(23/04/2019). Solicitante/s: LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH. Inventor/es: DRUMM, ROBERT, DE OLIVEIRA,PETER WILLIAM, SCHMITT,KARL-PETER, JILAVI,MOHAMMAD HOSSEIN, SCHÄFER,BRUNO, BEERMANN,HERBERT, SERWAS,DIETMAR.

Dispositivo para la aplicación de un compuesto de recubrimiento a un sustrato planar que comprende: a) un sustrato planar ; b) un cabezal de recubrimiento que comprende una cavidad abierta hacia arriba y hacia el sustrato para la recepción del compuesto de recubrimiento , pudiéndose desplazar el sustrato y el cabezal de recubrimiento el uno respecto al otro y disponiéndose el cabezal de recubrimiento de manera que el compuesto de recubrimiento de la cavidad humedezca el sustrato y que el compuesto de recubrimiento se aplique al sustrato por medio del movimiento relativo, caracterizado por que la parte del cabezal de recubrimiento con la cavidad se realiza de forma reemplazable y por que un elemento plano forma el fondo de la cavidad.

PDF original: ES-2710210_T3.pdf

(21/03/2019). Solicitante/s: AGFA-GEVAERT.. Inventor/es: LOUWET, FRANK, BOLLENS,LOUIS.

Composición que comprende un polianión y un polímero o copolímero de un tiofeno sustituido o no sustituido como solución o dispersión en un medio líquido y al menos un compuesto con al menos dos grupos vinilo, en la que dicho medio líquido comprende al menos un disolvente no acuoso y contiene menos del 30% en peso de agua, y dicha composición comprende más del 0,1% en peso del polímero o copolímero de un tiofeno sustituido o no sustituido con respecto al peso total de la composición y es capaz de ser fotopolimerizada por radiación UV debido al hecho de que dicha composición comprende al menos un compuesto vinílico capaz de iniciar la fotopolimerización por radiación UV y/o al menos un fotoiniciador UV, y en la que dicha composición comprende además al menos un compuesto con un grupo vinilo que es capaz de copolimerizarse con dicho al menos un compuesto con al menos dos grupos vinilo.

PDF original: ES-2704980_T3.pdf

(24/05/2016). Solicitante/s: UNIVERSIDAD AUTONOMA DE MADRID. Inventor/es: MANSO SILVAN,Miguel Jose, VALSESIA,ANDREA, MARCHESINI,GERARDO, GARCÍA RUIZ,Josefa Predestinación, PELLACANI,Paola, PARRACINO,María Antonietta.

Resina negativa fotosensible para escritura directa de estructuras. La presente invención se refiere a una resina negativa fotosensible de óxidos de metales de transición que comprende un contenido orgánico menor o igual a 20% en peso respecto al peso total de la resina, un contenido inorgánico auxiliar al nominal menor o igual a 0,01% en peso respecto al peso total de la resina y que presenta un índice de refracción desde aproximadamente 1,8 hasta aproximadamente 2,4. La invención además se refiere a estructuras de óxidos de metales de transición obtenidas mediante escritura directa sobe la resina de la invención, así como al método de preparación de la resina de la invención, al método de escritura directa de las estructuras de la invención y a los usos tanto de la resina como de las estructuras.

PDF original: ES-2571177_A1.pdf

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(16/08/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: MACDERMID IMAGING TECHNOLOGY INC. Inventor/es: GILLETTE, PAUL C., WALSH, ROBERT, M.

LAS PLANCHAS ESTAN FORMADAS A PARTIR DE UNA CAPA DE RESINA FOTOPOLIMERIZABLE MEDIANTE UN PROCESO Y UN ENSAMBLAJE QUE CONSISTE EN PASAR UNA CAPA DE RESINA POR DELANTE DE UNA FUENTE DE LUZ DE INTENSIDAD VARIABLE PARA RETICULAR LA CAPA DE RESINA SECUENCIAL Y SELECTIVAMENTE. LA FUENTE DE LUZ DE INTENSIDAD VARIABLE SE PUEDE OBTENER MEDIANTE UNA BATERIA DE LUCES QUE SE PUEDE CONTROLAR MEDIANTE CONMUTADORES CONTROLADOS POR ORDENADOR PARA QUE LAS LUCES INDIVIDUALES DE LA BATERIA SE PUEDAN ENCENDER Y APAGAR, SEGUN SEA PRECISO, Y FORMAR UN MOTIVO RETICULADO PRESELECCIONADO EN LA CAPA DE RESINA QUE PRODUCIRA LAS PLANCHAS DESEADAS. LA VELOCIDAD DE MOVIMIENTO DE LA CAPA DE RESINA ANTE LA BATERIA DE LUCES SE PUEDE CONTROLAR MEDIANTE EL ORDENADOR PARA QUE LAS LAMINAS INDIVIDUALES DE LA CAPA DE RESINA ESTEN EXPUESTAS A LA BATERIA DURANTE PERIODOS DE TIEMPO ADECUADOS NECESARIOS PARA PRODUCIR EL MOTIVO DESEADO.

(16/06/2003). Solicitante/s: STEAG HAMATECH AG. Inventor/es: KRAUSS, PETER, APPICH, KARL, DRESS, PETER, SZEKERESCH, JAKOB, WEIHING, ROBERT.

Dispositivo para el recubrimiento de substratos , con un porta-substrato , en el que está retenido el substrato de tal forma que una superficie de substrato a recubrir está libre y apunta hacia abajo, y con un dispositivo para la rotación del porta-substrato , caracterizado por una cubierta que se puede fijar en el porta-substrato , que forma junto con el porta-substrato una cámara cerrada herméticamente, que recibe al substrato.

(16/05/2003). Solicitante/s: POLYFIBRON TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es: KUMPFMILLER, RONALD, JAMES, CARTER, MARTIN, LEWIS.

LA INVENCION SE REFIERE A PRECURSORES POLIMERICOS DE BUTADIENO - POLIETER QUE SE PUEDEN UTILIZAR EN RESINAS FOTOPOLIMERICAS. DICHOS PRECURSORES SE PREPARAN HACIENDO REACCIONAR HOMOPOLIMERO DE BUTADIENO CON UN EXCESO ESTEQUIOMETRICO DE ISOCIANATO Y, A CONTINUACION, HACIENDO REACCIONAR EL PRODUCTO CON DIOL DE POLIETER. A CONTINUACION, DICHA COMPOSICION SE HACE REACCIONAR CON HIDROXIALQUIL(MET)ACRILATO Y ALQUILDIALCANOLAMINA. SE PUEDEN PREPARAR PLACAS DE IMPRESION FLEXOGRAFICA, UTILIZANDO UNA RESINA QUE COMPRENDE PRECURSORES POLIMERICOS DE BUTADIENO POLIETER.

(16/09/2000). Ver ilustración. Solicitante/s: STEAG HAMATECH AG. Inventor/es: WEBER, KLAUS, KALLIS, MARTIN.

EN UN PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA RECUBRIR MEDIOS DE ALMACENAMIENTO DE INFORMACION EN FORMA DE DISCO MEDIANTE UN PRODUCTO DE RECUBRIMIENTO QUE SE APLICA CON POR LO MENOS UNA TOBERA DE RECUBRIMIENTO SITUADA EN LA ZONA INTERIOR DEL MEDIO DE ALMACENAMIENTO SOBRE ESTE Y QUE AL GIRAR EL MEDIO DE ALMACENAMIENTO SE DISTRIBUYE SOBRE ESTE DEBIDO A LA FUERZA CENTRIFUGA, SE CONSIGUE UNA VELOCIDAD DE RECUBRIMIENTO ELEVADA CON UN FUNCIONAMIENTO SEGURO Y MENOS TIEMPOS DE PARADA, ASI COMO CON MENOR GASTO DE FABRICACION Y MANTENIMIENTO, SI LA TOBERA DE RECUBRIMIENTO SE DESPLAZA EN UNA PRIMERA FASE DE MOVIMIENTO RAPIDAMENTE HASTA LAS PROXIMIDADES DEL LUGAR DE APLICACION DEL MEDIO DE RECUBRIMIENTO , Y EN UNA SEGUNDA FASE DE MOVIMIENTO SE DESPLAZA LENTAMENTE AL LUGAR DE APLICACION . SE DESCRIBE UN DISPOSITIVO PARA REALIZAR EL PROCEDIMIENTO.

(01/04/1999). Solicitante/s: PPG INDUSTRIES OHIO, INC.. Inventor/es: OLSON, KURT, G., NAKAJIMA, MASAYUKI, ZAWACKY, STEVEN, R., SANDALE, MICHAEL G., KAHLE II, CHARLES F.

UNA COMPOSICION FOTOENDURECIBLE Y ELECTROPRECIPITABLE COMPUESTA POR UNA DISPERSION ACUOSA DE: (A) MATERIAL POLIMERO, CATIONICO, NEUTRALIZADO Y DISPERSIBLE EN AGUA QUE TIENE UNA INSATURACION SUSPENDIDA, (B) UN MATERIAL NO SATURADO Y NONIONICO Y (C) UN FOTOINICIADOR; CARACTERIZADO PORQUE PUEDE FORMAR REVESTIMIENTOS SUAVES, DELGADOS Y LIBRES DE PEQUEÑOS ORIFICIOS Y ADEMAS CARACTERIZADO PORQUE LA PELICULA PUEDE NO SOLUBILIZARSE SELECTIVAMENTE MEDIANTE EXPOSICION A RADIACION DISEÑADA DE TAL FORMA QUE LA ZONA NO EXPUESTA DE LA PELICULA ES SOLUBLE EN ACIDO ACUOSO DILUIDO Y LA ZONA EXPUESTA ES INSOLUBLE EN DICHO ACIDO ACUOSO.

(16/01/1999). Solicitante/s: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.. Inventor/es: SCHAFER, HANS-JURGEN.

LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO PARA RECUBRIMIENTO DE PLACAS DE CIRCUITO IMPRESO POR MEDIO DE RODILLOS DE RECUBRIMIENTO CON REVESTIMIENTO QUE PUEDE SER RETICULADO MEDIANTE RADIACION ELECTROMAGNETICA, CON PREFERENCIA RADIACION UV, CARACTERIZANDOSE POR MEDIO DE LAS SIGUIENTES ETAPAS: SE FUNDE UN RECUBRIMIENTO DE BAJO PESO MOLECULAR, FUNDIBLE, FOTOPOLIMERIZABLE, QUE ES DESDE ALTAMENTE VISCOSO A SOLIDO A TEMPERATURA AMBIENTE Y TIENE UN PESO MOLECULAR MEDIO CON PREFERENCIA DESDE 500 HASTA 1.500 Y SE SUMINISTRA AL RODILLO APLICADOR DE UNA INSTALACION DE RECUBRIMIENTO A RODILLO; EL RECUBRIMIENTO SE APLICA SOBRE LA SUPERFICIE O SUPERFICIES DE CIRCUITO IMPRESO A UNA TEMPERATURA DESDE 60 0.000 MPAS DE VISCOSIDAD Y 10-200 MICRAS DE ESPESOR; LA SUPERFICIE A SER RECUBIERTA DE LA PLACA (L) DE CIRCUITO IMPRESO SE CALIENTA PREVIAMENTE ANTES DE RECUBRIMIENTO HASTA UNA TEMPERATURA DESDE 10 CUAL SE APLICA EL RECUBRIMIENTO. SE DESCRIBE TAMBIEN UN DISPOSITIVO PARA LA REALIZACION DEL PROCEDIMIENTO.

(01/03/1998). Solicitante/s: MORTON INTERNATIONAL, INC.. Inventor/es: CANDORE, AMADEO.

UN METODO Y UN APARATO PARA LAMINAR AUTOMATICAMENTE, CON CALOR, A PRESION POR VACIO Y MECANICA, UNA TARJETA DE CIRCUITO IMPRESO O SEMEJANTE. EL APARATO INCLUYE UN APLICADOR DE VACIO DE DOS PIEZAS TRANSPORTADO POR CINTA SIN FIN QUE COMPRENDE DOS TRANSPORTADORES EN RELACION EXTREMO-A-EXTREMO, UNA CINTA TRANSPORTADORA Y UN LAMINADOR DE VACIO . LA CINTA TRANSPORTADORA SE CARACTERIZA EN TANTO QUE SE EMPLEA EN LA MISMA UNA CINTA SIN FIN QUE TIENE UNA ABERTURA A TRAVES DE LA CUAL, EN EL ESTADO DE LAMINACION POR VACIO DEL APLICADOR, SE DESPLAZA UNA PLACA INFERIOR MOVIL HACIA ARRIBA EN CONTACTO OBTURANTE CON UNA PLACA SUPERIOR , CON LA TARJETA DE CIRCUITO IMPRESO A LAMINAR Y CON UNA PARTE DE SECCION SUPERIOR (50A) DE LA CINTA SIN FIN CONTENIDA EN LA CAMARA DE VACIO DEL LAMINADOR.

(01/07/1996). Solicitante/s: CIRCEE. Inventor/es: LE DORTZ, FRANCIS P.

LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO Y A UN DISPOSITIVO PARA QUITAR LAS PELICULAS PROTECTORAS (2A, 2B) DE LAMINAS INSOLADAS DE CIRCUITOS IMPRESOS ANTES DE LA FASE DE DESARROLLO. SEGUN EL PROCESO SE PROYECTA UN CHORRO A PRESION (E) CONTRA UN BORDE DE LA LAMINA , PERPENDICULARMENTE AL BORDE Y EN EL PLANO GENERAL DE LA LAMINA DE MANERA A DESPEGAR LAS ZONAS (13A, 13B) DE PELICULA CERCANAS A DICHO BORDE , Y SE EJERCE A CONTINUACION UNA FUERZA DE TRACCION SOBRE LAS ZONAS DESPEGADAS (13A, 13B) PARA QUITAR LAS DOS PELICULAS (2A, 2B) DE MANERA SIMETRICA POR PELADO. EL DISPOSITIVO COMPRENDE DOS RODILLOS TRANSPORTADORES CONTRARROTATORIOS (7A, 7B) ENTRE LOS QUE LA LAMINA A DESPELICULAR ESTA INTRODUCIDA, Y QUE COOPERA CON DOS RODILLOS PRENSORES (8A, 8B) DESTINADOS A COGER LAS ZONAS (13A, 13B) DESPEGADAS POR EL CHORRO DE AGUA (E) PARA EJERCER LA FUERZA DE TRACCION DE PELADO.

(16/03/1996). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG. Inventor/es: KUSTER, KASPAR, RUEGGE,ANTON.

SE DESCRIBE UN DISPOSITIVO PARA RECUBRIMIENTO CON CAPAS DE MATERIALES EN FORMA DE PLACA, EN PARTICULAR DE PLACAS DE CIRCUITO IMPRESO, QUE ABARCA AL MENOS UNA ESTACION DE RECUBRIMIENTO CON UNA MESA DE COLADA, PARA EL RECUBRIMIENTO DE UNA SUPERFICIE DE LA PLACA DE CIRCUITO IMPRESO CON MATERIAL SINTETICO DE PLASTICO, PREFERENTEMENTE ENDURECIBLE MEDIANTE UV, PLACA O SIMILAR Y CONECTADA CON ELLA UNA ESTACION DE VENTILACION Y SECADO CON UN SECADOR PARA EL SECADO Y VENTILACION DE LA SUPERFICIE RECUBIERTA DE LAS PLACAS DE CIRCUITO IMPRESO EN LA CORRIENTE DE AIRE CALIENTE. LA ESTACION DE SECADO Y VENTILACION DISPONE DE UN MODULO DE PREPARACION DE AIRE, QUE ESTA DISPUESTO EN UNA CARCASA , DE FORMA QUE SE ACOPLA EN EL LADO DE ENTRADA EN LA CARCASA DEL SECADOR DE VENTILACION Y SE EXTIENDE A TRAVES DEL ESPACIO LIBRE POR LA PARTE SUPERIOR DE LA MESA DE COLADA.

(16/10/1987). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

PROCEDIMIENTO PARA LA FORMACION DE IMAGENES POR EXPOSICION A RADIACION ACTINICA. COMPRENDE LAS OPERACIONES DE APLICAR, A UN SUSTRATO, UNA CAPA DE UNA COMPOSICION LIQUIDA QUE COMPRENDE UN RESIDUO POLIMERIZABLE POR MEDIO DE RADICALES LIQUIDOS, UN INICIADOR DE LA POLIMERIZACION ACTIVADO POR RADIACION, UN RESIDUO CURABLE POR RADIACION Y, OPCIONALMENTE, UN CATALIZADOR ACTIVADO POR RADIACION; DE SOMETER LA COMPOSICION A UNA RADIACION ACTINICA QUE TIENE UNA LONGITUD DE ONDA A LA CUAL SE ACIVA EL INICIADOR; DE SOMETER LA CAPA DE SOLIDIFICACION, EN UN MODELO PREDETERMINADO, A UNA RADIACION ACTINICA QUE TIENE UNA LONGITUD DE ONDA QUE ACTIVA EL RESIDUO CURABLE POR RADIACION Y EL CATALIZADOR; Y DE SEPARAR LAS AREAS DE LA CAPA SOLIDIFICADA QUE NO HAN SIDO CURADAS SUSTANCIALMENTE.

(16/12/1986). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

METODO DE PRODUCCION DE IMAGENES. COMPRENDE LA APLICACION A UN SUSTRATO DE UN AGENTE POLIMERIZANTE QUE O BIEN INICIA O CATALIZA LA POLIMERIZACION, Y SOBRE EL MISMO UNA CAPA DE UNA COMPOSICION LIQUIDA QUE CONTIENE UN RADICAL POLIMERIZABLE AL CONTACTO CON EL AGENTE POLIMERIZANTE, Y UN RADICAL FOTOCURABLE, TAL QUE LA CAPA SE SOLIDIFICA PERO SE MANTIENE FOTOCURABLE; EXPOSICION DE LA CAPA SOLIDIFICADA A RADIACION ACTINICA, EN UN PATRON PREDETERMINADO, PARA CURAR LAS PARTES EXPUESTAS DE LA CAPA; Y ELIMINACION DE LAS PARTES DE LA CAPA NO FOTOCURADAS MEDIANTE TRATAMIENTO CON UN DISOLVENTE ORGANICO O ACUOSO ADECUADO. ESTAS COMPOSICIONES TIENEN APLICACIONES PARA LA FABRICACION DE PLACAS IMPRESAS Y CIRCUITOS IMPRES.

(16/10/1986). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE IMAGENES MEDIANTE PERMEABILIZACION DE VAPOR SEGUIDA DE EXPOSICION A RADIACION ACTINICA. COMPRENDE LA APLICACION DE UNA CAPA DE UNA COMPOSICION LIQUIDA, POLIMERIZABLE AL CONTACTO CON EL AGENTE GASEOSO ADECUADO, A UN SUSTRATO, DE FORMA QUE LA CAPA SOLIDIFIQUE PERMANECIENDO FOTOCURABLE. EN UNA ETAPA POSTERIOR SE EXPONE LA CAPA A RADIACION ACTINICA EN UN PATRON PREDETERMINADO. LAS CAPAS EXPUESTAS DE LA CAPA SE FOTOCURAN. LA APLICACION DE UN DISOLVENTE POSTERIOR SEPARA LAS PARTES SOBRANTES. LA SUSTANCIA LIQUIDA PRESENTA LOS GRUPOS POLIMERIZABLES Y FOTOCURABLES EN LA MISMA MOLECULA O COMPRENDE UNA MEZCLA DE UNO O MAS MATERIALES QUE SON POLIMERIZABLES AL ENTRAR EN CONTACTO CON EL AGENTE DE POLIMERIZACION GASEOSO, COMBINACION DE UN CIANOACRILATO CON VAPOR DE AGUA, AMONIACO O UNA AMINA, O BIEN DE UN PREPOLIMERO CON TERMINACION DE ISOCIANATO CON AMONIACO O UNA AMINA U OTRAS COMBINACIONES SEMEJANTES.

(01/08/1986). Solicitante/s: GARRIGOS GONZALEZ,ANTONIO.

Soporte para figuras en relieve, caracterizado esencialmente por comprender un cuerpo portante formado por una base de material sintético, cuya cara delantera por lo menos presenta unos motivos gráficos destacados respecto al plano de aquél y formados por partes de un producto equivalente al de la base y de cromatizaciones presentando la placa espacial en la que los diferentes, motivos gráficos corresponden a la a la parte frontal, presentando además los bordes rectilíneos laterales de la placa sendas guarniciones de protección, constituidas por tramos de perfiles de sección en forma de C, incorporando la placa, en su parte superior una placa retenedora de un elemento en forma de U de plano perpendicular al de aquella.

(01/06/1984). Solicitante/s: CIBA-GEIGY AG.

PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE UNA IMAGEN A PARTIR DE MASAS LIQUIDAS.CONSISTE EN: 1) MANTENER EN UN AMBIENTE VIRTUALMENTE EXENTO DE OXIGENO UNA CAPA, SOSTENIDA SOBRE UN SUSTRATO, DE UNA COMPOSICION LIQUIDA QUE CONTIENE: A) UN MATERIAL POLIMERIZABLE ANAEROBICAMENTE Y B) UN MATERIAL FOTOPOLIMERIZABLE, POR UN PERIODO DE TIEMPO SUFICIENTE PARA QUE DICHA COMPOSICION LIQUIDA SE SOLIDIFIQUE; 2) EXPONER SEGUN IMAGEN A RADIACION ACTINICA DICHA CAPA SOLIDIFICADA; Y 3) TRATAR LA CAPA CON UN REVELADOR PARA ELIMINAR LAS PARTES DE LA CAPA QUE NO HAN SIDO EXPUESTASA LA RADIACION ACTINICA EN 2).PUEDE SER APLICADO COMO UN LIQUIDO A UN SUSTRATO TAL COMO EL ACERO, ALUMINIO, COBRE, ZINC, EL PAPEL, LOS PLASTICOS Y LA MADE.

(01/12/1982). Solicitante/s: DISCOVISION ASSOCIATES.

METODO PARA FORMAR UNA MATRIZ DE ESTAMPACION UTILIZADA EN EL MOLDEO DE COPIAS DE DISCOS DE VIDEO. COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE FORMA UN DISCO MADRE DE REGISTRO QUE INCLUYE UN SUBSTRATO DE VIDRIO Y UNA DELGADA CAPA DE REGISTRO DE FOTO-RESERVA ; SEGUNDA, SE DEPOSITA UNA PRIMERA PELICULA METALICA DELGADA Y UNIFORME SOBRE LA CAPA DE REGISTRO DEL DISCO MADRE ; TERCERA, SE DEPOSITA POR VIA GALVANICA UNA SEGUNDA PELICULA METALICA DELGADA Y UNIFORME SOBRE LA PRIMERA PELICULA, FORMANDO LA PRIMERA Y SEGUNDA PELICULAS UNA CAPA METALICA ENTERIZA; Y POR ULTIMO, SE SEPARA LA CAPA METALICA ENTERIZA DEL DISCO MADRE SUBYACENTE Y SE RETIRAN LOS RESTOS DE MATERIAL DE LA FOTO-RESERVA DE DICHA CAPA METALICA, OBTENIENDOSE LA MATRIZ DE ESTAMPACION.

(01/12/1982). Solicitante/s: DISCOVISION ASSOCIATES.

METODO PARA REVELAR UNA CAPA EXPUESTA DE FOTO-RESERVA, DE UN GRUESO UNIFORME PREDETERMINADO, QUE ESTA SITUADA SOBRE UN DISCO MADRE DE VIDEO. COMPRENDE LAS OPERACIONES DE: HACER GIRAR EL DISCO MADRE DE VIDEO A UNA VELOCIDAD PREDETERMINADA; ELEGIR UNA SOLUCION REVELADORA DE LA FOTO-RESERVA CON UNA NORMALIDAD PREDETERMINADA; DISTRIBUIR AGUA SOBRE LA CAPA DE FOTO-RESERVA DEL DISCO MADRE DE VIDEO EN ROTACION PARA PREHUMEDECER DICHA CAPA; DISTRIBUIR LA SOLUCION REVELADORA SOBRE LA CAPA DE FOTO-RESERVA PARA REVELARLA; LAVAR LA CAPA DE FOTO-RESERVA REVELADA CON AGUA PARA ELIMINAR LA SOLUCION REVELADORA RESIDUAL DE DICHA CAPA; Y HACER GIRAR EL DISCO MADRE DE VIDEO A UNA SEGUNDA VELOCIDAD PREDETERMINADA PARA SECAR LA CAPA DE FOTO-RESERVA REVELADA.

(01/12/1982). Solicitante/s: DISCOVISION ASSOCIATES.

METODO PARA SELECCIONAR LA INTENSIDAD MAXIMA OPTIMA DE UN HAZ DE LUZ USADO EN EL REGISTRO DE UNA SEÑAL DE INFORMACION, MODULADA EN FRECUENCIA, SOBRE UN MEDIO DISCOIDAL DE REGISTRO. COMPRENDE LAS SIGUIENTES OPERACIONES: PRIMERA, SE MODULA LA INTENSIDAD DEL HAZ DE LUZ DE ACUERDO CON UNA SEÑAL DE ENSAYO PREDETERMINADA, SIENDO LA INTENSIDAD ALTERNATIVAMENTE MAYOR Y MENOR QUE EL UMBRAL DE REGISTRO PREDETERMINADO DE LA CAPA DE FOTO-RESERVA; SEGUNDA, SE DIRIGE EL HAZ DE LUZ MODULADO EN INTENSIDAD SOBRE LA CAPA DE FOTO-RESERVA A MEDIDA QUE ESTA SE HACE GIRAR DE UN MODO PREDETERMINADO, PARA FORMAR UNA SECUENCIA DE PISTAS DE REGISTRO CIRCULARES Y CONCENTRICAS; Y POR ULTIMO, SE AJUSTA LA INTENSIDAD MAXIMA DEL HAZ LUMINOSO, MODULADO EN INTENSIDAD, PARA CADA UNO DE LOS GRUPOS DE PISTAS DE REGISTRO.