PROCESADO DE SUSTANCIAS FOTORRESISTENTES PARA UNA RESOLUCION MEJORADA.

SE SUMINISTRA UN METODO PARA FORMAR UNA CAPA DE FOTORRESISTENCIA DE ALTA RESOLUCION SOBRE UN SUBSTRATO,

TAL COMO UNA TARJETA DE UN CIRCUITO DE METAL-ARCILLA. SE UTILIZA UNA PELICULA SECA QUE COMPRENDE UNA LAMINA DE SOPORTE, UNA CAPA DE FOTORRESISTENCIA REVELABLE EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA EN CONTACTO DIRECTO CON LA LAMINA DE SOPORTE, Y UNA LAMINA PROTECTORA. LA LAMINA PROTECTORA SE SEPARA Y LA CAPA DE FOTORRESISTENCIA ES UNA LAMINA CORTADA LAMINADA EN EL SUBSTRATO. ENTONCES LA LAMINA DE SOPORTE SE SEPARA. LA CAPA DE FOTORRESISTENCIA SE HORNEA HASTA QUE SU SUPERFICIE EXPUESTA NO SEA PEGAJOSA. EL TRABAJO SE DEJA DIRECTAMENTE EN CONTACTO CON LA SUPERFICIE EXPUESTA NO PEGAJOSA, Y LA CAPA DE FOTORRESISTENCIA ES EXPUESTA A LA RADIACION ACTINICA A TRAVES DEL TRABAJO. LA CAPA DE FOTORRESISTENCIA SE REVELA ENTONCES EN UNA SOLUCION ACUOSA ALCALINA. LA CAPA DE FOTORRESISTENCIA POSEE UNA ALTA RESOLUCION. LOS PASOS DE PROCESAMIENTO SUBSECUENTES TALES COMO LA DEPOSICION GALVANICA O EL ATAQUE QUIMICO Y EL DECAPADO DAN COMO RESULTADO UNA TARJETA DE CIRCUITO IMPRESO QUE TIENE UNAS LINEAS Y UNOS ESPACIOS CON UNA ALTA RESOLUCION. SE HAN ENCONTRADO FOTORRESISTENCIAS DE UNA FORMULACION ESPECIFICA QUE PUEDEN HORNEARSE PARA CONSEGUIR UNA SUPERFICIE NO PASTOSA CON UNA PERDIDA MINIMA DE FOTOVELOCIDAD.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: MORTON INTERNATIONAL, INC..

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 100 NORTH RIVERSIDE PLAZA,CHICAGO, ILLINOIS 60606-1596.

Inventor/es: CONRAD, CHARLES T.

Fecha de Publicación: 16 de Agosto de 1999.

Fecha Concesión Europea: 14 de Abril de 1999.

Clasificación Internacional de Patentes:

G03F7/16 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Procesos de recubrimiento; Aparellaje con este fin (aplicación de capas sobre los materiales soporte en general B05; aplicación de capas fotosensibles sobre el soporte para la fotografía G03C 1/74).
G03F7/38 G03F 7/00 […] › Tratamiento antes de la eliminación según la imagen, p. ej. precalentado.

Patentes similares o relacionadas:

Método mejorado para planchas de impresión de imágenes de relieve pre-expuestas, del 10 de Julio de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un proceso de producción de una plancha de impresión de imágenes en relieve, el proceso comprendiendo las etapas de: a) proporcionar un elemento de impresión […]

Dispositivo para el recubrimiento de sustratos planares, del 23 de Abril de 2019, de LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH: Dispositivo para la aplicación de un compuesto de recubrimiento a un sustrato planar que comprende: a) un sustrato planar ; b) un cabezal de recubrimiento […]

Método para crear textura superficial en elementos de impresión flexográfica, del 3 de Abril de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método para fabricar un elemento de impresión de imágenes en relieve a partir de un blanco para impresión fotosensible, comprendiendo dicho blanco para […]

Composición fotopolimerizable por radiación UV para la fabricación de capas, patrones o impresiones conductores, del 21 de Marzo de 2019, de AGFA-GEVAERT.: Composición que comprende un polianión y un polímero o copolímero de un tiofeno sustituido o no sustituido como solución o dispersión en un medio […]

Resina negativa fotosensible para escritura directa de estructuras, del 24 de Mayo de 2016, de UNIVERSIDAD AUTONOMA DE MADRID: Resina negativa fotosensible para escritura directa de estructuras. La presente invención se refiere a una resina negativa fotosensible […]

Composición, proceso de preparación y método de aplicación y exposición para papel de formación de imágenes mediante luz, del 2 de Diciembre de 2015, de INTERNATIONAL PAPER COMPANY: Un artículo que comprende: una partícula que comprende una matriz de material polimérico y que contiene: uno o más agentes de formación de imágenes; y un […]

Soluciones de tensioactivos diol acetilénicos y procedimientos de su uso de las mismas, del 28 de Enero de 2015, de AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC.: Un procedimiento para mejorar la humectabilidad de un substrato, comprendiendo el procedimiento: la puesta en contacto del substrato con una solución acuosa que comprende […]

Litografía conducida electrostáticamente, del 8 de Abril de 2013, de NORTHWESTERN UNIVERSITY: Un método de litografía que comprende: transportar un compuesto de modelamiento desde una punta hasta una superficie de sustrato para formar […]