PLACA FOTOSENSIBLE DESARROLLABLE POR AGUA Y SU OBTENCION.
UNA PLACA DE RESINA FOTOSENSIBLE DESARROLLABLE POR AGUA ADECUADA PARA LA FABRICACION DE UNA PLACA DE IMPRESION DE RELIEVE QUE TIENE ALTA RESISTENCIA A LAS TINTAS CON BASE DE AGUA,
ELEVADA ELASTICIDAD Y EXCELENTE ESTABILIDAD DE FORMA, QUE COMPRENDE: (A) UN COPOLIMERO QUE TIENE UNIDADES DE (I) UN MONOMERO DE DIENO CONJUGADO ALIFATICO, (II) UN ACIDO CARBOXILICO (ALFA),(BETA)-ETILENICAMENTE NO SATURADO, Y (III) UN MONOMERO VINILICO POLIFUNCIONAL, OPCIONALMENTE CON (IV) UN MONOMERO DE VINILO MONOFUNCIONAL, SIENDO EL CONTENIDO DE MONOMERO DE DIENO CONJUGADO ALIFATICO (I), EL ACIDO CARBOXILICO (ALFA),(BETA)-ETILENICAMENTE INSATURADO (II), EL MONOMERO VINILICO POLIFUNCIONAL (III) Y EL MONOMERO VINILICO MONOFUNCIONAL (IV), RESPECTIVAMENTE DE 5 A 95 % MOLAR APROXIMADAMENTE, DE 1 A 30 % MOLAR APROXIMADAMENTE, DE 0,1 A 10 % MOLAR APROXIMADAMENTE Y 0 A 70 % MOLAR APROXIMADAMENTE REFERIDO A LA COMBINACION DE LOS COMPONENTES MONOMEROS; (B) UN COMPUESTO BASICO QUE CONTIENE UN ATOMO DE NITROGENO; (C) UN MONOMERO ETILENICAMENTE INSATURADO; Y (D) UN INICIADOR DE FOTOPOLIMERIZACION.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: NIPPON PAINT CO., LTD..
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 1-2, OYODOKITA 2-CHOME KITA-KU, OSAKA-SHI OSAKA-FU.
Inventor/es: KUSUDA, HIDEFUMI, KONISHI, KATSUJI, ISHIKAWA, KATSUKIYO.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 30 de Marzo de 1994.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/033 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › siendo los aglutinantes polímeros obtenidos por reacciones que hagan intervenir únicamente enlaces insaturados carbono-carbono, p. ej. polímeros vinílicos.
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