CIP-2021 : C25D 3/02 : a partir de soluciones (C25D 5/24 - C25D 5/32 tienen prioridad).

CIP-2021 › C › C25 › C25D › C25D 3/00 › C25D 3/02[1] › a partir de soluciones (C25D 5/24 - C25D 5/32 tienen prioridad).

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C QUIMICA; METALURGIA.

C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.

C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B).

C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados.

C25D 3/02 · a partir de soluciones (C25D 5/24 - C25D 5/32 tienen prioridad).

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Composición acuosa de electrolito que tiene una emisión aérea reducida.

(06/11/2019). Solicitante/s: MacDermid Enthone Inc. Inventor/es: HORSTHEMKE,HELMUT.

Composición acuosa de electrolito para depositar una capa metálica sobre una superficie de sustrato, en donde la composición comprende al menos iones del metal que se van a depositar y al menos un tensioactivo, en donde el tensioactivo está comprendido en una concentración eficaz para conseguir una tensión superficial dinámica de la composición de ≤35 mN/M, preferiblemente de ≤33 mN/M, con máxima preferencia de ≤30 mN/M, caracterizado porque el tensioactivo es al menos un tensioactivo de la fórmula general CNFMHZSO2X, en donde N es un número entero entre ≥6 y ≤ 22, preferiblemente entre ≥ 7 y ≤ 20, 0 < M ≤ 2N, Z = 2N+1-M, y X es uno de F, Cl, o Br y en donde el tensioactivo está comprendido en un intervalo de concentración entre ≥0,0000001 % en peso y ≤0,000002 % en peso, preferiblemente entre ≥0,0000004 % en peso y ≤ 0,0000015 % en peso.

PDF original: ES-2766775_T3.pdf

Soluciones electrolíticas de ácido sulfónico de pureza elevada.

(03/04/2019). Solicitante/s: ARKEMA INC.. Inventor/es: MARTYAK, NICHOLAS, MICHAEL, NOSOWITZ,MARTIN, SMITH,GARY S, JANNEY,PATRICK KENDALL, OLLIVIER,JEAN-MARIE.

Uso en un procedimiento electroquímico de una solución acuosa que comprende un ácido metanosulfónico y concentraciones bajas de compuestos de azufre (II) de valencia baja y compuestos de azufre (VI) de valencia superior que son susceptibles de reducción, en que la concentración total de compuestos de azufre reducidos es menor que 5 mg/litro, y en que dichos compuestos de azufre (II) de valencia baja y compuestos de azufre (VI) de valencia superior se escogen entre metanotiosulfonato de metilo (MMTS) y triclorometilsulfona (TCMS).

PDF original: ES-2726013_T3.pdf

Deposición electrolítica de revestimientos compuestos de base metálica que comprenden nano-partículas.

(17/12/2018) Un método para conferir resistencia a la corrosión sobre una superficie de un sustrato, comprendiendo el método: poner en contacto la superfic 5 ie del sustrato con una disolución electrolítica de metalizado que comprende: (a) una fuente de deposición de iones metálicos de un metal de deposición seleccionado entre el grupo que consiste en cinc, paladio, plata, níquel, cobre, oro, platino, rodio, rutenio, cromo y aleaciones de los mismos, y (b) una dispersión pre-mezclada de partículas de fluoropolímero que tiene un tamaño medio de partícula, que hace referencia a la media aritmética del diámetro de las partículas…

Procedimiento para la deposición electroquímica de materiales semiconductores y electrolito para el mismo.

(05/12/2018). Solicitante/s: Hirtenberger Engineered Surfaces GmbH. Inventor/es: MANN, RUDOLF, DR., HANSAL,WOLFGANG.

Electrolito para la deposición electroquímica de materiales semiconductores, concretamente antimoniuros, arseniuros, seleniuros y telururos, a partir de soluciones salinas acuosas que contienen telururos, seleniuros, arseniuros y/o antimoniuros, con ácido dietilentriaminopentacético (DTPA) como primer formador de complejos, así como al menos un formador de complejos adicional, caracterizado porque el al menos un formador de complejos adicional es un ácido tricarboxílico y/o un ácido aminocarboxílico, y el valor de pH está entre 10 y 13, preferiblemente entre 11 y 12.

PDF original: ES-2692810_T3.pdf

Electrolito y método para depositar una capa metálica mate.

(28/12/2016) Método para depositar electrolíticamente una capa de metal mate de un metal del grupo que consiste en Co, Ni, Cu, Sn o una aleación de estos metales sobre una superficie de sustrato desde un electrolito que forma una emulsión y/o una dispersión, mediante aplicación de una corriente entre un sustrato puesto en contacto con un cátodo y un ánodo, comprendiendo el método las etapas de a) seleccionar una primera composición de un electrolito capaz de depositar una capa de metal mate de un metal del grupo anteriormente mencionado sobre la superficie del sustrato, teniendo dicha composición una concentración del metal a depositar y en donde la composición…

COMPOSICIÓN QUÍMICA PARA RECUBRIR SUPERFICIES METÁLICAS.

(16/06/2016). Solicitante/s: OSSES LEYTON, Nelson Roberto. Inventor/es: OSSES LEYTON,Nelson Roberto, LIZAMA MORENO,Eugenio Ovidio.

Composición química libre de cianuros y método de aplicación de dicha composición, utilizada para recubrir de manera in situ contactos eléctricos de cobre u otro metal con el fin de mejorar la transmisión eléctrica de los mismos, que comprende un agente metálico, un agente espesante, un agente complejante, un agente alcalinizante, un solvente y agua.

Proceso para la formación de capas de protección frente a la corrosión sobre superficies metálicas.

(26/11/2014) Proceso para la formación de capas de protección frente a la corrosión sobre superficies de cinc, aluminio o magnesio y también aleaciones de los metales, que comprende las siguientes etapas: i) puesta en contacto de la superficie de los metales o de las aleaciones metálicas mencionadas con una solución que comprende iones de cromo (III), iones metálicos seleccionados entre el metal de superficie o la aleación del metal de superficie y al menos un agente de complejación seleccionado del grupo que consiste en ácidos carboxílicos, ácidos policarboxílicos, ácidos hidroxicarboxílicos, ácidos aminocarboxílicos, alcoholes, aminas y éteres, en donde la solución de tratamiento tiene un pH de 1,0-4,0, ii) a continuación la puesta en contacto directo de la superficie…

ELECTROLÍTO Y PROCEDIMIENTO PARA LA PRECIPITACIÓN DE UNA CAPA METÁLICA MATE.

(17/06/2011) Electrolito para la deposición de una capa metálica mate de un metal del grupo constituido por Al, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, As, Se, Mo, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Te, W, Re, Pt, Au, Tl, Pb, Bi o una aleación de estos metales sobre un sustrato a partir de un electrolito que presenta un agente humectante, caracterizado porque el agente humectante es un agente humectante fluorado o perfluorado de fórmula general R f CH 2CH 2O(CH 2CH 2O) xH con R f F(CF 2CF 2) n, en la que x = 6 a 15 y n = 2 a 10 o es un compuesto de amonio cuaternario sustituido con poli(óxido de alquileno) de fórmula general en la que al menos un resto R 1 , R 2 , R 3 o R 4 es un sustituyente…

MÉTODO PARA ELECTRODEPOSITAR METALES USANDO LÍQUIDOS IÓNICOS EN PRESENCIA DE UN ADITIVO.

(17/05/2011) Uso de un aditivo seleccionado del grupo que consiste en sílice amorfa, polvo de grafito y una mezcla de los mismos en un procedimiento para revestir electrolíticamente o pulir electrolíticamente un metal sobre un sustrato usando un líquido iónico como electrolito para aumentar el espesor de la capa metálica

LIQUIDOS IONICOS Y SU USO.

(16/09/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: SCIONIX LIMITED. Inventor/es: ABBOTT, ANDREW, PETER, DAVIES, DAVID, LLOYD, CAPPER, GLEN, RASHEED, RAYMOND, KELVIN, TAMBYRAJAH, VASUKI.

Un compuesto iónico que tiene un punto de congelación no superior a 50ºC, formado por la reacción de al menos una sal de amina de la fórmula R1R2R3R4N+X-(I) con al menos una sal hidratada, que es un cloruro, nitrato, sulfato o acetato de Li, Mg, Ca, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Cd, Pb, Bi, La o Ce; en donde R1, R2 y R3 son cada uno independientemente un grupo alquilo C1 a C5 o un grupo cicloalquilo C6 a C10, o en donde R2 y R3 considerados conjuntamente representan un grupo alquileno C4 a C10, formando así con el átomo N de la fórmula I un anillo heterocíclico de 5 a 11 miembros, y en donde R4 es hidrógeno, o fenilo, o un grupo alquilo o cicloalquilo C1 a C12, opcionalmente sustituido con al menos un grupo seleccionado de OH, Cl, Br, F, I, fenilo, NH2, CN, NO2, COOR5, CHO, COR5 y OR5, en donde R5 es un grupo alquilo o cicloalquilo C1 a C10, y X- es un anión capaz de complejarse por la mencionada sal hidratada.

PROCEDIMIENTO PARA REVESTIR.

(01/11/2003). Solicitante/s: HPC HIGH PERFORMANCE COATING OBERFLACHENBEHANDLUNGS - GMBH. Inventor/es: KNIAZEV, EVGUENI.

Procedimiento para revestir objetos con una capa, a partir de una suspensión de electrolito que contiene aglomerados de carbono, similares a diamante, ultradispersos, caracterizado porque antes de revestir tienen lugar el tratamiento principal de la suspensión acuosa de los aglomerados de carbono, similares a diamante, ultradispersos, en solución acuosa de ácido sulfúrico o de ácido clorhídrico, con la subsiguiente eliminación de los ácidos mediante lavado con agua destilada, y el tratamiento posterior, mediante una sustancia con actividad catiónica, para reducir la capacidad de volumen y cambiar la carga de la superficie de las partículas en el electrolito.

PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE METALES A PARTIR DE ELECTROLITOS QUE CONTIENEN ADITIVOS ORGANICOS.

(16/09/1999). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Inventor/es: SCHNEIDER, REINHARD.

LA INVENCION TRATA DE UN PROCEDIMIENTO PARA LA DEPOSICION ELECTROLITICA DE METALES A PARTIR DE ELECTROLITOS, QUE CONTIENEN ADITIVOS ORGANICOS QUE DAN PROPIEDADES FISICAS PARTICULARES. TALES ADITIVOS SE PIERDEN CONTINUAMENTE DURANTE LA GALVANIZACION, FORMANDOSE PRODUCTOS DE DESCOMPOSICION QUE SE EXTIENDEN POR TODA LA PLANTA GALVANIZACION, Y SE DEPOSITAN EN LOS OBJETOS QUE SE VAN A GALVANIZAR. POR TANTO EL OBJETO DE LA PRESENTE INVENCION ES EL EVITAR DEFECTOS EN LAS CAPAS DE DEPOSICION CAUSADOS POR LOS RESIDUOS ORGANICOS, ASEGURANDO UNA DEPOSICION CONTINUA DE METAL Y UNA CALIDAD UNIFORME DE LAS CAPAS METALICAS OBTENIDAS. EL OBJETO SE CONSIGUE LIMITANDO FISICAMENTE LOS ADITIVOS ORGANICOS A LA PARTE DEL ELECTROLITO EN LA CUAL SON IMPORTANTES. EL ELECTROLITO SE RECICLA A TRAVES DE UN FILTRO PARA QUE ESTE LIBRE DE ADITIVOS ORGANICOS. LA NUEVA DOSIFICACION DE ADITIVOS ORGANICOS SE REALIZA CON DEPENDENCIA DE SU GASTO JUSTO ANTES DE LA ZONA IMPORTANTE DEL PROCESO.

USO DE COMPUESTOS DE ETANSULFONA 2 - SUSTITUIDOS COMO ADYUVANTES GALVANOTECNICOS.

(01/08/1994). Solicitante/s: RASCHIG AG. Inventor/es: LEIFELD,FERDINAND, CLAUSS, WOLFGANG, KURZE, WERNER, WASSERBERG, WILLY.

USO DE COMPUESTOS DE ETANSULFONA 2 - SUSTITUIDOS DE FORMULA GENERAL I, Y SUS SALES ALCALINAS O DE AMONIO, DONDE A REPRESENTA 1.) UN RESTO PIRIDINIUM (II) CUYOS SUSTITUYENTES R1 Y R2 SON HIDROGENO O UN RESTO C1 - C3 - - BAJOALQUILO, O R1 Y R2 FORMAN JUNTO CON EL RESTO PIRIDINIUM UN ANILLO AROMATICO DE SEIS MIEMBROS CONDENSADO, O 2.) A ES UN RESTO MERCAPTO -S-R4, EN EL QUE R4 ES HIDROGENO O EL GRUPO (III), R3 REPRESENTA UN RESTO C1 C4 -BAJOALQUILO, COMO ADYUVANTES GALVANOTECNICOS, EN ESPECIAL COMO FORMADORES DE BRILLO Y NIVELADORES.

POLIALQUILENGLICOL-NAFTIL-3-SULFORPOPIL-DIETER Y SUS SALES, PROCEDIMIENTO PARA OBTENCION DE ESTOS COMPUESTOS Y SU APLICACION COMO AGENTE MOJANTE EN GALVANOTECNIA.

(16/12/1993). Solicitante/s: LEVER SUTTER GMBH RASCHIG AG. Inventor/es: KURZE, WERNER, KLOS, KLAUS-PETER.

NUEVOS POLIALQUILENGLICOL-NAFTIL-3-SULFORPOPIL-DIETERES DE FORMULA (I) EN LA QUE LOS SUSTITUYENTES TIENEN EL SIGNIFICADO QUE SE DETALLA EN LA INVENCION. LOS COMPUESTOS SON AGENTES MOJANTES, EN ESPECIAL PARA LA GALVANOTECNIA, PARA BAÑOS PARA SEPARACION GALVANICA DE ZN, SN, CU, AG, NI Y SUS ALEACIONES.

PROCESO DE PROPORCIONAR ADHERENCIA ENTRE MATERIALES METALICOS Y CAPAS GALVANICAS DE ALUMINIO Y LOS ELECTROLITOS NO ACUOSOS USADOS PARA ESTO.

(01/02/1993). Solicitante/s: STUDIENGESELLSCHAFT KOHLE MBH. Inventor/es: MEHLER, KLAUS-DIETER, LEHMKUHL, HERBERT, PROF. DR.

SE DAN A CONOCER PROCESOS PARA EL REVESTIMIENTO EN CAPAS DE MATERIAS METALICAS, EN ESPECIAL DE ACEROS MUY RIGIDOS DE ALEACION BAJA. ESTOS PROCEDIMIENTOS SE CARACTERIZAN POR LOGRAR GALVANICAMENTE A PARTIR DE ELECTROLITOS NO ACUOSOS CAPAS ADHESIVAS DE HIERRO, HIERRO Y NIQUEL, NIQUEL, COBALTO, COBRE O ALEACIONES DE LOS METALES MENCIONADOS O ALEACIONES DE ESTAÑO Y NIQUEL SOBRE ESTOS MATERIALES METALICOS, SEPARANDO A CONTINUACION ALUMINIO GALVANICAMENTE EN UN PROCESO EN SI CONOCIDO.

PROCEDIMIENTO PARA LA ELECTRODEPOSICION CATODICA DE METALES CON LA GENERACION DEL ACIDO CORRESPONDIENTE, A PARTIR DE DISOLUCIONES DE SUS SALES.

(16/05/1987). Solicitante/s: DIAZ NOGUEIRA,EDUARDO.

PROCEDIMIENTO PARA LA ELECTRODEPOSICION CATODICA DE METALES CON LA GENERACION DEL ACIDO CORRESPONDIENTE, A PARTIR DE DISOLUCIONES DE SUS SALES. CONSISTE EN EL EMPLEO DE UNA CELDA ELECTROQUIMICA EN LA QUE LOS COMPARTIMENTOS CATODICO Y ANODICO SE ENCUENTRAN SEPARADOS FISICAMENTE POR UNA MEMBRANA CAMBIADORA DE CATIONES; EN EMPLEAR UN ELECTROLITO DIFERENTE EN CADA RECINTO ELECTRODICO; Y EN ALIMENTAR EL RECINTO CATODICO CON LA DISOLUCION DE LA SAL METALICA CORRESPONDIENTE, DESCARGANDOSE EL METAL EN EL CATODO, Y MANTENIENDOSE EL EQUILIBRIO ELECTRICO POR LA APORTACION DE PROTONES PROCEDENTES DEL ANOLITO, QUE SON TRANSFERIDOS A TRAVES DE LA MEMBRANA POR SU CARACTERISTICA DE CAMBIO CATIONICO.

PRODUCTO DE ACERO.

(01/06/1986). Solicitante/s: PHENIX WORKS COCKERILL-SAMBRE.

PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR UN PRODUCTO DE ACERO DESTINADO A FOSFATACION. COMPRENDE: A) INTRODUCIR A EN UN BAÑO DE METAL FUNDIDO (ZINC, GALFAN O CLORURO), PARA DEPOSITAR A EN UNA DE LAS CARAS DE ; B) SUMERGIR AL (A) DE A) EN UN BAÑO DE DECAPADO (ACIDO O ALCALINO) ELECTROLITICO (CATODICO O ANODICO); C) ACLARAR AL DE B) EN UN BAÑO DE ACLARADO (CALIENTE O FRIO); D) HACER PASAY AL DE C) A TRAVES DE (A), PARA DEPOSITAR A Y OBTENER EL PRODUCTO; Y E) SECAR CON AIRE CALIENTE AL PRODUCTO. SIENDO: UNA BANDA DE ACERO CON UNA ANCHURA ENTRE 600 Y 1.850 MM Y UN ESPESOR ENTRE 0,2 Y 3 M; UNA CAPA O ALEACION DE ZINC ON UN ESPESOR ENTRE 6 Y 30; REVESTIMIENTO FORMADO CON ZN, CR, MN, CO, FE O NI DE 0,5 A 7 G/M DE METAL; Y (A) BAÑO ELECTROLITICO EN SOLUCION CON CR, MN, ZN, CO, FE O NI.

"PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE CAPAS ABSORBEDORAS PARA INSTALACIONES SOLARES".

(16/04/1983). Solicitante/s: M.A.N. MASCHINENFABRIK AUGSBURG-NURNBERG AG Y RUHR,CHEMIE AG.

PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE CAPAS ABSORBEDORAS PARA INSTALACIONES SOLARES, POR DEPOSICION ELECTROQUIMICA. SE PRODUCE POR DEPOSICION DE METALES PESADOS, TALES COMO NIQUEL Y/O COBALTO, A PARTIR DE SOLUCIONES ACUOSAS DE CITRATOS. DICHOS CITRATOS SE PREPARAN DISOLVIENDO ACIDO CITRICO EN AGUA A ALREDEDOR DE 80 C Y SE LLEVA A REACCION CON LENTA ADICION DE UNA PAPILLA DE HIDROXIDO-CARBONATO DE COBALTO O DE NIQUEL EN AGUA A UNA TEMPERATURA DE 100 C, UTILIZANDOSE EL ACIDO CITRICO EN UNA CONCENTRACION DE 3 A 4 MOL/L Y EL HIDROXIDO-CARBONATO DE COBALTO O NIQUEL EN UNA CONCENTRACION DE 1 MOL/L DE AGUA.

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .