Depósito de cromo cristalino.

Un depósito de cromo funcional cristalino que tiene un parámetro de red de 2,

8895 ± 0,0025 Å, en el que el depósito de cromo funcional comprende carbono, nitrógeno y azufre en el depósito de cromo, en el que el depósito de cromo funcional comprende del 1 % en peso al 10 % en peso de azufre, del 0,1 % en peso al 5 % en peso de nitrógeno y del 0,1 % en peso al 10 % en peso de carbono.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2007/065345.

Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.

Nacionalidad solicitante: Alemania.

Dirección: Erasmusstraße 20 10553 Berlin ALEMANIA.

Inventor/es: BISHOP,CRAIG,V, ROUSSEAU,AGNES, MATHE,ZOLTAN.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C25D15/00 QUIMICA; METALURGIA.C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › Producción electrolítica o electroforética de revestimientos que contienen materiales incorporados, p. ej. partículas, laminillas, hilos.
  • C25D3/06 C25D […] › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › a partir de soluciones de cromo trivalente.
  • C25D3/10 C25D 3/00 […] › caracterizadas por los constituyentes orgánicos utilizados en el baño.
  • C25D5/18 C25D […] › C25D 5/00 Revestimientos electrolíticos caracterizados por el proceso; Pretratamiento o tratamiento posterior de las piezas. › Deposiciones utilizando corriente modulada, pulsante o invertida.

PDF original: ES-2669050_T3.pdf

 

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