Lámina de cobre para fabricar grafeno y método de fabricación de grafeno.

Lámina de cobre laminada en frío para producir grafeno, que incluye óxidos y sulfuros que tienen cada uno un diámetro de 0,

5 μm o más, que tienen un número total de 15/mm2 o menos medidos usando un microscopio electrónico de barrido,

y/o que incluye óxidos y sulfuros que tienen cada uno un diámetro de 0,5 μm o más, que tienen un número total de 100/mm2 o menos medidos para un área que tiene un área total de 3 mm2 dentro de una profundidad de 10 μm desde una superficie que es una sección transversal paralela a una dirección de laminación usando un microscopio electrónico de barrido,

en la que la lámina de cobre laminada en frío tiene un número de porciones dentadas que es de 20/mm2 o menos, contándose la porción dentada que tiene una profundidad ds de 1,5 μm o más; ds ≥ DS - DM; donde DM es la altura más baja midiendo una superficie de 1 mm2 usando un microscopio confocal y mediante cada perfil de altura de una parte granular rodeada por un contorno en la imagen bidimensional de la superficie obtenida, en la que la superficie de 1 mm2 se mide tras calentarse a 1000ºC durante 1 hora en una atmósfera que contiene el 20% en volumen o más de hidrógeno y el resto de argón, y DS es la altura más alta que se considera como referencia en un área de +- 25 μm a lo largo de una dirección en el plano y una dirección de laminación desde la posición de DM,

y/o la lámina de cobre laminada en frío que se ha calentado a 1000ºC durante 1 hora en una atmósfera que contiene el 20% en volumen o más de hidrógeno y el resto de argón, que tiene un número de porciones convexas que es de 100/mm2 o menos, contándose la porción convexa que tiene una altura dt de 1,5 μm o más; dt ≥ HM-HS; donde HM es la altura más alta midiendo una superficie de 1 mm2 usando un microscopio confocal y mediante cada perfil de altura de una parte granular rodeada por un contorno en la imagen bidimensional de la superficie obtenida, en la que la superficie de 1 mm2 se mide tras calentarse a 1000ºC durante 1 hora en una atmósfera que contiene el 20% en volumen o más de hidrógeno y el resto de argón, y HS es la altura más baja que se considera como referencia en un área de +- 25 μm en una dirección en el plano y una dirección de laminación desde la posición de HM.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2012/064077.

Solicitante: JX Nippon Mining & Metals Corporation.

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 6-3, Otemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8164 JAPON.

Inventor/es: CHIBA,YOSHIHIRO, YAMAJI,TATSUYA.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C01B31/02 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C01 QUIMICA INORGANICA.C01B ELEMENTOS NO METALICOS; SUS COMPUESTOS (procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para la preparación de elementos o de compuestos inorgánicos excepto anhídrido carbónico C12P 3/00; producción de elementos no metálicos o de compuestos inorgánicos por electrólisis o electroforesis C25B). › C01B 31/00 Carbono; Sus compuestos (C01B 21/00, C01B 23/00  tienen prioridad; percarbonatos C01B 15/10; negro de carbón C09C 1/48). › Preparación de carbono (por medio de sobrepresión, p. ej. para la formación de diamantes, B01J 3/06; por crecimiento de cristales C30B ); Purificación.

PDF original: ES-2628073_T3.pdf

 

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