CIP 2015 : C23C 14/06 : caracterizado por el material de revestimiento (C23C 14/04 tiene prioridad).

CIP2015CC23C23CC23C 14/00C23C 14/06[1] › caracterizado por el material de revestimiento (C23C 14/04 tiene prioridad).

Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA

C SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.

C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.

C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (aplicación de líquidos o de otros materiales fluidos sobre las superficies, en general B05; fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; mecanizado del metal por acción de una fuerte concentración de corriente eléctrica sobre un objeto por medio de un electrodo B23H; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; pinturas, barnices, lacas C09D; esmaltado o vidriado de metales C23D; medios para impedir la corrosión de materiales metálicos, las incrustaciones, en general C23F; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D, C25F; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04; detalles de aparatos de sonda de barrido, en general G01Q; fabricación de dispositivos semiconductores H01L; fabricación de circuitos impresos H05K).

C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento (tubos de descarga provistos de medios que permiten la introducción de objetos o de un material para ser expuestos a la descarga H01J 37/00).

C23C 14/06 · caracterizado por el material de revestimiento (C23C 14/04 tiene prioridad).

CIP2015: Invenciones publicadas en esta sección.

Procedimiento para la producción de un revestimiento ópticamente selectivo de un sustrato para dispositivos solares receptores de alta temperatura y material relativo obtenido.

(13/07/2016). Solicitante/s: ENI S.P.A.. Inventor/es: SPANO\', GUIDO, LAZZARI,CARLA, MARELLA,MARCELLO.

Un procedimiento para la producción de un revestimiento ópticamente selectivo de un sustrato receptor de material adecuado para receptores solares particularmente adecuados para funcionar a altas temperaturas que comprende: - deposición de una capa reflectante de radiación infrarroja que consiste en un metal de alto punto de fusión sobre dicho sustrato receptor caliente; - recocido bajo las mismas condiciones de temperatura y presión que en la deposición de la capa reflectante; - deposición sobre el metal de alto punto de fusión de una o más capas de materiales compuestos de cerámicametal (CERMET), en donde el metal es W y la matriz cerámica es YPSZ ("Zirconia Parcialmente Estabilizada con Itria"); - deposición sobre el cermet de una capa anti-reflexión; - recocido bajo las mismas condiciones de temperatura y presión que en las deposiciones de las capas de cermet y anti-reflexión.

PDF original: ES-2594331_T3.pdf

Procedimiento para la producción de capas de TIXSI1-xN.

(11/05/2016). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED, KURAPOV,DENIS.

Método para recubrir una pieza de trabajo con un recubrimiento que comprende por lo menos una capa de TixSi1-x N, en la cual x es ≤ 0,85 y en cuyo caso las capas de TixSi1-xN contienen nanocristales y los nanocristales contenidos tienen un tamaño medio de grano de no más de 15 nm, en donde x es la concentración Ti, que se expresa en % atómico, si sólo se toman los elementos metálicos en consideración, caracterizado por que, para la preparación de la capa de TixSi1-xN, se utiliza un método de pulverización catódica en el que por lo menos un objetivo de TixSi1-xN se utiliza como un objetivo de pulverización catódica; x ≤ 0,85 en % atómico; en la superficie del objetivo del objetivo de pulverización catódica, llega a densidades de corriente de por lo menos 0,2 A / cm2, preferiblemente superiores a 0,2 A/ cm210.

PDF original: ES-2630316_T3.pdf

Revestimiento solar selectivo mejorado de alta estabilidad térmica y proceso para su preparación.

(04/05/2016). Solicitante/s: COUNCIL OF SCIENTIFIC & INDUSTRIAL RESEARCH. Inventor/es: BARSHILIA,HARISH CHANDRA.

Revestimiento solar selectivo mejorado de alta estabilidad térmica, que comprende apilamientos tándem de capas consistentes en una capa intermedia de titanio Ti o cromo seguida por una primera capa absorbedora que comprende aluminio-nitruro de titanio AlTiN, una segunda capa absorbedora que comprende aluminio-oxinitruro de titanio AlTiON depositada sobre la primera capa absorbedora y una tercera capa antirreflectante que comprende aluminio-óxido de titanio AlTiO depositada sobre la segunda capa absorbedora.

PDF original: ES-2583766_T3.pdf

Procedimiento para la fabricación de capas decorativas de material duro por HIPIMS.

(04/05/2016). Solicitante/s: Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon. Inventor/es: KRASSNITZER,SIEGFRIED.

Procedimiento para el revestimiento al menos de zonas parciales de la superficie de un sustrato o para la fabricación de sustratos con una zona de superficie con una capa decorativa de material duro en una cámara de revestimiento, en el que para la fabricación de la capa de material duro se aplica un proceso reactivo HIPIMS, en el que se utiliza al menos un gas reactivo, y se usa al menos un objetivo de un material que puede reaccionar con el gas reactivo durante la realización del proceso HIPIMS, de manera que de este modo se produce un color de capa predeterminado, en el que el proceso HIPIMS se realiza usando pulsos de potencia y/o secuencias de pulsos de potencia con un contenido energético referido a la superficie objetivo de al menos 0,2 Joule/cm2 por pulso de potencia y/o por secuencia de pulsos de potencia , caracterizado por que el objetivo comprende titanio o titanio y aluminio o zirconio.

PDF original: ES-2636867_T3.pdf

Película protectora, miembro reflectante, y procedimiento de producción para película protectora.

(23/03/2016). Solicitante/s: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED. Inventor/es: OKADA, NAOKO, AOMINE,NOBUTAKA, HANEKAWA,HIROSHI, KAWAHARA,HIROTOMO.

Película protectora situada sobre una parte superior de una película metálica para proteger la película metálica que está situada sobre un sustrato de vidrio, comprendiendo la película protectora: una película de sílice; en la que la película de sílice tiene un coeficiente de extinción "k" menor o igual de 1 x 10-4 y un índice de refracción "n" menor o igual de 1,466 a una longitud de onda de 632 nm, y un contenido de carbono menor o igual de un 3 % atómico.

PDF original: ES-2658046_T3.pdf

Componente de válvula para grifo.

(27/01/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: VAPOR TECHNOLOGIES, INC. Inventor/es: WELTY, RICHARD P., BRONDUM,Klaus, Jonte,Patrick B, Richmond,Douglas S, Thomas,Kurt.

Un componente de válvula para un grifo, que comprende: un sustrato que comprende un material de base; una capa de refuerzo proporcionada por encima del sustrato en una cantidad suficiente para mejorar la resistencia a la abrasión del sustrato , y una capa que comprende diamante amorfo proporcionada por encima de la capa de refuerzo , teniendo el diamante amorfo un enlace sp3 de al menos 40 %, una dureza de al menos 45 GPa y un módulo elástico de al menos 400 GPa, caracterizado por que la capa de refuerzo comprende tantalio.

PDF original: ES-2562917_T3.pdf

Procedimiento para la producción de convertidores de neutrones.

(21/01/2016). Solicitante/s: Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum für Material- und Küstenforschung GmbH. Inventor/es: STÖRMER,MICHAEL, HORSTMANN,CHRISTIAN, NOWAK,GREGOR, KAMPMANN,REINHARD, HEDDE,JOHN.

Procedimiento para la producción de convertidores de neutrones, en el que un sustrato metálico transparente a los neutrones de aluminio o de una aleación de aluminio se pule mediante lijado fino en una primera etapa y, en una segunda etapa, se recubre con carburo de boro mediante pulverización catódica.

PDF original: ES-2599977_T3.pdf

Método para deposición de una capa sobre un filo de cuchilla de afeitar y cuchilla de afeitar.

(06/01/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: BIC VIOLEX S.A.. Inventor/es: PAPACHRISTOS,VASSILIS, KAROUSSIS,MICHALIS, PISSIMISSIS,DIMITRIS.

Un método para la deposición de una capa sobre un filo de cuchilla de afeitar de una cuchilla de afeitar, teniendo el filo de la cuchilla dos lados que convergen hacia una punta, comprendiendo dicha capa al menos dos componentes, en un recinto que comprende al menos un primer y segundo blancos de pulverización catódica, comprendiendo dichos blancos de pulverización catódica principalmente uno respectivo de dichos componentes a ser depositado en dicho filo y estando adaptados, durante la operación, para liberar dicho componente en el recinto, comprendiendo dicho método una etapa (a) en la que, con la operación de ambos blancos, la cuchilla de afeitar se mueve con relación a dicho primer y segundo blancos para pasar alternativamente en la proximidad de dicho blanco, con su punta dirigida hacia el blanco.

PDF original: ES-2565165_T3.pdf

Un revestimiento solar selectivo híbrido multicapa para aplicaciones solares térmicas a alta temperatura y un proceso para la preparación del mismo.

(16/12/2015). Solicitante/s: COUNCIL OF SCIENTIFIC AND INDUSTRIAL RESEARCH. Inventor/es: CHANDRA,HARISH BARSHILIA, BASU,JYOTHI BHARATHIBAI, VARA,LAKSHMI RAMACHANDRAPPA.

Un revestimiento solar selectivo híbrido multicapa que comprende una pila en tándem de capas que contienen una capa intermedia de cromo/titanio, una primera capa absorbente de aluminio-nitruro de titanio (AlTiN), una segunda capa absorbente de aluminio-oxinitruro de titanio (AlTiON), una capa antirreflectante de aluminio-óxido de titanio (AlTiO) y una capa barrera de sílice modificada orgánicamente (ormosil), en el que dicho revestimiento exhibe resistencia térmica hasta 500°C en aire y hasta 600°C en vacío con una relación de selectividad solar de 5 a 9.

PDF original: ES-2631680_T3.pdf

Miembro de herramienta de corte revestida.

(25/11/2015) Un miembro de herramientas de corte revestida cuya capa de revestimiento dura presenta una resistencia al desconchado superior durante una operación de corte a alta velocidad y severa, comprendiendo el miembro de herramienta de corte revestida: un sustrato duro; y una capa de revestimiento dura de un compuesto de nitruro que contiene Ti, Al y Zr, que se forma sobre una superficie del sustrato duro usando un método de deposición física en fase vapor a un espesor promedio global de 1 a 15 m, en el que la capa de revestimiento dura tiene un perfil de composición de componentes en el que los puntos que contienen Al máximo y los puntos…

Artículo revestido con revestimiento de baja emisividad que incluye oxinitruro de silicio circonio y métodos para realizar el mismo.

(17/11/2015) Un artículo revestido que incluye un revestimiento soportado por un sustrato de vidrio , revestimiento que comprende: una primera capa ; una capa reflectante de infrarrojos (IR) (9; 9') que comprende plata ubicada en el sustrato sobre al menos la primera capa ; una segunda capa ubicada en el sustrato y sobre al menos la capa reflectante de IR (9; 9') y la primera capa; y donde la primera capa y/o la segunda capa comprende oxinitruro de silicio-circonio, y donde el oxinitruro de silicio-circonio contiene más circonio que silicio, y el contenido de oxígeno de la capa que comprende oxinitruro de silicio-circonio…

Materiales luminiscentes que emiten luz en el intervalo visible o en el intervalo infrarrojo cercano.

(06/05/2015) Un material luminiscente que tiene la fórmula: [AaBbXx] [dopantes], en la que: A se selecciona entre potasio, rubidio y cesio; B es estaño; X es yodo; en donde el material incluye dopantes, y los dopantes se seleccionan entre oxígeno (O-2), flúor (F-1), cloro (Cl-1), bromo (Br-1), tiocianato (SCN-1), ortofosfato (PO4 -3), metafosfato (PO3 -1) y pirofosfato (P2O7 -4), y los dopantes están incluidos en el material luminiscente en una cantidad menor de un 5 por ciento en términos de composición elemental; a está en el intervalo de 1 a 9; b está en el intervalo de 1 a 5; y x está en el intervalo de 1 a 9.

Artículos con revestimiento de baja emisividad termotratables.

(22/04/2015) Un artículo revestido que comprende: un revestimiento proporcionado sobre un sustrato de vidrio , comprendiendo dicho revestimiento desde el sustrato de vidrio hacia fuera: a) al menos una capa dieléctrica ; b) una primera capa de contacto ; c) una primera capa reflectante de IR ; d) una segunda capa de contacto , dicha primera capa reflectante de IR estando en contacto con cada una de dicha primera y segunda capa de contacto; e) al menos una capa dieléctrica ; f) una tercera capa de contacto ; g) una segunda capa reflectante de IR ; h) una cuarta capa de contacto , dicha segunda capa reflectante de IR…

Deposición por arco catódico.

(17/12/2014) Método para depositar un recubrimiento de TiAlN sobre un sustrato de herramienta de corte usando un proceso de deposición por arco catódico y en particular un proceso de deposición por arco catódico de alta intensidad, comprendiendo dicho método los pasos de: - prever un sistema anódico y un blanco con forma de placa que formen una configuración de ánodo-cátodo para deposición por arco catódico dentro de una cámara de vacío, en donde dicho blanco con forma de placa comprende Ti y Al como elementos principales; - prever al menos un sustrato de herramienta de corte en la cámara de vacío que comprende nitrógeno como gas reactivo; y - generar un plasma mediante una descarga de arco visible como al menos un punto de arco en la superficie del blanco con forma de placa a base de…

Artículos recubiertos termotratables de baja emisividad calorífica y procedimientos de realización de los mismos.

(27/08/2014) Producto recubierto que comprende: un sistema de capas soportado por un sustrato de cristal, comprendiendo el sistema de capas desde el sustrato hacia el exterior: una capa de nitruro de silicio SixNy enriquecido con Si en la que x/y se encuentra comprendida entre 0, 76 y 1, 5 en por lo menos una parte de la capa; una primera capa de contacto; una capa reflectora de IR.

Artículo recubierto con color negro.

(18/12/2013) Un artículo recubierto que tiene un color negro que comprende un sustrato que tiene una superficie y que tienesobre al menos una porción de la superficie un recubrimiento en multi-capas que comprende, por orden: una primera capa de oxicarburo de un metal refractario que tiene un contenido de oxígeno y un contenido decarbono en donde el contenido de oxígeno es mayor que el contenido de carbono, una segunda capa de color encima de la primera capa de color, en donde la segunda capa de color comprende unacapa de oxicarburo de metal refractario que tiene un contenido de oxígeno y un contenido de carbono en donde…

Aparato para producir una lámina multicapa y procedimiento de producción de lámina multicapa.

(04/12/2013) Aparato para producir una lámina multicapa comprendiendo: una cámara de vacío que incluye, en un interior de la misma, un rodillo de alimentación para desenrollaruna película de resina de un rollo de película de resina, y un rodillo estirador para enrollar la película deresina desenrollada del rollo; medios de escape para expulsar la atmósfera en la cámara de vacío, por lo que el interior de la cámara devacío está en un estado de vacío; un primer rodillo dispuesto en la cámara de vacío, la película de resina desenrollada del rollo de la película deresina por el rodillo de alimentación estando enrollada en el primer rodillo de tal manera que una superficie de lapelícula de resina se orienta hacia el exterior, un segundo rodillo dispuesto en la cámara de vacío, la película de resina enviada desde el…

Miembro con revestimiento duro.

(23/10/2013) Un miembro con revestimiento duro, que comprende un revestimiento duro que comprende una capa más baja,un material laminar intermedio y una capa más alta sobre un sustrato , estando dicho material laminar intermedio constituido por capas A y capas B, que tienen diferentescomposiciones, alternativamente dispuestas en láminas, estando dichas capas A y dichas capas B hechas, respectivamente, de al menos un compuestoseleccionado del grupo consistente en nitruros, boruros, carburos y óxidos de componentes metálicos que tienencomposiciones representadas por la fórmula AlWCrXTiYSiZ, en la que W, X, Y, y Z representan, respectivamente los % en átomos de Al, Cr, Ti y Si, y Z >0, W + X + Y + Z ≥ 100, y estas combinaciones, dichas capas A satisfacen la condición…

Herramienta recubierta.

(21/10/2013) Herramienta constituida por un material base del grupo carburo cementado, cerrnet, material duro yacero para herramientas y un recubrimiento de dos o más capas con un espesor de recubrimiento total de 0,5 μm a15 μm, presentando una capa de recubrimiento un espesor de 0,0003 - 5,0 11m, caracterizado porque al menos unacapa de recubrimiento presenta la composición (Ti.AlbTa,)N con a + b + e ≥ 1, siendo 0,3≤ b ≤0,75; 0,001 ≤c ≤0,30 Y presentando al menos otra capa de recubrimiento la composición (Ti.,AI.Ta,Mg)N con d + e+f+g ≥ 1, siendo 0,50 ≤e ≤0,70; o ≤ f ≤0,25; Y siendo M uno…

Una estructura estratificada.

(21/10/2013) Una estructura estratificada que comprende - una primera capa intermedia, estando seleccionada dicha primera capa intermedia entre el grupo queconsiste en una capa de titanio, una capa de cromo, una capa de TiC, una capa de TiN, una capa de TicN, unacapa de CrN y una capa de Cr3C2. - una segunda capa intermedia depositada sobre la parte superior de dicha primera capa intermedia,comprendiendo dicha segunda capa intermedia una composición nanocompuesta de tipo diamante; - una capa de carbono de tipo diamante depositada sobre la parte superior de dicha segunda capa intermedia.

Aparato de deposición de vapor de un material sublimado y procedimiento correspondiente para una deposición continua de una capa de película delgada sobre un sustrato.

(22/08/2013) Un aparato para la deposición de vapor de una materia fuente sublimada en forma de una películadelgada sobre un sustrato de un módulo fotovoltaico (FV), comprendiendo dicho aparato: una cabeza de deposición; un receptáculo dispuesto en dicha cabeza de deposición, estando configurado dichoreceptáculo para la recepción de una materia fuente granular; un colector calentado de distribución dispuesto por debajo de dicho receptáculo , configuradodicho colector calentado de distribución para calentar dicho receptáculo hasta un gradosuficiente como para sublimar la materia fuente dentro de dicho receptáculo ; y, una placa de distribución que comprende más…

Revestimiento duro multicapas para herramientas.

(12/08/2013) Capa de material duro con estructura multicapas para el mejoramiento de la resistencia al desgaste de piezas de trabajo, comprendiendo: - al menos una capa (AlyCr1-y) X donde 0.2 ≤ y ≤ 0.7 y X es uno de los elementos siguientes N, C, B, CN, BN, CBN, NO, CO, BO, CNO, BNO, CBNO, pero preferentemente N o CN, y/o una capa de (TizSi1-z) X donde 0.99 ≥ z >0.7, caracterizada porque la capa de material duro comprende adicionalmente - al menos un paquete de capas con la estructura siguiente: una capa de mezcla de (AlCrTiSi) X seguida de otra capa de (TizSi1-z) X seguida de otra capa de mezcla de (AlCrTiSi) X seguida de otra capa de (AlyCr1-y) X.

Troquel de corte y método para fabricar el mismo.

(10/07/2013) Un troquel de corte que comprende un par de sustratos, que se usa para cortar un material de placa o de chapa dispuesto entre los mismos mediante el par de sustratos, donde por lo menos uno de los sustratos se compone de un acero, un carburo cementado o una cerámica, y dicho por lo menos uno de los sustratos comprende un borde de cuchilla que tiene forma de superficie curvada para cortar el material de placa o de chapa y una superficie que continúa a partir de la superficie curvada y que está orientada hacia una superficie del material de placa o de chapa, una película dura que se forma mediante un método de deposición…

Recubrimiento de artículos cerámicos vitrificados por el procedimiento pvd.

(21/06/2013) Un procedimiento para recubrir artículos cerámicos vitrificados con materiales a base de metales por la técnica dedeposición física en fase vapor (PVD), en el que después de situar en el ánodo los artículos cerámicos a recubrir,mientras que los materiales a base de metales son situados en el cátodo, en la cámara de vacío, el procedimientorespectivamente comprende las etapas de: evacuar el aire en la cámara de vacío en las fases primera y segunda; limpiar la superficie catódica por el plasma depositado en la cámara de vacío en la tercera fase; someter lasuperficie cerámica a un procedimiento de ataque químico por iones en las fases cuarta y quinta; recubrir de manerano reactiva la superficie cerámica mediante el plasma en la sexta fase; recubrir de manera reactiva la superficiecerámica mediante…

Procedimientos de deposición electroquímica de tasa elevada de un compuesto semiconductor sobre sustratos de gran superficie.

(09/04/2013) Un procedimiento de deposición electroquímica de finas películas sobre unos sustratos individuales,comprendiendo el procedimiento: la conducción de los sustratos individuales hasta el interior de una cámara de vacío para producir unapresión de deposición electroquímica inferior a 66,5 mbarios; y la conducción de los sustratos individuales hasta una cámara de deposición electroquímica y su pasopor un magnetrón plano que pulveriza en continuo un objetivo mediante un gas ionizado a la presiónde deposición electroquímica de manera que se forma una fina película sobre una superficie del sustrato individual, y en el que…

Herramientas de corte que comprenden rutenio recubierto por PVD.

(12/02/2013) Una herramienta de corte, que comprende: un sustrato de carburo cementado, donde el sustrato se compone de partículas duras yun aglutinante, y el aglutinante comprende rutenio y cobalto, en donde la concentraciónde rutenio en el aglutinante es del 10% al 15% en peso, y al menos un recubrimiento en al menos en una parte del sustrato, en donde elrecubrimiento tiene las características de un recubrimiento aplicado por deposiciónfísica de vapor.

Pieza de rozamiento en medio lubrificado que trabaja a presiones de contacto superiores a 200 MPa.

(26/09/2012). Solicitante/s: H.E.F. Inventor/es: MAURIN-PERRIER, PHILIPPE, MAZUYER,DENIS, LEDRAPPIER,Florent, MOURIER,LOUIS, DONNET,CHRISTOPHE, AUDOUARD,ERIC.

Pieza de rozamiento en medio lubrificado que trabaja a presiones de contacto superiores a 200 MPa y cuya superficie está texturada y sometida, antes o después de texturación, a un tratamiento de endurecimiento superficial con función tribológica, caracterizada porque dicha superficie presenta una red periódica de cavidades micrométricas, cuya longitud mayor está comprendida entre 5 y 500!m, y cuyo periodo es inferior a la mitad de la anchura de contacto, y la profundidad de dichas cavidades es inferior o igual a 3!m, con la finalidad de favorecer el paso a régimen de lubrificación elastohidrodinámica.

PDF original: ES-2393559_T3.pdf

Herramienta de fresado por generación con un revistimiento y procedimiento para el nuevo revestimiento de una herramienta de fresado por generación.

(01/08/2012) Herramienta de fresado por generación con un revestimiento, fabricándose el revestimiento mediante un procedimiento de deposición en fase gaseosa por proceso físico, en el que, en una cámara derevestimiento, se genera, en una atmósfera con contenido en nitrógeno, una descarga de arco voltaico en cada casoentre al menos un ánodo, por una parte, y al menos un cátodo de aluminio puro así como al menos un cátodo decromo puro, por otra parte, y, de este modo, se vaporizan el aluminio y el cromo procedente de los cátodos; en elque la herramienta de fresado por generación que ha de revestirse gira en la cámara de revestimiento,conduciéndose sucesivamente por delante de los al menos dos cátodos; y en el que el aluminio…

Revestimiento basado en plata resistente a la sulfuración, procedimiento de depósito y utilización.

(11/07/2012) Revestimiento en material basado en plata que comprende un apilamiento de una capa principal y de una película delgada oxidada , caracterizado porque la película delgada oxidada tiene un espesor comprendido entre 10 nm y 1 !my porque presenta un gradiente de concentración de plata decreciente desde la interfase entre la película delgada y la capa principal hasta la superficie libre (2a) de la película delgada .

Procedimiento de obtención de una superficie dura a escala nanométrica.

(13/06/2012) Procedimiento de formación de un revestimiento de un grosor inferior o igual a 200 nm y de unadureza superior o igual a 20 GPa, de un material de estructura nanocompuesta a base de titanio, de zirconio, deboro y de nitrógeno, sabre un soporte caracterizado porque comprende las siguientes etapas: a) depósito par pulverización catódica can magnetr6n de una capa de titanio, sabre al menos una superficiede un soporte a una presión parcial de argón de 1 Pa, b) depósito par pulverización catódica can magnetrón de una capa de nitruro de titanio, sabre la capa obtenida en la etapa a) mediante introducción de nitrógeno en el recinto de pulverización catódica mientras…

Procedimiento para el funcionamiento de una fuente de vaporización con arco pulsada así como instalación de procesamiento en vacío con fuente de vaporización con arco pulsada.

(16/05/2012) Instalación de procesamiento en vacío con una cámara de vacío para el tratamiento de la superficie de piezas con una fuente de vaporización con arco, que comprende un ánodo y un primer electrodo (5') configurado comoelectrodo de target, estando conectados este ánodo y este electrodo (5') con una fuente de alimentación concorriente continua y con un segundo electrodo dispuesto separado de la fuente de vaporización conarco y de la cámara de vacío, caracterizada porque los dos electrodos (5', 3, 18, 20, 22) están conectados con unafuente bipolar de corriente pulsada para la formación de una vía de descarga adicional.

HERRAMIENTA PARA ARRANCAR VIRUTAS CON UN COEFICIENTE DE ROZAMIENTO BAJO.

(15/03/2010) Herramienta para arrancar virutas, formada por un cuerpo base de un material del grupo de metales duros, cermets, materiales duros y aceros para herramientas, que está provista al menos en la zona superficial sometida a desgaste y rozamiento de una capa de material duro, que respecto al cuerpo base presenta una composición química diferente y que contiene al menos una fase de material duro del grupo de los óxidos, nitruros, carburos y boruros de los elementos Al, Ti, Zr y/o Hf, caracterizada porque en la capa de material duro está incorporado de forma finamente dispersada Ag, Cu y/o Au, siendo la temperatura de fusión o sol idus de Ag, Cu y/o Au o de las fases formadas al menos…

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