(16/01/2003). Solicitante/s: LAM RESEARCH CORPORATION. Inventor/es: LENZ, ERIC HOWARD, DIBLE, ROBERT DUANE.

UN APARATO DE ATAQUE QUIMICO POR PLASMA INCLUYE UN PILA DE ANILLOS DE CUARZO QUE ESTAN SEPARADOS ESPACIOSAMENTE PARA FORMAR RANURAS ENTRE ELLOS Y QUE ESTAN POSICIONADOS PARA RODEAR UN ESPACIO DE INTERACCION ENTRE DOS ELECTRODOS DEL APARATO EN DONDE SE FORMA EL PLASMA DURANTE EL FUNCIONAMIENTO DEL APARATO. LAS DIMENSIONES DE LAS RANURAS ESTAN ESCOGIDAS PARA ASEGURAR QUE LAS PARTICULAS CARGADAS DE LOS GASES GASTADOS EN EL PLASMA QUE ABANDONA EL ESPACIO DE INTERACCION, SON NEUTRALIZADAS POR COLISIONES CON LA PARED CUANDO SALEN DE LAS RANURAS. DOS FUENTES DE TENSION DE DIFERENTES FRECUENCIAS SON UTILIZADAS PARA APLICAR VOLTAJES A LOS ELECTRODOS DE MANERA QUE AISLAN LAS FUENTES ENTRE SI.

(16/10/2002). Ver ilustración. Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BRAENDLE, HANS, KIND, BRUNO.

PARA DEPOSITAR CAPAS DE MATERIAL ENDURECIDO ESPECIALMENTE SOBRE PIEZAS DE TRABAJO SOMETIDAS A FUERTES SOLICITACIONES, QUE TIENEN QUE SER ATACADAS AL ACIDO MEDIANTE PULVERIZACION, SE PROPONE QUE JUNTAMENTE CON LA DESCARGA DE ARCO DE BAJO VOLTAJE SE SOMETAN A ATAQUE ACIDO MEDIANTE PULVERIZACION Y, A CONTINUACION, SE RECUBRAN LAS PIEZAS DE TRABAJO ACTUANDO EN LA MISMA DIRECCION.

(01/02/2002). Solicitante/s: LAM RESEARCH CORPORATION. Inventor/es: BEER, RICHARD, BARNES, MICHAEL, BENJAMIN, NEIL, HOLLAND, JOHN, VELTROP, ROBERT.

UN PROCESADOR DE PLASMA PARA PIEZAS A MAQUINA GRANDES INCLUYE UNA CAMARA DE VACIO QUE TIENE VENTANAS DIELECTRICAS INDIVIDUALMENTE SOPORTADAS PLURALES PARA ACOPLAR UN CAMPO R.F. QUE SE ORIGINA FUERA DE LA CAMARA DENTRO DE LA CAMARA PARA EXCITAR EL PLASMA. UNA BOBINA PLANAR PARA DERIVAR INDUCTIVAMENTE EL CAMPO TIENE SEGMENTOS PLURALES CON LA MISMA LONGITUD ELECTRICA, CADA UNO INCLUYENDO UN ELEMENTO CONECTADO EN PARALELO CON UN ELEMENTO DE OTRO SEGMENTO.

(16/01/2002). Solicitante/s: UNITED SOLAR SYSTEMS CORPORATION. Inventor/es: GUHA, SUBHENDU, YANG, CHI, C., XU, XIXIANG.

MATERIAL SEMICONDUCTOR DE ALTA CALIDAD SE DEPOSITA EN UN PROCESO DE ELECTRODEPOSICION DE DESCARGA LUMINESCENTE ENERGIZADO POR MICRONDAS, ENERGIZANDO UN GAS EN PROCESO CON ENERGIA POR MICRONDAS MEDIANTE UN GENERADOR DE MICRONDAS A UN NIVEL DE POTENCIA SUFICIENTE PARA GENERAR UN PLASMA A UN GRADO DE SATURACION DE APROXIMADAMENTE EL 100, E IMPIDIENDO EL ACCESO DE LAS ESPECIES DE ELECTRODEPOSICION A UN SUSTRATO PARA REBAJAR EL INDICE DE ELECTRODEPOSICION A UN VALOR MENOR QUE EL QUE SE CONSEGUIRIA, DE OTRA FORMA, OPERANDO A UN GRADO DE SATURACION DEL 100.

(01/11/2001). Ver ilustración. Solicitante/s: DAIMLERCHRYSLER AG. Inventor/es: POMPE, WOLFGANG, BEYER, STEFFEN, DIETSCH, REINER, MAI, HERMANN.

SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO PARA CONSEGUIR CAPAS FUNCIONALES DE METAL, CERAMICA O CERAMICA/METAL SOBRE LA PARED INTERNA DE CUERPOS HUECOS UTILIZANDO EL PROCEDIMIENTO DE LA DEPOSICION POR LASER PULSADO (PLD), UTILIZANDOSE EN COMBINACION CON UN TRATAMIENTO DE CAPA FINA POR LASER DENSIDADES DE CORRIENTE DE ENERGIA Y DE MATERIA COMO FUNCION DE LA SEPARACION DE LAS ZONAS DE CONDENSACION DE LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO, UTILIZANDOSE IMPULSOS DE LASER CON ENERGIAS DE 1 - 2 JULIOS EN TASAS DE IMPULSOS DE REPETICION DE 10 HZ HASTA 50 HZ, Y FORMANDOSE UN REVESTIMIENTO DIRECTO INTERNO SEGUN LA LONGITUD DEL IMPULSO ELEGIDO Y LA ATMOSFERA DE GAS RESIDUAL EN LA CAMARA DE SEDIMENTACION EN VACIO MEDIANTE CORRIENTE DE PLASMA UNA ESTRUCTURA TIPICA EN CAPAS, VIDRIOSA - AMORFA, COLUMNAR O POLICRISTALINA, Y ESTANDO FORMADO EL MATERIAL DE LA CAPA O EL MATERIAL DIANA TANTO POR SUSTANCIAS CONDUCTORAS COMO TAMBIEN POR SUSTANCIAS AISLANTES.

(16/10/2000). Solicitante/s: LAM RESEARCH CORPORATION. Inventor/es: MUNDT, RANDALL, S., LENZ, ERIC HOWARD, KERR, DAVID, R.

UN ELECTRODO DE DESCARGA DE PLASMA QUE TIENE UNA SUPERFICIE FRONTAL CON UNA PORCION CENTRAL DE LA MISMA QUE INCLUYE SALIDAS PARA DESCARGAR GAS REACTIVO QUE FORMA UN PLASMA Y UNA PORCION PERIFERICA QUE RODEA SUSTANCIALMENTE LAS SALIDAS. LA PORCION PERIFERICA TIENE AL MENOS UN HUECO PARA AUMENTAR LOCALMENTE UNA DENSIDAD DEL PLASMA FORMADO POR EL ELECTRODO . EL HUECO PUEDE ESTAR FORMADO EN UN INSERTO REEMPLAZABLE Y EL ELECTRODO PUEDE ESTAR HECHO DE UN CRISTAL UNICO DE SILICIO.

(01/04/2000). Ver ilustración. Solicitante/s: SPITZL, RALF. Inventor/es: ASCHERMANN, BENEDIKT.

LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA GENERAR PLASMAS DE MICROONDAS CON UN GENERADOR DE MICROONDAS Y SU ACOPLAMIENTO A UN RESONADOR DE GUIA DE ONDAS , QUE COMPRENDE UNA CAMARA DE PLASMA . EL LADO CORTO DE LA SECCION DEL RESONADOR SE SITUA PARALELO AL EJE Z EN LA PARED COMUN CON LA CAMARA Y LA POTENCIA DE LAS MICROONDAS DEL RESONADOR SE MODULA MEDIANTE PUNTOS DE ACOPLAMIENTO EN ESTE LADO CORTO DE LA SECCION EN LA CAMARA . LOS PUNTOS DE ACOPLAMIENTO SE EJECUTAN CON PREFERENCIA COMO ACOPLADORES DE VENTANA AZIMUTAL EN LA PARED COMUN DE 5 Y 7.

(01/03/2000). Solicitante/s: NKT RESEARCH CENTER A/S. Inventor/es: GLEJBOL, KRISTIAN.

UN METODO PARA LA EXCITACION DE UN PLASMA, CARACTERIZADO POR QUE COMPRENDE DE LOS PASOS DE SOMETER UN GAS A UNA CAMPO ELECTRICO GENERADO POR UN SISTEMA DE ELECTRODOS QUE COMPRENDE N ELECTRODOS, SIENDO N UN NUMERO ENTERO SUPERIOR O IGUAL A 3, PREFERENTEMENTE ENTRE 3 Y 30, ESTANDO CADA UNO DE N ELECTRODOS CONECTADOS A UNO DE LAS SIGUIENTES TENSIONES CA. DONDE F ES UNA FRECUENCIA QUE VA DE 10 A 10000 HZ, PREFERENTEMENTE 30 A 200 HZ MAS, PREFERENTEMENTE 50 A 60 HZ, U{SUB,0} ES UNA TENSION QUE VA DE 50 A 10000 V, ESTANDO AL MENOS UN ELECTRODO CONECTADO A U{SUB,R}, ESTANDO AL MENOS UN ELECTRODO CONECTADO A U{SUB,S}, Y ESTANDO AL MENOS UN ELECTRODO CONECTADO A U{SUB,T}. LA INVENCION TAMBIEN SE REFIERE A UN SISTEMA DE ELECTRODOS PARA LLEVAR A CABO EL METODO Y EL USO DEL SISTEMA DE ELECTRODOS.

(01/03/1999). Solicitante/s: APPLIED MATERIALS, INC.. Inventor/es: COLLINS, KENNETH S., RODERICK, CRAIG A., YANG, CHAN-LON, WANG, DAVID N.K., MAYDAN, DAN.

SE DESCRIBE UN REACTOR PARA EL PROCESAMIENTO DE PLASMA QUE INCORPORA UNA ESTRUCTURA INTEGRADA DE LINEA DE TRANSMISION COAXIAL QUE EFECTUA UN ACOPLAMIENTO DE LINEA DE TRANSMISION MUY CORTO Y CON POCA PERDIDA DE UNA ENERGIA ELECTRICA DE CA A LA CAMARA DE PLASMA Y ASI PERMITE EL USO EFECTIVO DE FRECUENCIAS VHF/UHF PARA GENERAR UN PLASMA. EL USO DE FRECUENCIAS DE VHF/UHF DENTRO DEL MARGEN DE 50 Y 800 MEGAHERZIOS PROPORCIONA INDICES DE PROCESAMIENTO COMERCIALMENTE VIABLES (CORROSION Y DEPOSICION SEPARADA O SIMULTANEA) Y UNA REDUCCION SUSTANCIAL EN VOLTAJES DE VAINA COMPARADO CON LAS FRECUENCIAS CONVENCIONALES COMO 13.56 MHZ. COMO RESULTADO, LA PROBABILIDAD DE DAÑAR LOS DISPOSITIVOS DE TAMAÑO PEQUEÑO SENSIBLES A LA ELECTRICIDAD QUEDA REDUCIDA.

(01/05/1998). Solicitante/s: APPLIED MATERIALS, INC.. Inventor/es: COLLINS, KENNETH S., MARKS, JEFFREY.

SE DESCRIBE UN APARATO PARA LA PRODUCCION DE UN PLASMA PLANO ACOPLADO ELECTROMAGNETICAMENTE QUE CONSTA DE UNA CAMARA QUE TIENE UN BLINDAJE DIELECTRICO EN UNA PARED DE LA MISMA Y UNA BOBINA PLANA COLOCADA FUERA DE DICHA CAMARA ACOPLADA A UNA FUENTE DE RADIOFRECUENCIA , CON LO QUE UN DEPURADOR DE FLUOR SE MONTA O AÑADE A DICHA CAMARA . CUANDO SE ATACA CON UN PLASMA DE UN GAS DE FLUOHIDROCARBURO UN OXIDO DE SILICIO, EL DEPURADOR DE FLUOR REDUCE LOS RADICALES LIBRES DE FLUOR, LO QUE MEJORA LA SELECTIVIDAD Y ANISOTROPIA DEL ATAQUE Y MEJORA LA VELOCIDAD DEL ATAQUE AL TIEMPO QUE REDUCE LA FORMACION DE PARTICULAS.

(01/03/1998). Solicitante/s: LAM RESEARCH CORPORATION. Inventor/es: OGLE, JOHN SELDON.

UN APARATO PARA PRODUCIR UN PLASMA PLANAR EN UN GAS DE PROCESO A BAJA PRESION INCLUYE UNA CAMARA Y UNA BOBINA PLANAR EXTERIOR. SE INDUCE CORRIENTE RESONANTE DE RADIOFRECUENCIA EN LA BOBINA PLANAR QUE A SU VEZ PRODUCE UN CAMPO MAGNETICO PLANAR DENTRO DE LA CAJA. EL CAMPO MAGNETICO PRODUCE LA CIRCULACION DEL FLUJO DE ELECTRONES QUE A SU VEZ PRODUCE UNA REGION PLANAR DE ESPECIES IONICAS Y RADICALES. EL SISTEMA PUEDE USARSE PARA TRATAMIENTO DE PLASMA DE UNA VARIEDAD DE ARTICULOS PLANARES, TIPICAMENTE DISCOS SEMICONDUCTORES QUE SE ORIENTAN DE FORMA PARALELA AL PLASMA DENTRO DE LA CAJA.

(01/07/1997). Solicitante/s: KAUFMAN & ROBINSON, INC. Inventor/es: KAUFMAN, HAROLD R., ROBINSON, RAYMOND S.

UN PAR DE ELECTRODOS DE TAMAÑO NO SIMILAR SON GUIADOS POR UNA FUENTE DE RADIOFRECUENCIA PARA CREAR UN PLASMA. UN CAMPO MAGNETICO ESTA ORIENTADO DE FORMA QUE SEA PARALELO A UNA SUPERFICIE DEL ELECTRODO PEQUEÑO . LA RESISTENCIA DEL CAMPO AUMENTA EN CUALQUIER LADO DEL ELECTRODO PEQUEÑO . SEGUN SE MUESTRA, LOS IONES SE ACELERAN ELECTROSTATICAMENTE FUERA DEL PLASMA, PERO PODRAN ACELERARSE TAMBIEN MAGNETICAMENTE, LOS ELECTRONES PUEDEN EXTRAERSE, ALTERNATIVAMENTE, O NO PODRAN SER UN MECANISMO ACELERADO.

(01/07/1997). Solicitante/s: APPLIED MATERIALS, INC.. Inventor/es: MAYDAN, DAN, MINTZ, DONALD M., HANAWA, HIROJI, SOMEKH, SASSON.

UN PROCESO DE PLASMA, METODO Y APARATO CAPACES DE OPERACION SIGNIFICATIVAMENTE POR ENCIMA DE 13'56 MHZ PUEDE PRODUCIR VOLTAJE DE POLARIZACION AUTOMATICA DE REJILLA REDUCIDO DEL ELECTRODO ACTIVADO, PARA HABILITAR PROCESOS MAS SUAVES QUE NO DAÑEN CAPAS FINAS QUE ESTAN CONSTANTEMENTE SIENDO COMUNES EN CIRCUITOS INTEGRADOS DE GRAN VELOCIDAD Y DE GRAN DENSIDAD. SE UTILIZA UNA RED NO CONVENCIONAL SEMEJANTE PARA HABILITAR LA ELIMINACION DE REFLEXIONES A ESTAS FRECUENCIAS SUPERIORES. EL CONTROL AUTOMATICO DE LOS COMPONENTES DE LA RED SEMEJANTE HABILITA EL AJUSTE DE LA FRECUENIA DE RF PARA INFLAMAR EL PLASMA, Y DESPUES ACTUAR A UNA FRECUENXIA VARIABLE SELECCIONADA PARA REDUCIR AL MINIMO EL TIEMPO DEL PROCESO SIN DAÑO SIGNIFIVATIVO AL CIRCUITO INTEGRADO.

(01/05/1997). Solicitante/s: THE BOARD OF TRUSTEES OF THE MICHIGAN STATE UNIVERSITY. Inventor/es: ASMUSSEN, JES, REINHARD, DONNIE K.

SE DESCRIBE UN MECANISMO Y METODO PARA TRATAR UN SUBSTRATO CON UNA ESPECIE EXCITADA SEPARADA DE UN PLASMA (15, 15A, 31, 52, 53). EL MECANISMO INCLUYE TUBOS EN LOS EXTREMOS CERRADOS O ABIERTOS (13, 22, 30, 54 Y 55) CON APARATOS U ORIFICIOS (16, 32, 56 Y 57) PARA DIRIGIR LA ESPECIE EXCITADA A UN SUBSTRATO Y UNA PLACA GRADUABLE O CORTACIRCUITO DESLIZANTE EN LA PARTE INTERIOR O EXTERIOR DE LOS TUBOS PARA SITUAR EL PLASMA EN EL TUBO DURANTE EL MANEJO DEL MECANISMO. SE UTILIZA LA POSICION DE REGULACION O BOQUILLAS O LAS VARIACIONES DE POTENCIA. EL METODO Y MECANISMO SON UTILES PARA DEPOSITAR PELICULAS, GRABADOS Y SIMILARES.

(01/03/1997). Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BERGMANN, ERICH, DR., RUDIGIER, HELMUT, DR.

EL OBJETIVO DE ESTA INVENCION ES LLEGAR A PRODUCIR LA INFLAMACION EN UN ARCO DE EVAPORACION, DE AL MENOS MATERIAL FUNDIDO EN SU SUPERFICIE COMO CONSECUENCIA DE LA EVAPORACION, ASI COMO SU ESTABILIZACION Y SU CONTROL. PARA ELLO SE PREVEE DE UN CAÑON DE RADIACION ELECTRONICA O DE UN LASER, PARA LA GENERACION DE UNA NUBE DE VAPOR LOCAL O UNAS MANCHAS DE MATERIAL PREFUNDIDO SOBRE LA SUPERFICIE OBJETO, Y CON ELLO PRODUCIR LA INFLAMACION DE MANCHA DE ARCO O RESPECTIVAMENTE SU CONTROL.

(01/04/1996). Solicitante/s: EL-PLASMA LTD. Inventor/es: ESTERLIS, MOISEI.

UN METODO Y UN APARATO PARA EL TRATAMIENTO DE LA SUPERFICIE DE UNA PIEZA DE TRABAJO QUE CONSISTE EN GENERAR ENTRE UNA PORCION PRINCIPAL EXPUESTA DE UN ANODO Y LAS AREAS LIMITADAS SUCESIVAS DE UNA PRIMERA SUPERFICIE DE LA PIEZA DE TRABAJO QUE ACTUA COMO CATODO, UNA DESCARGA EN ARCO EN EL VACIO QUE TENGA UNA CORRIENTE DE ARCO QUE NO SEA SUSTANCIALMENTE MENOR DE 50 AMP Y QUE TENGA UN GRADIENTE DE CORRIENTE EN FUNCION DE LA TENSION POSITIVO.

(01/02/1996). Solicitante/s: HALMAR/ROBICON GROUP, INC. Inventor/es: ANDERSON, GLEN, L., HAMMOND, PETER, W., YOTIVE, DAVID, S.

UN DERIVADOR DE ARCO DETECTA UN ARCO ENTRE EL CATODO Y EL ANODO DE UN APARATO DE DESCARGA LUMINISCENTE Y COMO RESPUESTA, ACTIVA UN PAR DE CONMUTADORES PARA PERMITIR QUE UN CAPACITOR SE DESCARGUE HACIA EL CATODO A LO LARGO DE UN TRAYECTO DE DERIVACION RESONANTE Y RECARGUE EL CAPACITOR PARA LA DESCARGA POSTERIOR EN UNA DIRECCION OPUESTA. ESTA CORRIENTE DE DESCARGA CORTOCIRCUITA EFICAZMENTE EL SUMINISTRO DE ENERGIA Y EXTINGUE EL ARCO. EL DERIVADOR INCLUYE DOS TRAYECTOS DE DERIVACION RESONANTE Y CUATRO CONMUTADORES CONFIGURADOS EN "H" PARA MANTENER EL CAPACITOR EN UN ESTADO CARGADO. EL ALTERNAR LA ACTIVACION DE PARES DE CONMUTADORES SITUADOS DIAGONALMENTE Y PERMITE QUE EL CAPACITOR CARGADO SE DESCARGUE EN UNA DIRECCION A LO LARGO DE UNO DE LOS TRAYECTOS DE DERIVACION RESONANTE (26 O 27) Y SE RECARGUE PARA UNA DESCARGA POSTERIOR EN LA DIRECCION OPUESTA, A LO LARGO DEL OTRO DE LOS TRAYECTOS RESONANTES (26 O 27).

(16/01/1996). Solicitante/s: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: TESCHNER, GOTZ, DIPL.-ING.

LA INVENCION SE REFIERE A UNA DISPOSICION DEL CIRCUITO PARA LA SUPRESION DE SALTOS DE CHISPAS EN UN PLASMA, PARA LO CUAL EXISTE UNA TENSION EN LA RUTA DEL PLASMA . EL VALOR INSTANTANEO DE LA TENSION DE LA RUTA DEL PLASMA SE COMPARA CON UN VALOR MEDIO DE LA TENSION, EL CUAL FUE HALLADO DENTRO DE UN TIEMPO PREFIJADO. SI LA DIFERENCIA ENTRE EL VALOR INSTANTANTEO Y EL VALOR MEDIO SUPERA UNA CANTIDAD PREFIJADA, SE SEPARA LA RUTA DEL PLASMA DE LA TENSION.

(16/12/1995). Solicitante/s: MATERIALS RESEARCH CORPORATION. Inventor/es: GHANBARI, EBRAHIM.

SE PREVE UN GENERADOR DE PLASMA DE RESONANCIA DE CICLOTRON DE ELECTRON EN UN APARATO DE PROCESAMIENTO DE PLASMA EN PASTILLA SEMICONDUCTORA Y MODULO DE HERRAMIENTA DE GRUPO , PARTICULARMENTE PARA SU USO EN GRABACION AL AGUAFUERTE BLANDA. EL GENERADOR GENERA UN PLASMA UNIFORME GIRANDO UNA CAMPO MAGNETICO QUE SOPORTA UNA RESONANCIA QUE PRODUCE PLASMA ALREDEDOR DEL EJE DE UNA CAVIDAD DE RESONANCIA DENTRO DE LA CAMARA DE VACIO DE UN PROCESADOR DE PLASMA. EL CAMPO GIRADO ES PREFERENTEMENTE UN CAMPO DE PUNTO ESTACIONARIO UNICO O MULTIPUNTO ESTACIONARIO PRODUCIDO POR UN CONJUNTO MAGNETICO , PREFERENTEMENTE FORMADO DE UNA RED CILINDRICA DE IMANES EN BARRA /0), MONTADOS PARA GIRAR ALREDEDOR DE LA PARTE EXTERIOR DE LA PARED DE LA CAVIDAD . EL GAS FLUYE UNIFORMEMENTE DENTRO Y A TRAVES DE LA CAVIDAD A PARTIR DE UNA DUCHA DE DISTRIBUCION DE GAS . LA ENERGIA DE MICROONDAS SE DIVIDE EN PARTES IGUALES Y SE ACOPLA DENTRO DE LA CAVIDAD EN MODO TM01 POR UNA PLURALIDAD DE BUCLES AXIAL Y RADIALMENTE ALINEADOS.

(01/12/1995). Solicitante/s: METAPLAS OBERFLACHENVEREDELUNGSTECHNIK GMBH. Inventor/es: VETTER, JORG, DR., SCHMIDT-MAUER, MANFRED, MATENTZOGLU NIKOLAUS.

LOS EQUIPOS DE REVESTIMIENTO DE PVD CONOCIDOS, QUE TRABAJAN CON UNO O VARIOS ARCOS VOLTAICOS, SE HAN MODIFICADO EN EL SENTIDO DE QUE SE DISPONE EN LA CAMARA DE REVESTIMIENTO UN ANODO ADICIONAL, QUE ES MANTENIDO A UNA TENSION DE UNA FUENTE DE ALIMENTACION ESPECIAL, SIENDO MAS ALTA QUE CON LA QUE TRABAJAN LOS EVAPORADORES . DURANTE LA FASE DEL PROCESO QUE SIRVE PARA EL CALENTAMIENTO Y LIMPIEZA DE LAS PARTES A REVESTIR , ANTERIOR AL PROPIO REVESTIMIENTO, SE APANTALLAN ADEMAS LOS EVAPORADORES MEDIANTE PANTALLAS MOVILES DE TAL MODO, QUE SE IMPIDE EL CRECIMIENTO DE CAPAS PARASITARIAS DE UNA COMPOSICION CONOCIDA INEXACTA SOBRE LAS PARTES Y EL PERJUICIO DE LA CALIDAD DEL REVESTIMIENTO, ES EVITADO POR MEDIO DE LAS GOTITAS PRECIPITADAS POR LOS CATODOS . LA LIMPIEZA Y CALENTAMIENTO DE LAS PARTES SE REALIZA POR BOMBARDEO DE IONES DE GAS, LOS CUALES SON GENERADOS MEDIANTE EL SEGUNDO ANODO POR LA SUCCION DE ELECTRODOS DEL PLASMA DE LA DESCARGA DEL ARCO VOLTAICO.

(01/06/1995). Solicitante/s: LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: GEISLER, MICHAEL, JUNG, MICHAEL, DIPL.-ING., KESSLER, BERNHARD, DIPL.-ING., LEUTERER, FRITZ, DIPL.-ING., MUNICH, MAX, DIPL.-ING., WILHELM, ROLF, DIPL.-PHYS.

LA INVENCION TRATA DE UN DISPOSITIVO PARA LA GENERACION DE UN CAMPO DEL MICROONDAS HOMOGENEO SOBRE UN RECORRIDO EXTENSO. ESTE DISPOSITIVO TIENE UN RESONADOR DE CAMARA HUECA , QUE SE PUEDE COLOCAR EN EL MICROONDAS. DE LAS ONDAS QUE SE FORMAN EN EL RESONADOR DE LA CAMARA DE VACIO SE ACOPLA DE FORMA INDUCTIVA O CAPACITIVA ENERGIA ELECTROMAGNETICA MEDIANTE UN ACOPLADOR ESPECIAL EN LA CAMARA , DONDE SE ENCUENTRA EL PLASMA.

(16/08/1994). Solicitante/s: NUKEM GMBH. Inventor/es: SCHUM, BERTHOLD, HEWIG, GERT, WORNER, JORG, DR.

AL EXAMINAR PARA CONOCER COMO ES DEBIDO UN PROCESO DE COMBUSTION LENTA, DEBE REPRODUCIRSE SU REALIZACION, MEDIANTE UNA REPRESENTACION EN PERSEGUIDOS MEDIANTE ESPECTROMETRIA DE MASAS.

(16/05/1994). Solicitante/s: FRIED. KRUPP AG HOESCH-KRUPP. Inventor/es: SCHLUMP, WOLFGANG, DR.RER.NAT., BUCK, VOLKER, PROF. DR., WILLBRAND, JURGEN, DIPL.-CHEM.

PROCEDIMIENTO PARA LA GENERACION DE CAPAS DE MODIFICACIONES DE CARBONO DURO Y DISPOSITIVO PARA LA REALIZACION DEL PROCEDIMIENTO. LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO Y A UN DISPOSITIVO PARA LA GENERACION ESPECIALMENTE TAMBIEN DE CAPAS DE DIAMANTE EMPLEANDO UN MEDIO QUE CONTIENE CARBONO POR MEDIO DE UN ARCO DE LUZ DE CORRIENTE CONTINUA, ENCENDIDO BAJO VACIO ENTRE DOS ELECTRODOS, AL QUE SE CONDUCE HIDROGENO. PARA LA MEJORA DE LA RENTABILIDAD DE UN PROCEDIMIENTO DE ESTE TIPO O BIEN DE UN DISPOSITIVO DE ESTE TIPO SE PRESENTA LA PROPUESTA DE INTRODUCIR EL HIDROGENO DIRECTAMENTE A TRAVES DE AL MENOS UNO DE LOS DOS ELECTRODOS (7 U 8) Y HACER ALIMENTAR EL ARCO DE LUZ, A DISTANCIA ENTRE ELECTRODOS REGULABLE POSTERIORMENTE, POR EL ANODO QUE ACTUA COMO FUENTE DE CARBONO.