(09/05/2018). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: YOSHIMOTO,KAZUYA, YAWATA,YUKIMI, YOSHIOKA,DAIKI.

Un método para producir una placa de impresión flexográfica a partir una placa original de impresión flexográfica provista de una capa de resina fotosensible que comprende una composición de resina fotosensible que contiene al menos (A) un polímero hidrofóbico que comprende un látex dispersable en agua, (B) un compuesto fotopolimerizable y (C) un iniciador de fotopolimerización, donde el método comprende un paso de exposición principal, un paso de revelado y un paso de post-exposición, caracterizado por que una disolución de tratamiento que contiene una primera silicona amino modificada que tiene un equivalente de amina de 1000 g/mol o menor y una segunda silicona amino modificada que tiene un equivalente de amina de 3000 g/mol o mayor en una proporción en masa de desde 2,5:1 hasta 1:6 se pone en contacto con toda la superficie de la placa de impresión flexográfica.

PDF original: ES-2672001_T3.pdf

(11/04/2018). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: MOTOI, KEIICHI, YOSHIMOTO,KAZUYA.

Un método para la fabricación de una placa de impresión flexográfica, que se caracteriza por que se prepara, un líquido que contiene un compuesto de silicona modificado con amino para entrar en contacto con una placa de impresión flexográfica que contiene un látex que tiene un grado de gelificación de no menos del 50% en masa, en donde se utiliza un compuesto de silicona modificado con amino que tiene un equivalente de grupos amino de no menos de 500 g/mol.

PDF original: ES-2665942_T3.pdf

(17/02/2016). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: WADA, TORU, HIRAMATSU,TOMONORI, TOMITA,AKIRA.

Una composición de resina fotosensible que comprende (A) polímeros hidrófobos obtenidos a partir de al menos dos o más látex de dispersión en agua, (B) un compuesto fotopolimerizable, (C) un iniciador de fotopolimerización y (D) un polímero hidrófilo, en la que dichos dos o más polímeros hidrófobos están presentes cada uno en un estado de partícula fina, y en la que la distribución de diámetro de partícula de las partículas finas del componente (A) tiene dos o más picos y la proporción de los diámetros de partícula respectivos en los picos es 2 veces o más, y en la que al menos un polímero hidrófobo del componente (A) y el polímero hidrófilo del componente (D) tienen una estructura de cadena principal común.

PDF original: ES-2564146_T3.pdf

(17/02/2016). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: YAWATA,YUKIMI, YAMADA,HIROTO.

Una composición de resina fotosensible para una plancha original de impresión flexográfica, caracterizada por que la composición contiene (A) polímeros hidrófobos obtenidos a partir de al menos dos tipos de látices dispersables en agua, (B) un caucho para comunicar elasticidad de caucho a la composición de resina fotosensible, (C) un compuesto fotopolimerizable y (D) un iniciador de fotopolimerización y que la relación en masa del componente (B) frente a la masa total del componente (A) y el componente (B) está dentro del intervalo de 1 a 7 %.

PDF original: ES-2617805_T3.pdf

(01/03/2007). Solicitante/s: SMS DEMAG AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: DENKER, WOLFGANG.

Dispositivo para flexionar los cilindros en una caja de laminación de varios cilindros, con bloques de flexión (5, 5a; 5’, 5a’) fijados por el lado de entrada y de salida entre las piezas de montaje de cilindro y las ventanas de bastidor que pueden tratarse mediante medios de ajuste, caracterizado porque a los bloques de flexión (5, 5a) del primer bastidor de cilindros se asigna un cilindro de émbolo , y a los bloques de flexión (5’, 5a’) del bastidor de cilindros (6’) opuesto un dispositivo de posicionamiento vertical.

(01/04/2004). Solicitante/s: TOYO GOSEI KOGYO CO., LTD. Inventor/es: WATANABE, MASAHARU-PHOTO. MATERIALS RESEARCH LAB, TOCHIZAWA, NORIAKI-PHOTOSENSITIVE MATERIAL RES.LAB, IMAMURA, YUKARI-PHOTOSENSITIVE MATERIALS RES. LAB., KIKUCHI, HIDEO-PHOTOSENSITIVE MATERIALS RES. LAB.

COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES PREPARADAS SIN USO DE UN COMPUESTO DE CROMO. LAS COMPOSICIONES PRESENTAN UNA ALTA RESOLUCION Y SENSIBILIDAD SATISFACTORIA Y NO CAUSAN CONTAMINACION MEDIOAMBIENTAL. LAS COMPOSICIONES FOTOSENSIBLES CONTIENEN UN COMPUESTO DE AZIDA HIDROSOLUBLE, QUE SIRVE COMO UN AGENTE DE FOTOENLACE CRUZADO Y POLI(N-VINILFORMANIDA) QUE ES FOTOENLAZABLE DE MANERA CRUZADA EN LA PRESENCIA DEL COMPUESTO DE AZIDA HIDROSOLUBLE.

(16/07/2003). Solicitante/s: THE DOW CHEMICAL COMPANY. Inventor/es: UZEE, ANDRE, J., ESNEAULT, CALVIN, P., MYERS, MICHAEL, O.

Un polímero elastómero fotocurable, en el que el polímero: a) es insaturado; b) tiene un peso molecular promedio numérico por lo menos de 30.000; y c) tiene un grupo terminal reactivo en el extremo alfa u omega del polímero, en el que el grupo terminal reactivo es uno capaz de polimerización, copolimerización, oligomerización o dimerización por adición de radicales libres iniciada por un fotoiniciador en presencia de radiación actínica y d) es de la forma I-A-B-A-R, en la que I es el residuo de un iniciador de organolitio, A es un bloque de polímero de estireno, B es un bloque de polímero de butadieno y/o isopreno, y R es un grupo terminal reactivo en el extremo omega del polímero, en el que el grupo terminal reactivo es uno capaz de polimerización, copolimerización, oligomerización o dimerización por adición de radicales libres iniciada por un fotoiniciador en presencia de radiación actínica.

(16/05/2003). Solicitante/s: DU PONT DE NEMOURS (DEUTSCHLAND) GMBH. Inventor/es: DUDEK, DIETMAR, DR., HINZ, KONRAD, STRUCK, BERND.

MEZCLA FOTOPOLIMERIZABLE PARA LA FABRICACION DE MOLDES FLEXOGRAFICOS CON UNA RESISTENCIA PERFECCIONADA FRENTE A LOS MOLDES ENDURECIBLES POR UV, QUE CONTIENE DE UN 10 A UN 45 % EN PESO COMO MINIMO DE UN COPOLIMERO DE BLOQUE TERMOPLASTICAMENTE ELASTOMERO, FORMADO POR DOS O MAS BLOQUES DE POLIMEROS COMPUESTOS DE UNIDADES AROMATICAS DE VINILO, Y UNO O VARIOS BLOQUES DE POLIMERO COMPUESTOS DE UNIDADES DE ISOPRENO Y/O ISOPRENO/BUTADIENO, CON UN CONTENIDO DE ENLACE DE VINILO DEL 70 % COMO MAXIMO, CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 20 MO, Y CON UNA TEMPERATURA DE PICO DE UNA DISPERSION PRIMARIA DE TAN DL} DE 30.

(16/04/2003). Solicitante/s: DU PONT DE NEMOURS (DEUTSCHLAND) GMBH. Inventor/es: DUDEK, DIETMAR, DR., HINZ, KONRAD, STRUCK, BERND.

PLANCHA IMPRESORA FOTOPOLIMERIZABLE CON UNA RESISTENCIA PERFECCIONADA FRENTE A LA TINTA DE IMPRENTA ENDURECIBLE POR UV QUE CONTIENE EN UNA CAPA ELASTOMERA AL MENOS UN COPOLIMERO DE BLOQUE TERMOPLASTICAMENTE ELASTOMERO, FORMADO POR DOS O MAS BLOQUES DE POLIMEROS COMPUESTOS DE UNIDADES AROMATICAS DE VINILO, Y UNO O VARIOS BLOQUES DE POLIMERO COMPUESTOS DE UNIDADES DE ISOPRENO Y/O ISOPRENO/BUTADIENO, CON UN CONTENIDO DE ENLACE DE VINILO DEL 70 % COMO MAXIMO, CON UNA TEMPERATURA DE TRANSICION VITREA DE 20 UNA DISPERSION PRIMARIA DE TAN DE} DE 30.

(01/12/2002). Solicitante/s: DU PONT DE NEMOURS (DEUTSCHLAND) GMBH. Inventor/es: KRASKA, URSULA, DR., SIMON, REIMUND.

MEZCLA FOTOPOLIMERIZABLE PARA LA PRODUCCION DE TROQUELES FLEXOGRAFICOS PARA LA IMPRESION DIRECTA DE CARTON ONDULADO QUE CONTIENE UN COPOLIMERO DE BLOQUE RADIAL DE (POLIESTIRENOPOLIBUTADIENO) N X, SIENDO X=SN O SI Y N=2 O 4, QUE TIENE UN PESO MOLECULAR MEDIO M W DE ENTRE 80.000 Y 300.000 Y UNA DISTRIBUCION DE PESO MOLECULAR (M W /M N ) DE ENTRE 1,00 Y 1,40, MENOS DEL 15 % EN PESO DE UN COPOLIMERO DE DIBLOQUE Y QUE ESTA ESTIRADO CON HASTA AL MENOS EL 50 % EN PESO DE UN ACEITE DE PARAFINA.

(16/07/2000). Solicitante/s: MACDERMID, INCORPORATED. Inventor/es: HALLOCK, JOHN SCOTT, EBNER, CYNTHIA LOUISE, BECKNELL, ALLAN, FREDERICK, HART, DANIEL, JOSEPH.

SE DESCRIBEN COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE ESTABLES, FLOTANTES Y METODOS DE SU PREPARACION Y UTILIZACION. LAS COMPOSICIONES SE CARACTERIZAN POR RESISTENCIA AL CORTE INCREMENTADA Y ESTABILIDAD DE ALMACENAMIENTO. LA COMPOSICION DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE COMPRENDE UNA EMULSION ACUOSA DE UN 22 % O MENOS DE RESINA CARBOXILATADA NEUTRALIZADA Y SURFACTANTE NOIONICO QUE CONTIENE SEGMENTOS DE POLI(ETILENO-OXIDO), MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE Y FOTOINICIADOR. LA NEUTRALIZACION SE LOGRA UTILIZANDO UNA BASE ORGANICA O INORGANICA O MEZCLAS DE LAS MISMAS. LAS COMPOSICIONES DE SUSTANCIA FOTOENDURECIBLE SON UTILES PARA CUBRIR Y PROTEGER SELECTIVAMENTE SUPERFICIES SUJETAS A AMBIENTES CORROSIVOS, POR EJEMPLO, PROCESOS DE BAÑOS DESOXIDANTES, EN LA PRODUCCION DE SEGUIMIENTOS DE CIRCUITOS PARA PLACAS DE CIRCUITOS ELECTRONICOS.

(01/08/1998). Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: BARR, ROBERT K., DERRICO, GENE R.

UNA COMPOSICION FLOTANTE CON LA QUE SE PUEDEN FORMAR IMAGENES POR VIA FOTOMECANICA O SUSTANCIA PROTECTORA FOTOSENSIBLE QUE CONTIENE UN POLIMERO AGLUTINANTE DE LATEX QUE POSEE UNA FUNCIONALIDAD DEL ACIDO CARBOXILICO SUFICIENTE COMO PARA QUE SE PUEDA REVELAR EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA, UNA FRACCION MONOMERICA FOTOPOLIMERIZABLE, UN SISTEMA QUIMICO FOTOINICIADOR Y UN POLI(SILOXANO(S)).

(01/07/1998). Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: LUNDY, DANIEL E., BARR, ROBERT K., TRAN, THANH N.

UNA COMPOSICION FLOTANTE CON LA QUE SE PUEDEN FORMAR IMAGENES POR VIA FOTOMECANICA O SUSTANCIA PROTECTORA FOTOSENSIBLE QUE CONTIENE UN POLIMERO AGLUTINANTE DE LATEX QUE POSEE UNA FUNCIONALIDAD DEL ACIDO PARA QUE SE PUEDA REVELAR EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA, CUYA FUNCIONALIDAD DEL ACIDO SE NEUTRALIZA A AL MENOS 1 MOL POR CIENTO CON UN AMINOACRILATO, UNA FRACCION MONOMERICA FOTOPOLIMERIZABLE Y UN SISTEMA QUIMICO FOTOINICIADOR.

(16/06/1998). Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: BARR, ROBERT K.

UNA COMPOSICION FLOTANTE CON LA QUE SE PUEDEN FORMAR IMAGENES POR VIA FOTOMECANICA O SUSTANCIA PROTECTORA FOTOSENSIBLE QUE CONTIENE UN POLIMERO AGLUTINANTE DE LATEX QUE POSEE LA FUNCIONALIDAD DEL ACIDO CARBOXILICO PARA QUE SE PUEDA REVELAR EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA, UNA FRACCION MONOMERICA FOTOPOLIMERIZABLE, UN FOTOINICIADOR Y UN ESPESADOR ASOCIADO DE POLIURETANO DE POLIETER QUE SOPORTA UNA EMULSION DE LA FRACCION MONOMERICA EN UN MEDIO ACUOSO. LA FUNCIONALIDAD DEL ACIDO CARBOXILICO DEL POLIMERO AGLUTINANTE DE LATEX SE NEUTRALIZA A DE UN 0 A UN 20%.

(01/11/1997). Solicitante/s: DU PONT LIMITED. Inventor/es: WADE, JOHN ROBERT, PRATT, MICHAEL JOHN, MURRAY, DAVID EDWARD, MATTHEWS, ANDREW ERNEST, GATES, ALLEN PETER, KING, WILLIAM ANTONY.

SE PRESENTA UN MATERIAL SENSIBLE A LA RADIACION QUE COMPRENDE PARTICULAS QUE INCLUYEN UN NUCLEO INSOLUBLE EN AGUA Y DEFORMABLE POR LA ACCION DEL CALOR RODEADO POR UNA CUBIERTA QUE ES SOLUBLE EN UN MEDIO ACUOSO. EL MATERIAL TAMBIEN INCLUYE UN COMPONENTE SENSIBLE A LA RADIACION QUE, DESPUES DE SU EXPOSICION A LA RADIACION, PROVOCA QUE LAS CARACTERISTICAS DE SOLUBILIDAD DEL MATERIAL CAMBIE. EL MATERIAL PUEDE SER TRABAJADO POSITIVA O NEGATIVAMENTE Y PUEDE SER RECUBIERTO SOBRE UN SUBSTRATO A PARTIR DE UN MEDIO ACUOSO PARA FORMAR UNA PLACA SENSIBLE A LA RADIACION QUE, DESPUES DE SU EXPOSICION, PUEDE SER REVELADA EN UN MEDIO ACUOSO Y CALENTADA PARA PROVOCAR QUE LAS PARTICULAS SE FUNDAN Y FORMEN UNA IMAGEN DE IMPRESION DURADERA.

(16/10/1997). Solicitante/s: PT SUB, INC. Inventor/es: GOSS, WILLIAM, K., YANG, MICHAEL, W.

SE PROPORCIONAN ELEMENTOS FOTOCURABLES QUE SON UTILES PARA PREPARAR PLACAS DE IMPRESION FLEXOGRAFICAS LOS CUALES COMPRENDEN UNA CAPA IMPRESORA Y UNA CABA DE BASE CONTIGUA, COMPRENDIENDO LA CAPA DE IMPRESION DE 40 A 95 PARTES POR PESO DE UN COPOLIMERO ELASTOMERICO EN BLOQUE, DE ALREDEDOR DE 5 A 60 PARTES POR PESO DE UN SEGUNDO POLIMERO ELASTOMERICO QUE ES INCOMPATIBLE CON EL COPOLIMERO EN BLOQUE, UN MONOMERO FOTOPOLIMERIZABLE, Y UN FOTOINICIADOR. LA CAPA DE IMPRESION TAMBIEN COMPRENDE UN DISPERSADOR DE RADIACION ACTINICO Y UN PIGMENTO DE ABSORCION. SE PROPORCIONAN TAMBIEN, PLACAS IMPRESORAS DE LIBERACION PREPARADAS DESDE LOS ELEMENTOS FOTOCURABLES. LAS PLACAS DE IMPRESION TIENEN UNA SUPERFICIE SIN TACHUELAS TENIENDO UNAS EXCELENTES PROPIEDADES DE TRANSFERENCIA DE TINTA, RESISTENCIA A LA ABRASION Y RESISTENCIA A LA DISOLUCION. SE PUEDE PROPORCIONAR TAMBIEN UN ALTO NIVEL DE LATITUD DE EXPOSICION EN LOS ELEMENTOS FOTOCURABLES DE LA INVENCION.

(16/07/1997). Solicitante/s: NAPP SYSTEMS INC. Inventor/es: WAGNER, WILLIAM R.

UN MEDIO DE IMPRESION FOTOSENSIBLE SE COMPONE DE UN COPOLIMERO LATEX, UN COPOLIMERO EN BLOQUE ELASTOMERICO, TERMOPLASTICO LINEAL, UN COMPUESTO QUE CONTIENE UN ATOMO DE NITROGENO BASICO, UN COMPUESTO NO SATURADO ETILENICAMENTE Y UN SISTEMA DE INICIACION DE POLIMERIZACION. EL MEDIO DE IMPRESION TIENE UNA MICROESTRUCTURA DE DOMINIOS DIFERENTES DEL COPOLIMERO LATEX Y DE COPOLIMERO EN BLOQUE ELASTOMERICO EN UNA MATRIZ DE LOS OTROS COMPONENTES. EL MEDIO DE IMPRESION SE APOYA TIPICAMENTE EN UN SUSTRATO PARA FORMAR UNA PLANCHA DE IMPRESION. EL MEDIO DE IMPRESION ES FOTOSENSIBLE Y SE FORMAN IMAGENES MEDIANTE LA EXPOSICION A UNA RADIACION ACTINICA A TRAVES DE UNA PELICULA NEGATIVA FOTOGRAFICA. LAS PARTES NO EXPUESTAS SE LAVAN EN UN MEDIO DISPERSOR DE AGUA, SIN UTILIZAR SOLVENTES ORGANICOS, LO QUE PRODUCE UNA PLANCHA DE IMPRESION, QUE DESPUES DE SECARLA Y EXPONERLA POSTERORMENTE A UNA LUZ UW, ESTA LISTA PARA IMPRIMIR.

(01/10/1996). Solicitante/s: W.R. GRACE & CO.-CONN.. Inventor/es: HAGIWARA, YOSHICHI, SAMUKAWA, HIROSHI, MORI, YUICHI, KANAZAWA BUNKO, SAIGO, KAZUHIDE.

SE DESCUBRE UN GEL FOTOCURABLE APROPIADO PARA ARTICULOS TALES COMO PLACAS IMPRESORAS, FOTORESISTENTES Y SIMILARES. EL GEL FOTOCURABLE COMPRENDE (A) UNA COMPOSICION DE POLIMERO TENIENDO UNA MITAD DE METACRILATO DE POLIMETILO ISOTACTICO; Y UNA MITAD DE METACRILATO DE POLIMETILO SINDIOTACTICO; (B) UN COMPUESTO FOTOPOLIMERIZABLE NO SATURADO ETILENICAMENTE; Y (C) UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION. EL GEL ES SOLIDO A TEMPERATURA AMBIENTE Y ES CAPAZ DE PASAR POR UNA TRANSICION REVERSIBLE DE GEL/SOL MEDIANTE CALENTAMIENTO O ENFRIAMIENTO. SE DESCUBREN TAMBIEN METODOS DE PREPARAR ARTICULOS, ASI COMO METODOS DE FIJAR ARTICULOS, QUE UTILIZAN EL GEL. DICHOS METODOS INCLUYEN EL SELLADO DE PARTES DE COMPONENTES FIJADOS EN UN PANEL DE CIRCUITO ELECTRONICO.

(01/10/1995). Solicitante/s: CRAY VALLEY SA. Inventor/es: LUCAS, ROBERT THOMAS, MILLS, MARGARET.

UN MATERIAL NO SATURADO ETILENICAMENTE, ADECUADO PARA UTILIZACION EN COMPUESTOS FOTOCURABLES, SE COMPONE DEL PRODUCTO DE REACCION DE UNA RESINA NOVOLACA EPOXI Y (I) DE UN ACIDO CARBOXILICO NO SATURADO ETILENICAMENTE Y (II) DE UNA CADENA LARGA DE ACIDO GRASO, QUE CONTIENE NORMALMENTE AL MENOS 8 ATOMOS DE CARBONO, COMPUESTO (II) QUE SE FORMA DEL 2,5 AL 15 % MOLAR DE LA MEZCLA DE COMPONENTES (I) Y (II). LA INVENCION TAMBIEN PROPORCIONA COMPUESTOS FOTOCURABLES, ESPECIALMENTE TINTAS PARA LITOGRAFIA, QUE SE COMPONEN DE TALES MATERIALES NO SATURADOS ETILENICAMENTE JUNTO A UN FOTOINICIADOR Y, OPCIONALMENTE, OTROS COMPONENTES.

(01/12/1991). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SANNER, AXEL, HOFMANN,REINER.

PARA LA OBTENCION DE MATERIALES DE REGISTRO FOTOSENSIBLES, ADECUADOS PARA RELIEVES DE IMPRESION O DIBUJOS DE CAPA PROTECTORA, CON UNA CAPA DE REGISTRO, OBTENIBLE EN UNA SOLUCION ALCALINA, FOTOPOLIMERIZABLE, APLICADA SOBRE UN SOPORTE DE DIMENSIONES ESTABLES, QUE COMO AGLUTINANTE POLIMERO CONTIENE AL MENOS UN COPOLIMERIZADO FORMADOR DE PELICULA, NO SOLUBLE EN AGUA, SOLUBLE SIN EMBARGO EN SOLUCIONES ACUOSO-ALCALINAS, O AL MENOS DISPERSABLE, A BASE DE 10 A 50 % DE SU PESO AL MENOS DE UNA N VINILAMIDA, 8 A 30 % DE SU PESO DE ACIDO ACRILICO Y/O ACIDO METACRILICO, Y 30 A 80 % DE SU PESO AL MENOS DE UN COMONOMERO HIDROFOBO, LOS CUALES COMO TALES FORMAN EN AGUA Y EN SOLUCIONES ACUOSO-ALCALINAS HOMOPOLIMERIZADOS INSOLUBLES, POR LO QUE LOS GRUPOS CARBOXI DEL POLIMERIZADO, SON ESTERIFICADOS PARCIALMENTE, POR TRANSFORMACION CON GLICIDIL(MET)ACRILATO.

(01/12/1991). Solicitante/s: BASF AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SANNER, AXEL, HOFMANN,REINER.

SON ADECUADOS PARA LA OBTENCION DE RELIEVES DE IMPRESION Y DE DIBUJOS DE CAPA PROTECTORA, LOS MATERIALES DE REGISTRO FOTOSENSIBLES, CON UNA CAPA DE REGISTRO FOTOPOLIMERIZABLE, OBTENIBLE EN UNA SOLUCION ALCALINA, APLICADA SOBRE UN SOPORTE DE DIMENSIONES ESTABLES, QUE COMO AGLUTINANTE POLIMERO, CONTIENE AL MENOS UN COPOLIMERIZADO, FORMADOR DE CAPA, INSOLUBLE EN AGUA, SOLUBLE SIN EMBARGO EN UNA DISOLUCION ACUOSO-ALCALINA, O AL MENOS DISPERSABLE, A BASE DE, 10 A 50 % DE SU PESO AL MENOS DE UN HIDROXIALQUIL SU PESO AL MENOS DE UN ALQUIL(MET)ACRILATO, POR LO QUE LOS GRUPOS CARBOXILO DEL COPOLIMERIZADO SON PARCIALMENTE ESTERIFICADOS, POR MEDIO DE LA TRANSFORMACION CON GLICIDIL(MET)ACRILATO.

(16/02/1981). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC..

PROCEDIMIENTO PARA PRODUCIR MODELOS PROTECTORES NEGATIVOS PARA DISPOSITIVOS EN ESTADO SOLIDO, MEDIANTE IRRADIACION Y PROCESADO CON PLASMA. UN MATERIAL MONOMERICO DISUELTO SENSIBLE A LA RADIACION ELECTROMAGNETICA SE APLICA SOBRE UN SUSTRATO POLIMERICO Y SE SECA; A CONTINUACION SE IRRADIA CON UNA RADIACION DE ONDA ADECUADA A TRAVES DE UNA MASCARA QUE REPRODUCE EL MODELO DESEADO; POR CALENTAMIENTO SE ELIMINA EL MONOMERO NO FIJADO POR LA RADIACION, Y LUEGO, POR TRATAMIENTO CON PLASMA, SE ELIMINA EL POLIMERO DEL SUSTRATO ALLI DONDE NO ESTA PROTEGIDO POR EL MONOMERO IRRADIADO.