4 y en la que simultáneamente el porcentaje alcalino se encuentra entre el 8 y el 11 por ciento en peso.
PDF original: ES-2764249_T3.pdf
Recubrimiento de nanocapas para herramientas de alto rendimiento.
(11/09/2019) Método de fabricación de un cuerpo recubierto que tiene al menos una superficie recubierta con un recubrimiento que comprende una estructura nanolaminada de nanocapas A alternas de (AlxTi1-x-yWy)N, con 0.50 ≤ x ≤ 0.65 y 0 5 ≤ y ≤ 0.10, donde los coeficientes dados por x, 1-x-y e y corresponden a la concentración atómica de aluminio, titanio y tungsteno, respectivamente, considerando solo los elementos aluminio, titanio y tungsteno para la cuantificación del elemento en las nanocapas A, y las nanocapas B de (Ti1-z-uSizWu)N, con 0.05 ≤ z ≤ 0.30 y 0 ≤ o ≤ 0.10, donde los coeficientes dados por 1-z-u y u corresponden a la concentración atómica de titanio, silicio y tungsteno, respectivamente, considerando solo los elementos titanio, silicio y tungsteno para la cuantificación del elemento en las nanocapas B, la estructura nanolaminada…
(04/09/2019) Sensor de infrarrojos en particular módulo de navegación dactilar óptico con un componente de policarbonato insertado como cristal de protección para el sensor y que está fabricado como una unidad, comprendiendo el componente una zona de sensor y una zona transparente, caracterizado por que la zona transparente comprende al menos un capa física fina, parcialmente transparente para luz visible, depositada en la fase de gas, también denominada depósito PVD, y la al menos una capa comprende una capa de metal que comprende al menos una capa de cromo que presenta un grosor de capa de aproximadamente 20 nm, una capa semiconductora y/o una capa de una combinación de varios metales y/o varios semiconductores o una capa de una combinación de al menos…
Revestimiento de nitruro de aluminio y titanio con morfología adaptada para una resistencia mejorada al desgaste en operaciones de mecanizado y método para ello.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(14/08/2019). Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED, KURAPOV,DENIS, ARNDT,MIRJAM. Clasificación: C23C28/04, C23C14/06, C23C30/00, C23C14/32, C23C14/00, C23C14/22.
Revestimiento monocapa de (AI,Ti)N que exhibe dos partes de revestimiento diferentes, una parte de revestimiento A y una parte de revestimiento B, exhibiendo ambas partes de revestimiento A y B estructuras cuyo tamaño de grano está en el intervalo de nanómetros, caracterizado por que
• la parte de revestimiento A se deposita sobre el sustrato, y la parte de revestimiento B se deposita sobre la parte de revestimiento A,
• la parte de revestimiento A exhibe un módulo elástico más alto que la parte de revestimiento B, y
• el tamaño de grano en la parte de revestimiento A es al menos 1,25 veces mayor que en la parte de revestimiento B,
en donde ambas partes de revestimiento A y B exhiben estructuras cristalinas cúbicas centradas en la cara y una textura cristalográfica predominantemente , y en donde el revestimiento exhibe una dureza entre 37 GPa y 55 GPa y módulo elástico entre 410 GPa y 450 GPa y un tamaño de grano entre 5 nm y 50 nm.
PDF original: ES-2750572_T3.pdf
Procedimiento para la preparación de capas de óxido de zirconio cúbicas.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(10/07/2019). Inventor/es: RAMM, JURGEN, Widrig,Beno. Clasificación: C23C14/08, C23C14/06, C23C14/32, C23C14/00.
Ánodo para una fuente de evaporación de arco, que comprende:
• un cuerpo de ánodo con una superficie de ánodo,
• a lo largo de la superficie de ánodo una hélice calentadora que está aislada eléctricamente del cuerpo de ánodo,
• conexiones aisladas eléctricamente del cuerpo de ánodo para la hélice calentadora,
en el que el ánodo está configurado de modo que la superficie de ánodo, para la limpieza al menos parcial de un revestimiento perturbador, puede exponerse a un cambio de temperatura provocado por medio de activación/desactivación de la hélice calentadora y a este respecto se deforma de manera que se desprende el revestimiento perturbador.
PDF original: ES-2749354_T3.pdf
Cámara de evaporación por arco voltaico con una fuente de evaporación por arco voltaico al vacío.
(10/07/2019) Cámara de evaporación por arco voltaico con una unidad de suministro de energía y con una fuente de evaporación por arco voltaico al vacío que comprende un bloque de soporte y una fuente de campo magnético anular dispuesta en el bloque de soporte y un cuerpo de cátodo con un material de evaporación como cátodo para generar una descarga de arco voltaico sobre una superficie de evaporación del cátodo , en la cual el cuerpo de cátodo está delimitado en sentido axial, en un primer sentido axial, por un fondo de cátodo y, en un segundo sentido axial, por la superficie de evaporación , y la fuente de campo magnético anular está polarizada…
Separación de calor-luz para una fuente de radiación UV.
Secciones de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes Mecánica, iluminación, calefacción, armamento y voladura Física
(03/07/2019). Inventor/es: ZUGER, OTHMAR. Clasificación: B05D3/06, F26B3/28, G21K5/00.
Dispositivo para solicitar sustratos con radiación UV en una zona de aplicación, comprendiendo el dispositivo:
- una fuente de radiación, la cual emite tanto radiación UV, como también luz visible y radiación infrarroja en un ángulo espacial,
- un espejo de desvío selectivo de radiación, el cual refleja en su mayor parte la radiación UV y que transmite en su mayor parte la radiación VIS e IR
caracterizado por que el espejo de desvío comprende al menos dos tiras de espejo planas, las cuales están inclinadas de tal manera una hacia la otra, que reflejan la radiación directa divergente que viene de la fuente de radiación en dirección hacia la zona de aplicación y a este respecto reducen al menos la divergencia y de esta manera conducen a un aumento de la intensidad de superficie en la zona de aplicación.
PDF original: ES-2749119_T3.pdf
Dispositivo de flujo de gas para una instalación para el tratamiento de radiación de sustratos.
(17/05/2019) Instalación para el tratamiento de radiación de sustratos, que en una cámara sobre los soportes de sustrato (11, 11') para colocar sustratos a tratar, comprende, al menos, una fuente de radiación (9, 9', 9"), la cámara comprende medios para el mantenimiento de un flujo de gas en la cámara en forma de un dispositivo de flujo de gas, en la que el dispositivo de flujo de gas comprende, al menos, una entrada de gas (421, 421') dispuesta en el área por debajo del soporte de sustrato (11, 11') y, al menos, una salida de gas dispuesta en el área por debajo del soporte de sustrato (11, 11'), caracterizada porque el dispositivo de flujo de gas está diseñado de manera tal que la entrada de gas (421, 421') y…
Secciones de la CIP Química y metalurgia Electricidad
(08/05/2019). Inventor/es: SCHULER, PETER, HERMANN, THOMAS, KECKES,ANTAL. Clasificación: C03C17/34, H03K17/955.
Sensor de proximidad electrónico con un elemento sensor dispuesto debajo de una superficie decorativa, en lo que el sensor de proximidad electrónico comprende un interruptor de proximidad capacitivo, que presenta la superficie decorativa, en lo que la superficie decorativa está revestida con una delgada capa de semiconductor, en lo que la capa de semiconductor presenta una capa de silicio o germanio, en lo que la capa de semiconductor está realizada como una monocapa delgada individual con un espesor de entre 10 nm y 100 nm, caracterizado por que entre el cuerpo que forma la superficie decorativa y la capa de semiconductor se provee una capa intermedia, que comprende una capa de polímero, que consiste en un barniz endurecido por radiación UV, preferentemente un barniz acrílico UV, y alisa eventuales estructuras superficiales de la superficie decorativa.
PDF original: ES-2741298_T3.pdf
Recubrimiento de alto rendimiento para formación de metal en frío de acero de alta resistencia.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes
(22/04/2019). Inventor/es: ARNDT,MIRJAM, KHATIBI,ALI. Clasificación: C23C14/34, C23C28/04, C23C14/06, C23C14/32, C23C14/35, C23C28/00, B21J13/02.
Recubrimiento depositado sobre una superficie de sustrato de una herramienta de formación de metal o miembro de formación de metal para conformado en frío de aceros de alta resistencia, comprendiendo el recubrimiento una capa inferior que comprende CrN y una capa superior que comprende TiCN, en la que dicha capa inferior se deposita más cerca del sustrato que dicha capa superior, caracterizada porque:
• la capa inferior está hecha de nitruro de cromo enriquecida con oxígeno que exhibe una estructura cúbica con orientación preferida ,
• la capa superior está hecha de carbonitruro de titanio enriquecida con hidrógeno.
PDF original: ES-2709986_T3.pdf
Pieza de trabajo que comprende una capa de material duro que contiene AlCr.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(02/04/2019). Inventor/es: DERFLINGER,Volker, GEY,Christoph, REITER,Andreas. Clasificación: C23C28/04, C23C14/02, C23C14/06, C23C30/00, C23C14/32, C23C14/00, C23C14/58.
Pieza de trabajo con un sistema de capas que contiene al menos una capa de la composición (AlyCr1-y)X, con X = N, con red cristalina cúbica, contenido de nitrógeno sustancialmente estequiométrico y un contenido de Al del 66 % o y = 0,66, en donde la composición de capa dentro de la capa es sustancialmente constante o cambia continuamente o por etapas sobre el espesor de la capa y la pieza de trabajo es una de las siguientes herramientas, a saber, una fresa, en particular una fresa generadora, de cabezal redondo, plana o de perfil, una herramienta de brochar, una plaquita de corte para tornear y fresar, un molde o una herramienta de moldeo por inyección.
PDF original: ES-2706981_T3.pdf
(19/03/2019) Fuente de plasma en una cámara de vacío para generar un plasma en la cámara de vacío , comprendiendo la fuente de plasma una carcasa de fuente con una abertura que se adentra en la cámara de vacío y estando previsto en la carcasa de fuente un filamento al cual, a través de líneas eléctricas que se han pasado de forma aislada a través de la carcasa de fuente , se puede aplicar una tensión de calentamiento (Vcal.) de tal modo que se puede calentar el filamento mediante un flujo de corriente, estando dispuesta la carcasa de fuente de forma eléctricamente aislada de la cámara de vacío en la misma, caracterizada por que:
• están previstos medios que permiten medir la caída de…
Proceso de pulverización catódica reactiva.
(14/03/2019) Procedimiento para la pulverización catódica reactiva en el que mediante bombardeo de iones se expulsa golpeando material de la superficie de un primer blanco y este pasa a la fase gaseosa, y en el blanco se aplica una tensión negativa por impulsos, de tal forma que en la superficie del blanco se produce una corriente eléctrica con una densidad de corriente superior a 0,5 A/cm2, de modo que el material que pasa a la fase gaseosa queda al menos parcialmente ionizado y en el que se establece un flujo de gas reactivo y el gas reactivo reacciona con el material de la superficie del blanco, y en el que durante un impulso…
Accesorios que comprenden medios magnéticos para sostener piezas de trabajo simétricas rotatorias.
(12/03/2019) Un sistema de accesorio que comprende varias partes, siendo al menos una de las partes una pieza de sujeción para sujetar una pieza de trabajo que comprende sustancias ferromagnéticas, comprendiendo dicha pieza de trabajo un cuerpo con dos extremos y exhibiendo a lo largo de un eje giratorio una forma simétrica con una dimensión radial y con superficies que pueden tratarse por medio de un proceso de tratamiento de vacío asistido por plasma, comprendiendo dicha parte de retención medios magnéticos que generan un campo magnético con una fuerza magnética en la dirección del eje rotatorio que es lo suficientemente alta para sostener la pieza de trabajo si la pieza de trabajo se coloca en una…
Procedimiento para fabricar piezas con superficie grabada por iones.
(08/03/2019) Un procedimiento para fabricar piezas, estando al menos una parte de la superficie de dichas piezas grabada, incluyendo el grabado por impacto de iones, que comprende:
• proporcionar una base de carrusel que puede moverse de forma giratoria alrededor de un eje de carrusel (A20);
• proporcionar a lo largo de la periferia de y sobre dicha base de carrusel al menos dos soportes (22; 22a) planetarios, cada uno que puede moverse de forma giratoria alrededor de un eje planetario (A22; A22a) paralelo a dicho eje de carrusel;
• generar una nube (CL; BI; BPL; PL) que comprenda iones y que tenga, considerado en un plano transversal perpendicular a dicho carrusel y dichos ejes planetarios, un eje…
Herramientas de alto rendimiento que exhiben desgaste del cráter reducido en particular por las operaciones de maquinado en seco.
(28/02/2019) Sistema de recubrimiento depositado sobre una superficie de un sustrato que comprende al menos una película de varias capas formada de nanocapas A y B alternadas depositadas una sobre otra, en el que las nanocapas A contienen nitruro de boro aluminio y cromo y las nanocapas B contienen nitruro de aluminio y cromo, pero no contienen boro, caracterizado porque las nanocapas A tienen una región con el mayor contenido de boro y una región con un menor contenido de boro, en el que la región que tiene menor contenido de boro es la región adyacente a las nanocapas B, en la que la suma del espesor de una nanocapa A y el espesor de una nanocapa B depositadas una sobre otra en la película de varias capas…
Procedimiento para recubrir sustratos y fuente de pulverización de alta potencia para el mismo.
(17/01/2019) Procedimiento para generar una descarga de plasma con una densidad de corriente de descarga que al menos en algunas zonas es localmente superior a 0,2 A/cm2, con las etapas:
- proporcionar una unidad de suministro de potencia con una potencia máxima predeterminada
- proporcionar al menos dos fuentes de pulverización catódica por magnetrón (q1-q6) con en cada caso pista predeterminada y límite superior térmico predeterminado, donde la pista se diseña tan pequeña que al actuar la potencia máxima de la unidad de suministro de potencia sobre en cada caso una de las fuentes de bombardeo catiónico por magnetrón (q1-q6) la densidad de corriente de descarga es superior a 0,2 A/cm2;
- por medio de la unidad…
Pistón de acero para un motor de combustión interna y procedimiento para su producción.
Secciones de la CIP Mecánica, iluminación, calefacción, armamento y voladura Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes
(04/12/2018). Inventor/es: RAMM, JURGEN, Widrig,Beno, DR. LEHNERT,MONIKA, DR. ROSE,REINHARD. Clasificación: F02F3/00, C23C28/04, F02F3/10, C23C14/02, C23C14/06, C23C14/00, C23C28/00, F02F3/12, F02F3/14, B23P15/10.
Pistón de acero para un motor de combustión interna, que presenta una cabeza del pistón y una capa protectora aplicada sobre la cabeza del pistón, conteniendo la capa protectora:
a) una capa adhesiva de Cr o CrN, que está presente sobre la superficie de la cabeza del pistón, y
b) una capa funcional, que está presente sobre la capa adhesiva, presentando la capa funcional una o varias capa(s) (A) de CrN así como una o varias capa(s) (B) de CrON en la forma de [(A)/(B)]a, siendo a ≥ 1 a 100.
PDF original: ES-2692538_T3.pdf
Dispositivo de sujeción para el tratamiento de superficies de cuchillas de barras.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(25/09/2018). Inventor/es: VOGEL,REMO, STEWART,ROBERT EUGENE, LAFORCE,PHILLIP J. Clasificación: C23C16/04, C23C16/458, C23C14/04, C23C14/50.
Dispositivo de sujeción con cuchillas de barras para la fijación de cuchillas de barras para el recubrimiento de sus aristas cortantes, estando configurada la fijación de tal modo que varias cuchillas de barras pueden colocarse en fila de modo que sus superficies cortantes y puntas presenten la misma orientación, y el dispositivo de sujeción comprende un blindaje, que protege las superficies cortantes al menos parcialmente del recubrimiento, caracterizado por que en el caso de las cuchillas de barras colocadas en fila de la manera descrita el borde1 superior del blindaje supera en altura las puntas de cuchilla en un modo que no sobresale ninguna punta de cuchilla, estando distanciado el blindaje de las superficies cortantes.
PDF original: ES-2683231_T3.pdf
Objetivo de pulverización con mayor compatibilidad de potencia.
(06/06/2018) Fuente de revestimiento como proveedor de material para un revestimiento PVD, que comprende
a) un soporte y una placa, alojada en el soporte, con lado delantero de placa (1a) y lado trasero de placa (1c) y con medios de centrado, comprendiendo el soporte una montura de placa con forma de marco para el alojamiento de la placa , siendo la placa un objetivo, y estando previsto el lado delantero de placa (1a) para transferir material de revestimiento desde la superficie a la fase gaseosa durante el proceso PVD, y estando configurados los medios de centrado de forma que está garantizado el centrado a diferentes temperaturas…
Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes
(18/04/2018). Inventor/es: WOHLRAB, CHRISTIAN, Ramm,Juergen,Dr, QUINTO,DENNIS. Clasificación: C23C28/04, B23B27/14, C23C30/00, B23B5/00.
Un método para fabricar una herramienta de corte, comprendiendo dicho método:
- proporcionar un cuerpo sinterizado de carburo cementado, CBN, cermet o cerámica que tiene un borde cortante con un radio de borde Re inferior a 40 μm, un cara de flanco y una cara de ataque, y
- depositar un recubrimiento de PVD de una sola capa o multicapa sobre al menos algunas partes del borde cortante y que comprende al menos una capa oxídica aplicada por deposición por arco en vacío.
PDF original: ES-2672002_T3.pdf
Revestimiento con capa a base de MO-N con fase delta del nitruro de molibdeno.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(11/04/2018). Inventor/es: RAMM, JURGEN, KARNER, JOHANN, DR. Clasificación: C23C14/06.
Revestimiento que comprende al menos una capa de material duro a base de Mo-N, que comprende al menos mayoritariamente la fase hexagonal del nitruro de molibdeno δ-MoN, caracterizado porque la relación de intensidad de los dos picos (δ-MoN 220)/(δ-MoN 200) en un difractograma XRD es ≥ 3.
PDF original: ES-2677224_T3.pdf
Pieza de plástico revestida con una capa de PVD incluida.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(14/03/2018). Inventor/es: RIBEIRO,CARLOS, BAUR,SASCHA. Clasificación: C23C14/02, C23C14/20, C23C28/00, C23C14/58.
Pieza de plástico que comprende un sustrato y un sistema de capas aplicado sobre el sustrato, estando aplicada directamente sobre el sustrato una primera capa de barniz y a la capa de barniz le sigue un sistema de capas de PVD, caracterizada por que el sistema de capas de PVD comprende al menos una primera capa, una segunda capa y una tercera capa, encontrándose la primera capa sobre la primera capa de barniz y estando realizada como capa de adherencia, estando configurada la segunda capa como capa de amortiguación estabilizadora y estando realizada la tercera capa como capa que otorga color, presentando la capa de amortiguación una estructura interna visible en MEB como estratos de capas y/o presentando los estratos de capas de la capa de amortiguación diferentes propiedades con respecto a dureza y/o elasticidad.
PDF original: ES-2675163_T3.pdf
Dispositivo de irradiación UV de funcionamiento cíclico.
Secciones de la CIP Física Técnicas industriales diversas y transportes Mecánica, iluminación, calefacción, armamento y voladura
(21/02/2018). Inventor/es: SCHAFER, RUDIGER, DR., KASPAR,MARTIN, RIBEIRO,CARLOS, KARSCH,TASSO. Clasificación: G02B5/20, B05D3/06, G02B5/28, B01J19/12, F26B3/28.
Dispositivo de irradiación con
- al menos una fuente de radiación que emite tanto radiación UV como radiación W, es decir luz visible y/o radiación IR, y
- con un dispositivo de transporte para la entrega de sustratos que van a irradiarse y
- al menos un filtro selectivo de longitud de onda que refleja la radiación UV con un ángulo de 45° y que transmite la radiación W
- con medios para la absorción de radiación IR que están dispuestos, aguas abajo del filtro óptico en la dirección de propagación, en la trayectoria de los rayos de la radiación W no desviada por el filtro selectivo de longitud de onda caracterizado por que los medios para la absorción de radiación IR están configurados también como medios para la absorción de luz visible y de rayos UV y por que el dispositivo de irradiación comprende medios de movimiento, para llevar el filtro selectivo de longitud de onda hacia la trayectoria de los rayos de la fuente de radiación y fuera de esta.
PDF original: ES-2666579_T3.pdf
Uso de una herramienta de formación en caliente revestida con un recubrimiento duro que comprende un sistema de capa dura de a-C:H:W para mejorar el rendimiento.
Secciones de la CIP Química y metalurgia Técnicas industriales diversas y transportes
(14/02/2018). Inventor/es: SOBIECH,MATTHIAS LUKAS. Clasificación: C23C14/34, C23C14/06, B21D22/02, C23C14/00, C23C28/00, C21D1/673, B21D37/16.
Uso de una herramienta de formación recubierta que tiene un sustrato y un recubrimiento duro, el recubrimiento duro que comprende una capa de cromo como capa de adhesión, una capa dura de a-C:H:W depositada como capa funcional y una capa de inserción a-C:H:W depositada sobre dicha capa de a-C:H:W funcional dura, en el que la herramienta de conformación recubierta se usa como herramienta de conformación de lámina metálica en caliente para un proceso de conformación de lámina en caliente, en el que se procesa una lámina metálica recubierta con un recubrimiento a base de Zn o una lámina de metal revestida con un recubrimiento basado en AlSi, en el que la lámina metálica revestida que se procesa es una lámina metálica de ultra alta resistencia, y en la que la lámina metálica de ultra alta resistencia es una lámina metálica del tipo 22MnB5.
PDF original: ES-2668684_T3.pdf
Fuente de deposición por arco con campo eléctrico definido.
(17/01/2018) Dispositivo de evaporación por arco que comprende
- un cátodo que contiene una superficie con aquel material, que va a evaporarse
- medios magnéticos que llevan a un campo magnético a lo largo de la superficie del cátodo
- un ánodo para la absorción de los electrones, que se extraen del cátodo durante el proceso de evaporación
- una fuente de tensión, que permite colocar en potencial positivo al menos durante cierto tiempo el ánodo frente al cátodo
caracterizado por que el ánodo está dispuesto en la proximidad inmediata del cátodo y en combinación con el campo magnético generado por los medios magnéticos de tal manera que las líneas del campo magnético…
Sistema de capas así como procedimiento de recubrimiento para la producción de un sistema de capas.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(03/01/2018). Inventor/es: ERKENS, GEORG, VETTER, JORG, DR.. Clasificación: C23C28/04, C22C27/02, C23C14/06, C23C28/00, C23C14/22.
Sistema de capas para la formación de una capa superficial sobre una superficie de un sustrato , en particular sobre la superficie de una herramienta de conformación,
caracterizado por que
el sistema de capas comprende al menos una primera capa superficial de la composición
- (V97Zr3)α(N)β
- (V97Zr3)α(N50C50)β
- (V95Ni5)α(N65C30O5)β
- (V96Ce4)α(N25C65O10)β
- (V97Zr1Si1B1)α(N)β
, con la suma de todos los átomos en la capa (α+β) ≥100 % en at., aplicándose 40 ≤ α ≤ 80 % en at.
PDF original: ES-2663533_T3.pdf
Procedimiento para la producción de capas de óxido de zirconio cúbicas.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(06/12/2017). Inventor/es: RAMM, JURGEN, Widrig,Beno. Clasificación: C23C14/00.
Procedimiento para la producción de una capa basada en óxido de zirconio sobre un sustrato de deposición, con empleo de evaporación de arco reactiva, con corriente de arco pulsada y/o con aplicación de un campo magnético perpendicular al blanco de arco, caracterizado por que se emplea un blanco mixto que comprende un zirconio elemental y al menos un estabilizante.
PDF original: ES-2660745_T3.pdf