APARATO OBTURADOR SEPARABLE PARA UNA CAMARA DE PROCESAMIENTO DE SEMICONDUCTORES.
LA INVENCION SE REFIERE A UN APARATO OBTURADOR SEPARABLE PARA UN APARATO DE DEPOSITACION O GRABACION QUIMICA QUE INCLUYE UN MECANISMO OBTURADOR (68,
70, 72) DISPUESTO EN EL INTERIOR DE UNA CAMARA DE PROCESAMIENTO (42) Y ADAPTADO PARA SOPORTAR UNA PLACA OBTURADORA (66) ENTRE UNA POSICION RETRAIDA Y UNA POSICION EXTENDIDA EN LA QUE ES ENGANCHADA POR UN DISPOSITIVO ELEVADOR (56, 57) Y MOVIDA A SU SITIO CERRANDO LA ABERTURA DE METALIZACION NORMAL (38) COMO SI FUERA UN SUBSTRATO (46) A SER PROCESADO. CUANDO UN NUEVO SUBSTRATO (46) ESTA PRESENTE PARA SU PROCESAMIENTO, EL MECANISMO ELEVADOR (56, 57) HARA DESCENDER LA PLACA DEL OBTURADOR (66) DE NUEVO SOBRE EL MECANISMO DE OBTURACION Y SERA LLEVADA HASTA SU POSICION RETRAIDA FUERA DEL CAMINO DE LA OPERACION DE PROCESAMIENTO Y MANEJO NORMAL. A CAUSA DE QUE LA PLACA DEL OBTURADOR (66) ES GEOMETRICAMENTE SIMILAR AL SUBSTRATO Y SE MANEJA POR EL MISMO DISPOSITIVO ELEVADOR (56, 57), EL MISMO MECANISMO DE OBTURACION ROBOTICA (53, 51) USADO PARA TRANSPORTAR SUBSTRATOS DENTRO Y FUERA DE LA CAMARA, PUEDE USARSE PARA SACAR DE FORMA PERIODICA Y REEMPLAZAR UNA PLACA OBTURADORA USADA (66) CON UNA NUEVA PLACA SIN DETENER EL SISTEMA. UNA IMPORTANTE VENTAJA DE LA PRESENTE INVENCION ES QUE EL OBTURADOR CIERRA, Y DE ESTA FORMA DEJA SIN LUZ, EXACTAMENTE LA MISMA APERTURA DE PROCESAMIENTO CERRADA POR EL SUBSTRATO DURANTE SU PROCESAMIENTO.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: APPLIED MATERIALS, INC..
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 3050 BOWERS AVENUE,SANTA CLARA CALIFORNIA 95054-3.
Inventor/es: TEPMAN, AVI.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 29 de Noviembre de 1995.
Clasificación Internacional de Patentes:
- H01J37/18 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Cierres estancos.
- H01J37/32 H01J 37/00 […] › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).
- H01L21/00 H01 […] › H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas.
Patentes similares o relacionadas:
Procedimiento y dispositivo para la realización del test de obleas de semiconductor por medio de un dispositivo de fijación atemperable, del 1 de Julio de 2020, de ERS ELECTRONIC GMBH: Procedimiento para la realización del test de obleas de semiconductor por medio de un dispositivo de fijación atemperable con las etapas: atemperado del dispositivo […]
Conjunto de sensores con zona(s) antidifusión para prolongar el periodo de caducidad, del 5 de Noviembre de 2019, de SIEMENS HEALTHCARE DIAGNOSTICS INC.: Un conjunto de sensores que comprende: un primer sustrato plano , teniendo el primer sustrato plano una primera superficie plana del primer […]
Procedimiento para fabricar piezas con superficie grabada por iones, del 8 de Marzo de 2019, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Un procedimiento para fabricar piezas, estando al menos una parte de la superficie de dichas piezas grabada, incluyendo el grabado por impacto de iones, que comprende: […]
Método mejorado para el grabado de microestructuras, del 3 de Octubre de 2018, de Memsstar Limited: Método para grabar una o más microestructuras ubicadas dentro de una cámara de proceso , comprendiendo el método las etapas siguientes: […]
MÉTODO Y SISTEMA PARA PRODUCIR GRAFENO SOBRE UN SUBSTRATO DE COBRE POR DEPOSICIÓN DE VAPORES QUÍMICOS (AP-CVD) MODIFICADO, del 25 de Enero de 2018, de UNIVERSIDAD TÉCNICA FEDERICO SANTA MARÍA: Un método y sistema para producir grafeno sobre un substrato de cobre por deposición de vapores químicos (AP-CVD) modificado; que, comprende: […]
Matrices de micropartículas y procedimientos de preparación de las mismas, del 19 de Julio de 2017, de BIOARRAY SOLUTIONS LTD: Un biochip, que comprende: un sustrato de oblea de semiconductor (L1) que tiene al menos una matriz de perlas dentro de regiones de chip delineadas […]
Fotodiodo PIN de alta velocidad con respuesta incrementada, del 30 de Noviembre de 2016, de PICOMETRIX, LLC: Un fotodiodo PIN que comprende: una primera capa semiconductora tipo p; una capa semiconductora tipo n; una segunda capa semiconductora […]
Instalación para el tratamiento en vacío de sustratos, del 12 de Octubre de 2016, de H.E.F: Instalación para el tratamiento en vacío de sustratos (S) compuesta de varios módulos, caracterizada por el hecho de que: - los diferentes […]