PROCEDIMIENTO CONTINUO PARA LA ELABORACION DE UN ELEMENTO REGISTRADOR SENSIBLE A LA LUZ.

SE DESCRIBE UN PROCEDIMIENTO CONTINUO NUEVO Y MEJORADO PARA LA ELABORACION DE UN ELEMENTO REGISTRADOR SENSIBLE A LA LUZ,

CUYA CAPA DE REGISTRO (A) FOTOPOLIMERIZABLE CONSTA DE, POR LO MENOS, DOS CAPAS SIMPLES (AN) COLOCADAS UNA OBRE LA OTRA Y CONECTADAS RESISTENTEMENTE ENTRE SI. LAS CAPAS SIMPLES (AN) PUEDEN SER DEL MISMO MATERIAL, CON UNA COMPOSICION IGUAL O DIFERENTE. EN EL PROCEDIMIENTO CONTINUO, NUEVO Y MEJORADO, LAS MEZCLAS (AN) QUE SIRVEN PARA LA ELABORACION DE LAS CAPAS SIMPLES (AN) SE FABRICAN Y FUNDEN SEPARADAMENTE UNA DE LA OTRA Y SE UNEN, COMO FLUJOS SEPARADOS DE MATERIA FLUIDA, ANTES DE ENTRAR POR LA RANURA DE LA CALANDRA SIN QUE SE MEZCLEN ARREMOLINADAMENTE. DURANTE ANTES O INMEDIATAMENTE DESPUES DE LA UNION, LOS FLUJOS DE MATERIA FUNDIDA (AN) TOMAN LA FORMA DE ESTRUCTURAS (AN) PLANAS, FUNDIDAS Y SUPERPUESTAS, SIN QUE SE MEZCLEN ARREMOLINADA,ENTE. POSTERIORMENTE LAS ESTRUCTURAS PLANAS, FUNDIDAS Y SUPERPUESTAS SON INTRODUCIDAS POR LA RANURA DE LA CALANDRA, DE MODO QUE, POR LO MENOS UNA DE LAS DOS ESTRUCTURAS (AN) EXTERNAS, FUNDIDAS Y PLANAS EN CONTACTO CON EL CILINDRO DE CALANDRIA, FORMA UN RODETE DE MESA GIRATORIO. EN LA MISMA RANURA DE LA CALANDRA, LAS ESTRUCTURAS (AN) EXTERNAS, FUNDIDAS Y PLANAS SON, LUEGO, CALANDRADAS EN LA PRODUCCION DE LA CAPA DE REGISTRO (A) FOTOPOLIMERIZABLE COMPUESTA DE CAPAS SIMPLES (AN) SUPERPUESTAS Y CONECTADAS RESISTENTEMENTE ENTRE SI.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: BASF AKTIENGESELLSCHAFT.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: CARL-BOSCH-STRASSE 38,D-67063 LUDWIGSHAFEN.

Inventor/es: TELSER, THOMAS, KOCH, HORST, DR., KURTZ, KARL-RUDOLF, DR., ZUERGER, MANFED.

Fecha de Publicación: 16 de Febrero de 1996.

Fecha Concesión Europea: 20 de Diciembre de 1995.

Clasificación Internacional de Patentes:

G03F7/16 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Procesos de recubrimiento; Aparellaje con este fin (aplicación de capas sobre los materiales soporte en general B05; aplicación de capas fotosensibles sobre el soporte para la fotografía G03C 1/74).

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