CIP 2015 : G03F 7/09 : caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes,

capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).

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Notas[t] desde G01 hasta G12: INSTRUMENTOS

G SECCION G — FISICA.

G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.

G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G).

G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

G03F 7/09 · · caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

Laminado de resina fotosensible y procesado térmico del mismo.

(06/03/2019) Un método de desarrollo de un blanco de impresión apto para fotocurado para producir un patrón en relieve que comprende una pluralidad de puntos en relieve, en el que el blanco de impresión apto para fotocurado comprende una capa de forro que tiene al menos una capa apta para fotocurado dispuesta sobre la misma, una capa de barrera dispuesta sobre la parte superior de la capa apta para fotocurado, y una capa de máscara apta para ablación con láser dispuesta sobre la parte superior de la capa de barrera, comprendiendo el método la etapa de: a) formar imágenes de al menos una capa apta para fotocurado por medio de ablación selectiva de la capa de máscara apta para ablación con láser con el fin de crear una imagen; b) exponer el blanco de impresión a radiación actínica a través de la capa de barrera y la capa de máscara a una o más fuentes de…

Una placa original de impresión flexográfica.

(06/09/2017). Solicitante/s: TOYOBO CO., LTD.. Inventor/es: YOSHIMOTO,KAZUYA, KAWAKAMI,TETSUMA, YAWATA,YUKIMI.

Una placa original de impresión flexográfica fotosensible y revelable por agua, en la que están estratificados sucesivamente al menos un miembro de soporte, una capa de resina fotosensible, una capa protectora y una capa de máscara, caracterizada porque, la capa protectora contiene: (A) alcohol polivinílico, (B) plastificante y (C) látex dispersable en agua en la siguiente proporción: alcohol polivinílico (A): 25 a 80 partes en peso plastificante (B): 15 a 60 partes en peso y látex dispersable en agua (C): 5 a 40 partes en peso, en la que la capa de resina fotosensible comprende un látex, un compuesto insaturado fotopolimerizable y un iniciador de fotopolimerización; y en el que el grado de saponificación del alcohol polivinílico (A) es del 60% al 90%.

PDF original: ES-2644548_T3.pdf

Plancha de impresión litográfica que comprende un sustrato laminado.

(21/09/2016). Solicitante/s: Mylan Group. Inventor/es: NGUYEN, MY, T., DANG,THUONG T, PHAN,KHAI N.

Una plancha de impresión litográfica laminada que comprende: una capa de aluminio que tiene un primer lado y un segundo lado, una primera capa de óxido de aluminio que recubre el primer lado de la capa de aluminio, una segunda capa de óxido de aluminio que recubre el segundo lado de la capa de aluminio, una capa de formación de imágenes que recubre la primera capa de óxido de aluminio, una capa adhesiva que se adhiere a dicha segunda capa de óxido de aluminio y una capa base que recubre la capa adhesiva, siendo la capa adhesiva accesible a e insoluble en tintas oleófilas y soluciones fuente acuosas alcalinas o ácidas utilizadas durante la impresión con la plancha de impresión, y reveladores acuosos alcalinos o ácidos utilizados durante el revelado de la plancha de impresión, y siendo la capa adhesiva una capa amoldable de adhesivo seco que tiene una dureza de 60 Shore-A o inferior, permitiendo de este modo la deslaminación de la plancha de impresión.

PDF original: ES-2608330_T3.pdf

Revestimiento antirreflexivo.

(17/08/2016). Solicitante/s: LEIBNIZ-INSTITUT FUR NEUE MATERIALIEN GEMEINNUTZIGE GMBH. Inventor/es: KONIG, PETER, DR., DE OLIVEIRA,PETER WILLIAM, CARVALHO MENEZES,ELISABETE HENRIQUETTA SOARES DE, JILAVI,MOHAMMAD.

Una composición para la producción de un revestimiento antirreflexivo, caracterizada por que la composición abarca los siguientes componentes a) por lo menos un compuesto de silano hidrolizable; b) por lo menos un compuesto metálico hidrolizable, pudiendo presentarse el compuesto también parcialmente hidrolizado y/o condensado; c) por lo menos un compuesto orgánico con por lo menos dos grupos de coordinación funcionales o unos compuestos precursores de éstos; y d) por lo menos un disolvente, pudiendo formar los componentes a), b) y c) por lo menos parcialmente un polímero de coordinación.

PDF original: ES-2603192_T3.pdf

Elemento de impresión flexográfica en donde puede realizarse la formación de imagen de forma digital y procedimiento para fabricar placas de impresión flexográfica.

(27/07/2016) Procedimiento para fabricar planchas de impresión flexográfica, en donde como material inicial se utiliza un elemento de impresión flexográfica fotopolimerizable en donde puede realizarse la formación de imagen de forma digital, el cual - dispuestos unos sobre otros en el orden indicado - comprende al menos (A) un soporte de dimensión estable, (B) al menos una capa que forma un relieve, soluble o dispersable en disolventes orgánicos, fotopolimerizable, con un grosor de la capa de 300 μm a 6000 μm, la cual comprende al menos un ligante elastomérico, un monómero etilénicamente insaturado, así como un fotoiniciador o un sistema de fotoiniciador, (C) una capa de barrera transparente para luz UVA, para oxígeno,…

Proceso para la fabricación de formas de impresión flexográfica.

(25/05/2016) Proceso de fabricación de formas de impresión flexográfica a partir de un elemento de impresión flexográfica que comprende al menos un soporte dimensionalmente estable, una capa fotopolimerizable y una capa de máscara que se puede extirpar por ablación con láser, que comprende al menos las etapas de: (i) la formación de imágenes de la capa de máscara que se puede extirpar por ablación con láser por medio de un láser de IR, obteniendo de este modo una máscara por encima de la capa fotopolimerizable, (ii) la exposición de la capa fotopolimerizable con luz UV a través de la máscara obtenida en el transcurso de la etapa (i) en presencia de oxígeno atmosférico, (iii) la retirada de partes no expuestas de la capa fotopolimerizable usando un disolvente de lavado…

Método de producción de una imagen en relieve.

(16/03/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: EASTMAN KODAK COMPANY. Inventor/es: BROWN, DAVID, ALI,M, FOHRENKAMM,ELSIE, HELLER,MICHAEL.

Un método de elaboración de una imagen en relieve, comprendiendo el método: (a) proporcionar una película que comprende un material capaz de formar imágenes dispuesto sobre una lámina portadora; (b) formar una imagen de máscara sobre la lámina portadora produciendo zonas expuestas y no expuestas del material capaz de formar imágenes, formando una máscara transferible; (c) poner la máscara transferible que tiene la imagen de máscara próxima a un material fotosensible y transferir la imagen de máscara al material fotosensible que es sensible a radiación curadora UV, de tal modo que el material capaz de formar imágenes se adhiera más al material fotosensible que a la lámina portadora; (d) exponer el material fotosensible a la radiación curadora UV a través de la imagen de máscara, formando un artículo con imagen, en el que la imagen de máscara es sustancialmente opaca a la radiación curadora UV; y (e) revelar el artículo con imagen, formando la imagen en relieve.

PDF original: ES-2569920_T3.pdf

Sustratos altamente reflectantes para el procesamiento digital de planchas de impresión de fotopolímero.

(09/03/2016). Solicitante/s: NAPP SYSTEMS INC. Inventor/es: ROBERTS,David H, HU,GEOFFREY YUXIN.

Un elemento de impresión en relieve capaz de formar imágenes digitales que comprende: a) un soporte; b) una capa reflectante, donde la capa reflectante es un imprimador que comprende pigmentos seleccionados del grupo que consiste en aluminio, mica, bismuto, y mezclas de los anteriores, dispersos en un imprimador y colocados sobre el soporte; c) al menos una capa fotocurable encima de dicha capa reflectante; y d) opcionalmente, una cubierta extraíble encima de dicha al menos una capa fotocurable; donde se obtiene la imagen de dicho elemento de impresión usando una fuente digital de radiación actínica.

PDF original: ES-2565233_T3.pdf

Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica.

(08/07/2013) Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica que comprende los pasos de : (a) proporcionar un precursor de plancha de impresión litográfica que comprende un soporte que tiene unasuperficie hidrófila o que está provisto con una capa hidrófila y un recubrimiento aplicado sobre dicho soporte,en el que dicho recubrimiento comprende (i) al menos una capa registradora de imagen que comprende unacomposición fotocurable que comprende un compuesto que es capaz de formar radicales libres durante unaexposición a modo de imagen y que se selecciona de entre un hexaarilbisimidazol o una sullona detrihalometilo, y (ii) una capa barrera de oxigeno aplicada sobre ella que comprende un pollmero soluble enagua o hinchable en agua, (b) exponer a modo de imagen dicho recubrimiento, (c) opcionalmente, calentar el precursor…

Precursor de plancha de impresión de fotopolímero.

(11/04/2012) Un precursor de plancha de impresión de fotopolímero que comprende, por orden, un recubrimiento fotosensible y un recubrimiento protector sobre un soporte, en el que dicho recubrimiento fotosensible comprende una composición que es fotopolimerizable por absorción de luz y que comprende un aglutinante, un compuesto polimerizable, un estabilizador de radicales, un sensibilizador y un fotoiniciador, que se caracteriza por el hecho de que dicho fotoiniciador es un compuesto de hexaarilbisimidazol y dicha capa protectora presenta un peso del recubrimiento seco de entre 0, 5 y menos de 2, 0 g/m2 y contiene al menos un tipo de alcohol polivinílico con un grado de saponificación inferior al 93% en moles y polivinilpirrolidona en una proporción de entre 0 y 10 partes por peso con respecto al…

PLACA DE IMPRESION CON IMAGENES DIGITALES SIN PROCESADO USANDO MICROESFERAS.

(01/05/2007). Solicitante/s: S. C. JOHNSON & SON, INC.. Inventor/es: SCHRAMM, HEATHER, R., WALTER, SCOTT, D., JAWORSKI, THOMAS, HELF, THOMAS, A., PORCHIA, JOSE, MARTENS, EDWARD, J., III, TOMKINS, DAVID, A..

Un método de preparación de una placa de impresión con imágenes digitales en relieve que comprende las etapas de: a) extruir una capa curable por UV que puede colapsarse que comprende (i) un elastómero curable por UV, (ii) un colorante de infrarrojo, y (iii) microesferas, entre una hoja de recubrimiento y una hoja de refuerzo para formar una placa de impresión; b) exponer la capa curable por UV que puede colapsarse a través de la hoja de refuerzo para establecer una capa de fondo; c) retirar la hoja de recubrimiento de la placa de impresión; d) usar un láser para colapsar y fundir porciones de la capa curable por UV que puede colapsarse para formar una imagen en relieve sobre la placa de impresión; y e) curar por UV dicha capa curable por UV por exposición superficial para reticular y curar dicha imagen formada en relieve.

PROCEDIMIENTO Y UNIDAD PARA PRODUCIR PLANCHAS DE IMPRESION.

(16/04/2006) Un sistema de producción de planchas de impresión fotopolimerizadas reticuladas, dicho sistema se caracteriza por: A) un primer y un segundo bancos enfrentados de luz UV para reticular selectivamente una capa (R) de una resina fotopolimerizada; B) una primera y una segunda planchas de soporte entre dichos primer y segundo bancos de luces para confinar la capa de resina durante la producción de una plancha de impresión; C) un primer negativo interpuesto entre la capa de resina y dicho primer banco, incluyendo dicho primer negativo porciones transparentes y porciones opacas , pudiéndose usar dichas porciones transparentes para definir superficies de impresión de resina reticulada sobre la plancha que se está formando y pudiéndose usar dichas porciones opacas para definir áreas en la plancha en las que la resina no se reticulará; y D)…

PLACA COMPRESIBLE PARA IMPRESION FLEXOGRAFICA Y PROCEDIMIENTO DE OBTENCION.

(01/05/2004). Solicitante/s: MACDERMID GRAPHIC ARTS S.A. Inventor/es: KUCZYNSKI, JERZY, SCHANEN, MICHEL, TEIXERA, LAURENT, RICH, GERARD, SERAIN, HUGUES.

Placa de impresión flexográfica compresible, destinada a posicionarse sobre un cilindro de soporte de una máquina de imprimir, comprendiendo esta placa una capa de fotopolímero y una capa compresible de un material que presenta huecos que forman entre el 10 y el 60% en volumen de esta capa compresible, incluyendo el material al menos el 70% en peso de un polímero o de una mezcla de polímeros que es químicamente compatible con el fotopolímero.

Ba|os para generacion de microestructuras.

(01/02/2001). Solicitante/s: CLONDIAG CHIP TECHNOLOGIES GMBH. Inventor/es: SCHULZ, TORSTEN, ERMANTRAUT, EUGEN, WOHLFART, KLAUS, KIHLER, JOHANN, MICHAEL.

LA INVENCION SE REFIERE A NUEVOS TIPOS DE BAÑOS PARA ELABORACION DE MICROESTRUCTURAS, QUE SON NECESARIA EN LOS CAMPOS MAS VARIADO DE APLICACION DE TECNICAS DE MICROSISTEMAS Y MICROESTRUCTURACION. LA INVENCION TIENE COMO OBJETIVO EL SUMINISTRAR NUEVOS TIPOS DE BAÑOS PARA LA ELABORACION DE MICROESTRUCTURAS QUE SUMINISTRAN UNA SOLUCION MAS ECONOMICA Y, SOBRE TODO, UNA SOLUCION MAS LIMPIA A LOS PROBLEMAS DE ELIMINACION QUE TIENEN TODOS LOS PROCEDIMIENTOS CONOCIDOS PREVIAMENTE PARA LA ELABORACION DE MICROESTRUCTURAS. ESTE OBJETIVO SE CONSIGUE DE TAL MODO QUE AL MENOS UN CATALIZADOR BIOGENICO (EN PARTICULAR, UNA ENZIMA) SE AÑADE AL BAÑO PARTICULAR QUE ACTUA SOBRE UNA PELICULA DELGADA PREVIAMENTE DETERMINADA.

REVESTIMIENTO ANTIRREFLECTANTE TERMOENDURECIBLE Y PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION.

(01/12/2000). Solicitante/s: FLAIM, TONY D. MEADOR, JIM D. SHAO, XIE BREWER, TERRY L. Inventor/es: FLAIM, TONY D., MEADOR, JIM D., SHAO, XIE, BREWER, TERRY L.

SE DESCRIBEN UN RECUBRIMIENTO ANTIREFLECTIVO TERMOESTABLE Y UN METODO PARA FABRICAR Y USAR EL MISMO EN UN AMPLIO RANGO DE LONGITUDES DE ONDA DE EXPOSICION, CONTENIENDO DICHO RECUBRIMIENTO UN CATALIZADOR DE CURADO ACTIVO, PUENTES ETER O ESTER DERIVADOS DE FUNCIONALIDAD EPOXI POR ENCIMA DE 2,0, UN OLIGOMERO DE FUNCIONALIDAD HIDROXILO ACOPLADO A COLORANTES, Y UN AGENTE RETICULANTE AMINOPLASTO ALQUILADO, PRESENTES TODOS EN UN SOLVENTE CON UN CONTENIDO EN ALCOHOL DE MEDIO A BAJO.

PROCESO PARA CIRCUITO INTEGRADO QUE UTILIZA UNA MASCARA DURA.

(01/11/1997). Solicitante/s: AT&T CORP.. Inventor/es: CUTHBERT, JOHN DAVID, FAVREAU, DAVID PAUL.

SE UTILIZA UNA CAPA DE CRISTAL COMO MASCARA DURA PARA DISEÑAR UNA CAPA SUBYACENTE DE POLISILICIO. EL POLISILICIO DISEÑADO PUEDE UTILIZARSE EN ESTRUCTURA DE PUERTAS DE TRANSISTORES DE EFECTO DE CAMPO.

MATERIAL DE IMPRENTA A BASE DE RESINA FOTOSENSIBLE.

(01/12/1994). Solicitante/s: NIPPON PAINT CO., LTD.. Inventor/es: UMEDA, YASUSHI.

UN MATERIAL DE IMPRENTA A BASE DE RESINA FOTOSENSIBLE EN FORMA DE LAMINA, QUE COMPRENDE, EN ORDEN SUCESIVO, UN SOPORTE, UNA CAPA DE RESINA FOTOSENSIBLE, UNA DELGADA CAPA DE UNA SUSTANCIA DE PESO MOLECULAR ELEVADO, QUE ES SOLUBLE O SUMERGIBLE EN UN DESARROLLANTE, UNA CAPA DE EMISION OPCIONAL, Y UNA HOJA O PELICULA DE LECHO PROTECTOR, QUE SE CARACTERIZA POR QUE SE INCLUYE EN DICHA CAPA DELGADA UN COLORANTE, EN UNA CANTIDAD DE 0,02 A 20% EN PESO DE LA SUSTANCIA DE PESO MOLECULAR ELEVADO. EL PRESENTE MATERIAL DE IMPRENTA ES ESPECIFICAMENTE EXCELENTE PARA RESOLUCION Y MUY MEJORADO CUANDO SE COMPARA CON EL MATERIAL DE IMPRENTA PROPUESTO HASTA AHORA RESPECTO DE LA MANIPULACION Y DE LAS PROPIEDADES DE INSPECCION VISUAL.

PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE ELEMENTOS DE GRABADO SENSIBLES A LA LUZ.

(16/12/1991) Procedimiento para la obtención de moldes de impresión o en relieve o plantillas rígidas mediante la irradiación según una imagen con luz actínica y revelado de un elemento de grabado sensible a la luz con (a) un soporte dimensionalmente estable, (b) una capa de grabado sensible a la luz sólida, aplicada sobre el soporte, así como, en caso dado, (c) una o varias capas intermedias entre el soporte y la capa de grabado sensible a la luz, conteniendo el elemento de grabado sensible a la luz en la capa de grabado sensible a la luz y/o en una capa intermedia presente en caso dado, un colorante, caracterizado porque como colorante está contenido un compuesto de la fórmula general (I) **formula** X significa un agrupamiento azo o…

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE DISPOSITIVOS SEMI-CONDUCTORES.

(01/07/1987). Solicitante/s: AMERICAN TELEPHONE AND TELEGRAPH COMPANY.

METODO DE FABRICAR DISPOSITIVOS SEMI-CONDUCTORES. CONSISTE EN MODELAR UN SUSTRATO CON UNA SUPERFICIE ESCALONADA MEDIANTE EL EMPLEO DE UNA CAPA PROTECTORA DE TRES NIVELES QUE INCLUYE UNA REGION DE PLANARIZACION QUE RESIDE POR ENCIMA DE LA SUPERFICIE , LA REGION DE SUSTITUTO DE DIOXIDO DE SILICIO QUE RESIDE POR ENCIMA DE LA REGION Y UNA REGION DE MATERIAL SENSIBLE A LA ENERGIA QUE RESIDE POR ENCIMA DE LA REGION ; INCLUYENDO: LA REGION UNA RESINA DE NOVOLACA QUE PUEDE DEPOSITARSE POR MEDIOS ROTATIVOS; Y LA REGION UNA CAPA PROTECTORA DE POLIMERO ORGANICO CONVENCIONAL. TIENE APLICACIONES EN EL CAMPO DE LA ELECTRONICA.

METODO DE FORMAR ORIFICIOS DE PASO A TRAVES DE UN RECUBRIMIENTO AISLANTE DIELECTRICO.

(01/08/1983). Solicitante/s: INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION.

METODO PARA FORMAR UN DIBUJO O MODELO DE ABERTURAS EN UNA CAPA DE UN SISTEME DE RESERVA POSITIVO. SE FORMA UNA CAPA DE UN SISTEMA DE RESERVA POSITIVO SENSIBILIZADO CON DIAZOBENZOFENONA SOBRE UN SUBSTRATO Y SE EXPONE A UN HAZ DE ELECTRONES EN UN DIBUJO O MODELO DE ABERTURAS PREDETERMINADO. LA RESERVA EXPUESTA SE REVELA EN UN MEDIO ALCALINO, A UNA TEMPERATURA DE 13 A 15 C, DETERMINANDOSE EL TIEMPO PARA COMPLETAR EL REVELADO DE UNA DE LAS ABERTURAS SOBRE UNA PORCION DE SUBSTRATO, CONTINUANDOSE EL REVELADO DE LA RESERVA DURANTE UN 10 A 100% MAS DE DICHO TIEMPO. SE CALIENTA EL DIBUJO DURANTE UN TIEMPO DE 20 A 60 MINUTOS, HASTA UNA TEMPERATURA FINAL DE 120 A 160 C Y SE SOMETE LA RESERVA A COCCION DURANTE UN TIEMPO DE 10 A 20 MINUTOS. EL RECUBRIMIENTO SE GRABA QUIMICAMENTE CON IONES REACTIVOS PARA FORMAR ORIFICIOS DE PASO EN PUNTOS PREVIAMENTE DETERMINADOS.

PROCEDIMIENTO DE FABRICACION DE CIRCUITOS INTEGRADOS UTILIZANDO PATRONES GRUESOS DE GRAN RESOLUCION.

(01/04/1980). Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY, INC..

Procedimiento de fabricación de circuitos integrados utilizando patrones gruesos de gran resolución especialmente para formar un modelo de gran resolución sobre una superficie de un cuerpo una capa relativamente delgada, mordentar de una forma selectiva la capa delgada para formar el modelo o patrón y utilizar la capa mordentada de una forma selectiva como máscara que formar el modelo en la superficie del cuerpo, caracterizado porque se interpone una capa relativamente gruesa entre la superficie del cuerpo y la capa relativamente delgada se utiliza la capa relativamente delgado como máscara para formar el modelo o patrón en la capa gruesa, de modo que el modelo quede definido por paredes prácticamente verticales, y se utiliza la capa relativamente gruesa como máscara para formar el modelo o patrón en la superficie del cuerpo.

PERFECCIONAMIENTOS INTRODUCIDOS EN ESTRUCTURAS COMPUESTAS DE FOTORESERVA PREVISTAS EN PARTICULAS PARA CUADROS DE CIRCUITOS IMPRESOS Y SIMILARES.

(01/12/1977). Solicitante/s: SHIPLEY COMPANY INC..

Resumen no disponible.

UN METODO MEJORADO DE FORMAR SELECTIVAMENTE UNA IMAGEN DE RESERVA EN REVESTIMIENTOS FOTOSENSIBLES.

(16/04/1977). Solicitante/s: SHIPLEY COMPANY INC..

Resumen no disponible.

 

Patentes más consultadas

 

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